[發明專利]一種卡通風格光影渲染方法、裝置、設備及介質有效
| 申請號: | 201711090180.7 | 申請日: | 2017-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN107749077B | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發明(設計)人: | 蒙暢 | 申請(專利權)人: | 米哈游科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G06T15/50 | 分類號: | G06T15/50 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201802 上海市嘉*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 卡通 風格 光影 渲染 方法 裝置 設備 介質 | ||
1.一種卡通風格光影渲染方法,其特征在于,包括:
分別計算漫反射強度和高光強度;
對所述漫反射強度進行偏移,根據偏移之后的漫反射強度確定明暗區域;其中,所述對所述漫反射強度進行偏移,包括:使用Lightmap貼圖對漫反射強度進行偏移;
對所述高光強度進行偏移,根據偏移之后的高光強度確定高光區域;其中,所述對所述高光強度進行偏移,包括:使用Lightmap貼圖對高光強度進行偏移;所述Lightmap貼圖用于記錄漫反射強度和高光強度的偏移量;
合成所述明暗區域和所述高光區域,得到光影渲染圖。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,計算漫反射強度包括:
根據漫反射強度計算公式計算漫反射強度:Diffuse=L·N×0.5+0.5,其中Diffuse是漫反射強度,L是光照方向,N是待渲染平面的法線方向。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,計算高光強度包括:
根據高光強度計算公式計算高光強度:其中Specular是高光強度,L是光照方向,N待渲染平面的法線方向,V是攝像機方向,S是高光參數。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述漫反射強度進行偏移,根據偏移之后的漫反射強度確定明暗區域包括:
使用Lightmap貼圖R通道與頂點顏色的R通道的乘積對漫反射強度作偏移;
對偏移之后的漫反射強度進行二值化,得到明暗區域中的明部和暗部。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述高光強度進行偏移,根據偏移之后的高光強度確定高光區域包括:
使用Lightmap貼圖G通道與頂點顏色的G通道的乘積對所述高光強度作偏移;
對偏移之后的高光強度進行二值化,得到高光區域中的高光和非高光。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述合成所述明暗區域和所述高光區域,得到光影渲染圖包括:
確定明部和暗部的顏色;
在高光區域疊加上高光顏色,所述高光顏色由Lightmap貼圖B通道與材質指定的高光顏色的乘積;
根據明部、暗部及高光區域的顏色得到光影渲染圖。
7.一種卡通風格光影渲染裝置,其特征在于,包括:
強度計算模塊,用于分別計算漫反射強度和高光強度;
明暗區域確定模塊,用于對所述漫反射強度進行偏移,根據偏移之后的高光強度確定明暗區域;所述明暗區域確定模塊,具體用于:使用Lightmap貼圖對漫反射強度進行偏移;
高光區域確定模塊,用于對所述高光強度進行偏移,根據偏移之后的高光強度確定高光區域;所述高光區域確定模塊,具體用于:使用Lightmap貼圖的對高光強度進行偏移;所述Lightmap貼圖用于記錄漫反射強度和高光強度的偏移量;
光影渲染圖獲取模塊,用于合成所述明暗區域和所述高光區域,得到光影渲染圖。
8.根據權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述強度計算模塊具體用于:
根據漫反射強度計算公式計算漫反射強度:Diffuse=L·N×0.5+0.5,其中Diffuse是漫反射強度,L是光照方向,N是待渲染平面的法線方向。
9.一種設備,其特征在于,包括:
一個或多個處理器;
存儲裝置,用于存儲一個或多個程序,
當所述一個或多個程序被所述一個或多個處理器執行,使得所述一個或多個處理器實現如權利要求1-6中任一所述的卡通風格光影渲染方法。
10.一種計算機可讀存儲介質,其上存儲有計算機程序,其特征在于,該程序被處理器執行時實現如權利要求1-6任一所述的卡通風格光影渲染方法。
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