[發(fā)明專利]線圈盤座、線圈盤以及電磁烹飪器具

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711110307.7
• 申請(qǐng)日: 2017-11-09
• 公開（公告）號(hào): CN109769318A
• 公開（公告）日: 2019-05-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 易亮;任玉潔;蘇暢
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司
• 主分類號(hào): H05B6/42
• 分類號(hào): H05B6/42;H05B6/12
• 代理公司: 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287
• 代理人: 胡海國(guó)

1.一種線圈盤座，用于電磁烹飪器具，其特征在于，所述線圈盤座的上盤面具有線圈繞設(shè)區(qū)，所述線圈盤座的上盤面凸設(shè)有導(dǎo)流件，所述導(dǎo)流件鄰設(shè)于所述線圈繞設(shè)區(qū)。

2.如權(quán)利要求1所述的線圈盤座，其特征在于，所述導(dǎo)流件呈環(huán)形設(shè)置，且所述導(dǎo)流件所環(huán)設(shè)的區(qū)域內(nèi)至少有一所述線圈繞設(shè)區(qū)。

3.如權(quán)利要求2所述的線圈盤座，其特征在于，所述導(dǎo)流件的上端成形有橫截寬度朝上減縮的導(dǎo)流脊，所述導(dǎo)流脊具有朝向所述線圈盤座外緣的外導(dǎo)流面以及朝向所述導(dǎo)流件中心的內(nèi)導(dǎo)流面。

4.如權(quán)利要求3所述的線圈盤座，其特征在于，所述外導(dǎo)流面與水平面間的夾角設(shè)為α，所述內(nèi)導(dǎo)流面與水平面間的夾角設(shè)為β，處于所述導(dǎo)流件任一軸向截面內(nèi)的所述α和β不相等。

5.如權(quán)利要求3所述的線圈盤座，其特征在于，所述外導(dǎo)流面與水平面間的夾角設(shè)為α，所述內(nèi)導(dǎo)流面與水平面間的夾角設(shè)為β，所述α和β在所述導(dǎo)流件的周向方向上呈連續(xù)變化。

6.如權(quán)利要求5所述的線圈盤座，其特征在于，所述α和β在所述導(dǎo)流件的周向方向上均呈減小、增加交替變化，且在所述導(dǎo)流件的周向方向上，當(dāng)所述α增大時(shí)，所述β減小；當(dāng)所述α減小時(shí)，所述β增大。

7.如權(quán)利要求5所述的線圈盤座，其特征在于，

所述α的變化范圍為[2°，87°]，和/或

所述β的變化范圍為[2°，87°]。

8.如權(quán)利要求3至7任一項(xiàng)所述的線圈盤座，其特征在于，所述導(dǎo)流脊還具有由所述內(nèi)導(dǎo)流面與外導(dǎo)流面相交形成的脊線。

9.如權(quán)利要求8所述的線圈盤座，其特征在于，所述線圈繞設(shè)區(qū)設(shè)有多個(gè)，所述多個(gè)線圈繞設(shè)區(qū)包括成形于所述線圈盤座的上盤面中部的內(nèi)環(huán)線槽、及間隔環(huán)設(shè)于所述內(nèi)環(huán)線槽外側(cè)的外環(huán)線槽，所述導(dǎo)流件位于所述內(nèi)環(huán)線槽與所述外環(huán)線槽之間。

10.如權(quán)利要求9所述的線圈盤座，其特征在于，所述脊線的高度保持不變。

11.如權(quán)利要求10所述的線圈盤座，其特征在于，所述脊線高出所述內(nèi)環(huán)線槽的槽口1-3.5mm。

12.如權(quán)利要求10所述的線圈盤座，其特征在于，所述內(nèi)導(dǎo)流面底邊高度和所述外導(dǎo)流面底邊高度均保持不變，且所述內(nèi)導(dǎo)流面底邊與所述外導(dǎo)流面底邊處于不同高度。

13.一種線圈盤，用于電磁烹飪器具，其特征在于，所述線圈盤包括如權(quán)利要求1至12中任意一項(xiàng)所述的線圈盤座。

14.一種電磁烹飪器具，其特征在于，包括如權(quán)利要求13所述的線圈盤。