[發(fā)明專利]片材表面潔凈度測量方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711085968.9
• 申請日: 2017-11-07
• 公開（公告）號: CN109752389A
• 公開（公告）日: 2019-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 魏超鋒;鄧浩;李夢飛;張超;辛麗
• 申請（專利權(quán)）人: 隆基綠能科技股份有限公司
• 主分類號: G01N21/94
• 分類號: G01N21/94
• 代理公司: 西安弘理專利事務(wù)所 61214
• 代理人: 鐘歡

本發(fā)明公開的片材表面潔凈度測量方法，包括步驟：提供潔凈度測量裝置，其包括載物臺、滴液件和攝像頭，所述滴液件與所述載物臺相對設(shè)置，所述攝像頭位于所述載物臺的一側(cè)；提供具有待測表面的片材；將所述片材置于所述載物臺，使所述待測表面與所述滴液件相對，利用所述滴液件在所述待測表面施加至少一個液滴；利用所述攝像頭對所述至少一個液滴取相；以及根據(jù)所述至少一個液滴的成相，確定所述片材的待測表面的潔凈度。該測量方法可量化，能減少誤判，便于硅片表面質(zhì)量分級管控，降低不必要的后道工藝損失。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于硅材料加工技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種片材表面潔凈度測量方法。

背景技術(shù)

隨著世界經(jīng)濟的不斷發(fā)展，現(xiàn)代化建設(shè)對高效能源需求不斷增長。光伏發(fā)電作為綠色能源以及人類可持續(xù)發(fā)展的主要能源的一種，日益受到世界各國的重視并得到大力發(fā)展。晶硅材料作為一種常用的太陽能電池基底，市場需求也在不斷擴大。由晶硅片材制造太陽能電池片需要經(jīng)歷制絨工藝，以在硅片表面形成金字塔絨面陷光結(jié)構(gòu)。硅片表面臟污對制絨，尤其是堿性試劑制絨工藝的影響顯著。硅片表面有機物臟污的區(qū)域憎水性強，絨面生長緩慢，嚴重的還會導(dǎo)致制絨發(fā)白甚至絨面形成失敗。然而，現(xiàn)有的硅片表面潔凈度測量主要通過外觀目檢的方式，誤判現(xiàn)象時有發(fā)生；并且，由于摻雜了人為主觀因素、測量標準不一。因此，有必要提供一種測量硅片表面潔凈度的方法，做到量化評價，以便于硅片表面質(zhì)量分級管控，降低不必要的后道工藝損失。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種片材表面潔凈度測量方法，解決了現(xiàn)有的表面潔凈度測量容易誤判、難以量化分級的問題。

本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：片材表面潔凈度測量方法，包括步驟：

提供潔凈度測量裝置，其包括載物臺、滴液件和攝像頭，所述滴液件與所述載物臺相對設(shè)置，所述攝像頭位于所述載物臺的一側(cè)；

提供具有待測表面的片材；

將所述片材置于所述載物臺，使所述待測表面與所述滴液件相對，利用所述滴液件在所述待測表面施加至少一個液滴；

利用所述攝像頭對所述至少一個液滴取相；以及

根據(jù)所述至少一個液滴的成相，確定所述片材的待測表面的潔凈度。

具體地，根據(jù)所述至少一個液滴的成相，測量所述至少一個液滴的接觸角，分析所述至少一個液滴的接觸角測量結(jié)果，確定所述片材的待測表面的潔凈度。

事例性地，所述片材的待測表面為多邊形、且具有N個邊緣，利用所述滴液件在所述待測表面施加至少一個液滴時，在所述待測表面靠近所述N個邊緣處分別施加一個液滴。

進一步地，利用所述滴液件在所述待測表面施加至少一個液滴時，在所述待測表面的中心處施加一個液滴。

進一步地，根據(jù)所述至少一個液滴的接觸角平均值確定所述片材的待測表面的潔凈度等級。

事例性地，設(shè)置所述至少一個液滴的接觸角平均值界限A和B，其中A＜B，根據(jù)表面清潔度品質(zhì)從高到低、將所述片材依次分為I級、II級和III級，當(dāng)所述至少一個液滴的接觸角平均值＜A、該片材為I級；當(dāng)A≤所述至少一個液滴的接觸角平均值＜B、該片材為II級；當(dāng)至少一個液滴的接觸角平均值≥B、該片材為III級。

進一步地，當(dāng)所述至少一個液滴的接觸角平均值＜A時，若存在A≤某個液滴的接觸角值＜B的情況，則在該液滴附近取點重測，以確定是否將該片材降為II級；設(shè)接觸角平均值界限C＞B，當(dāng)A≤所述至少一個液滴的接觸角平均值＜B時，若存在B≤某個液滴的接觸角值＜C的情況，則在該液滴附近取點重測，以確定是否降為III級。