[發(fā)明專利]有源UHF射頻標(biāo)簽防碰撞測試裝置及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711099810.7 | 申請日: | 2017-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN107832814A | 公開(公告)日: | 2018-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 冀京秋;蔣亦青;余舒浩;邱落 | 申請(專利權(quán))人: | 中京復(fù)電(上海)電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K17/00 | 分類號: | G06K17/00 |
| 代理公司: | 上海諾衣知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31298 | 代理人: | 韓國輝 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有源 uhf 射頻 標(biāo)簽 碰撞 測試 裝置 方法 | ||
1.一種有源UHF射頻標(biāo)簽防碰撞測試裝置,其特征在于,包括一RFID標(biāo)簽讀寫器,及一待測試標(biāo)簽陣列,所述RFID標(biāo)簽讀寫器及所述待測試標(biāo)簽陣列設(shè)置于一電波暗室中,還包括一上位機(jī),設(shè)置于所述電波暗室外,并與所述RFID標(biāo)簽讀寫器信號連接。
2.如權(quán)利要求1所述的測試裝置,其特征在于,所述RFID標(biāo)簽讀寫器包括天線,所述天線正對所述待測試標(biāo)簽陣列中心,且與所述待測試標(biāo)簽陣列中心具有預(yù)定距離。
3.如權(quán)利要求2所述的測試裝置,其特征在于,所述預(yù)定距離為2米。
4.如權(quán)利要求1所述的測試裝置,其特征在于,所述待測試標(biāo)簽陣列中包括36枚待測試標(biāo)簽,兩枚所述待測試標(biāo)簽中心的橫向間距及縱向間距均為200mm。
5.如權(quán)利要求1所述的測試裝置,其特征在于,所述待測試標(biāo)簽陣列中包括36枚待測試標(biāo)簽,及36枚參考標(biāo)簽,所述待測試標(biāo)簽與所述參考標(biāo)簽相互間隔的設(shè)置,且中心的橫向間距及縱向間距均為200mm。
6.一種有源UHF射頻標(biāo)簽防碰撞測試方法,其特征在于,應(yīng)用如權(quán)利要求1-4中任一所述的有源UHF射頻標(biāo)簽防碰撞測試裝置,還包括以下步驟:
步驟1,所述上位機(jī)控制所述RFID標(biāo)簽讀寫器盤點(diǎn)所述待測試標(biāo)簽陣列;
步驟2,記錄所述RFID標(biāo)簽讀寫器盤點(diǎn)所用時間;
步驟3,盤點(diǎn)結(jié)束后記錄所述RFID標(biāo)簽讀寫器識別的所述待測試標(biāo)簽陣列中的待測試標(biāo)簽的數(shù)量;
步驟4,將待測試標(biāo)簽陣列中的待測試標(biāo)簽與相同數(shù)量的參考標(biāo)簽相互間隔的重新排列成待測試標(biāo)簽陣列;
步驟5,所述上位機(jī)控制所述RFID標(biāo)簽讀寫器盤點(diǎn)所述待測試標(biāo)簽陣列;
步驟6,記錄所述RFID標(biāo)簽讀寫器盤點(diǎn)所用時間;
步驟7,盤點(diǎn)結(jié)束后記錄所述RFID標(biāo)簽讀寫器識別的所述待測試標(biāo)簽陣列中的待測試標(biāo)簽的數(shù)量。
7.如權(quán)利要求6所述的測試方法,其特征在于,所述步驟2中的所述盤點(diǎn)時間為所述RFID標(biāo)簽讀寫器從發(fā)送第一次指令至盤點(diǎn)結(jié)束所用時間。
8.如權(quán)利要求6所述的測試方法,其特征在于,所述步驟6中的所述盤點(diǎn)時間為所述RFID標(biāo)簽讀寫器從發(fā)送第一次指令至盤點(diǎn)結(jié)束所用時間。
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