[發明專利]基于規則的OPC方法有效
| 申請號: | 201711112632.7 | 申請日: | 2017-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN107831636B | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發明(設計)人: | 何大權;趙寶燕 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/36 | 分類號: | G03F1/36 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴廣志 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 規則 opc 方法 | ||
1.一種基于規則的OPC方法,包括:
步驟一、輸入初始圖形T0;
步驟二、選擇不作移動的圖形邊;其特征在于,還包括如下步驟:
步驟三、選擇規則二圖形邊,該圖形邊記為B2;
步驟四、選擇規則一圖形邊,該圖形邊記為B1;
步驟五、設定圖形邊移動規則一;
步驟六、根據圖形邊移動規則一移動圖形邊B1,得到的圖形記為T1;
步驟七、選擇圖形T1中與圖形邊B2的共邊,該共邊記為B21;
步驟八、設定圖形邊移動規則二;
步驟九、根據圖形邊移動規則二移動圖形邊B21;
步驟十、輸出圖形;
步驟二所述“不作移動的圖形邊”,是指初始圖形中不適用于既定規則的圖形邊;
步驟三所述“規則二圖形邊”,是指測量線寬或間距時使用偏置量會產生多余凹凸的圖形邊;
步驟四所述“規則一圖形邊”,是指初始圖形的所有圖形邊去除不作移動的圖形邊和規則二圖形邊后的圖形邊;
步驟五所述“圖形邊移動規則一”,是指測量線寬和間距時使用偏置量;
步驟八所述“圖形邊移動規則二”,是指測量線寬時不使用偏置量,或測量間距時不使用偏置量;
步驟九所述“根據圖形邊移動規則二移動圖形邊B21”,是指以圖形T1作為OPC待修正圖形,初始圖形T0作為測量圖形間距的參考圖形。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于:該基于規則的OPC方法通過Calibre SVRF工具實現。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





