[發(fā)明專利]基于規(guī)則的OPC方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711112632.7 | 申請日: | 2017-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN107831636B | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何大權(quán);趙寶燕 | 申請(專利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/36 | 分類號: | G03F1/36 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴廣志 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區(qū)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 規(guī)則 opc 方法 | ||
1.一種基于規(guī)則的OPC方法,包括:
步驟一、輸入初始圖形T0;
步驟二、選擇不作移動的圖形邊;其特征在于,還包括如下步驟:
步驟三、選擇規(guī)則二圖形邊,該圖形邊記為B2;
步驟四、選擇規(guī)則一圖形邊,該圖形邊記為B1;
步驟五、設(shè)定圖形邊移動規(guī)則一;
步驟六、根據(jù)圖形邊移動規(guī)則一移動圖形邊B1,得到的圖形記為T1;
步驟七、選擇圖形T1中與圖形邊B2的共邊,該共邊記為B21;
步驟八、設(shè)定圖形邊移動規(guī)則二;
步驟九、根據(jù)圖形邊移動規(guī)則二移動圖形邊B21;
步驟十、輸出圖形;
步驟二所述“不作移動的圖形邊”,是指初始圖形中不適用于既定規(guī)則的圖形邊;
步驟三所述“規(guī)則二圖形邊”,是指測量線寬或間距時使用偏置量會產(chǎn)生多余凹凸的圖形邊;
步驟四所述“規(guī)則一圖形邊”,是指初始圖形的所有圖形邊去除不作移動的圖形邊和規(guī)則二圖形邊后的圖形邊;
步驟五所述“圖形邊移動規(guī)則一”,是指測量線寬和間距時使用偏置量;
步驟八所述“圖形邊移動規(guī)則二”,是指測量線寬時不使用偏置量,或測量間距時不使用偏置量;
步驟九所述“根據(jù)圖形邊移動規(guī)則二移動圖形邊B21”,是指以圖形T1作為OPC待修正圖形,初始圖形T0作為測量圖形間距的參考圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于:該基于規(guī)則的OPC方法通過Calibre SVRF工具實現(xiàn)。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備
- 規(guī)則發(fā)現(xiàn)程序、規(guī)則發(fā)現(xiàn)處理和規(guī)則發(fā)現(xiàn)裝置
- 不規(guī)則瓶蓋
- 相關(guān)規(guī)則分析裝置以及相關(guān)規(guī)則分析方法
- 分析規(guī)則調(diào)整裝置、分析規(guī)則調(diào)整系統(tǒng)以及分析規(guī)則調(diào)整方法
- 規(guī)則抽取方法和規(guī)則抽取設(shè)備
- 終端規(guī)則引擎裝置、終端規(guī)則運行方法
- 布(規(guī)則)
- 規(guī)則呈現(xiàn)方法、存儲介質(zhì)和規(guī)則呈現(xiàn)裝置
- 可編寫規(guī)則配置模塊、規(guī)則生成系統(tǒng)、及規(guī)則管理平臺
- 不規(guī)則圍棋





