[發明專利]一種CdTe薄膜太陽能電池及其制作方法在審
| 申請號: | 201711079818.7 | 申請日: | 2017-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN107749432A | 公開(公告)日: | 2018-03-02 |
| 發明(設計)人: | 彭壽;馬立云;潘錦功;殷新建;文秋香 | 申請(專利權)人: | 成都中建材光電材料有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/073 | 分類號: | H01L31/073;H01L31/18 |
| 代理公司: | 成都市集智匯華知識產權代理事務所(普通合伙)51237 | 代理人: | 李華,溫黎娟 |
| 地址: | 610000 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 cdte 薄膜 太陽能電池 及其 制作方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種CdTe薄膜太陽能電池及其制作方法,屬于薄膜太陽能電池技術領域。
背景技術
隨著社會經濟的快速發展,環境污染與能源短缺已是人類生存面臨的重大考驗,尋找可替代的、清潔能源成為了解決危機的重要手段。在眾多新能源中,太陽能以其潔凈無污染,儲量豐富等優勢,成為了新能源的領頭軍。
太陽能的利用主要是制備太陽能電池,其中化合物薄膜太陽能電池作為第二代太陽能電池,具有成本低,易大規模生產,物化性能穩定,轉換效率高等優勢,成為了研究重點,且受到很多研究構和公司的關注。
CdTe禁帶寬度約1.5eV,其與太陽光譜匹配較好,研究發現2μm厚的薄膜對紫外-可見區域的太陽光的吸收轉換可達99%,是很好的吸光材料,制備工藝多,完全具備作為太陽能電池光吸收材料的條件。目前,實驗室里制備的基于CdTe薄膜電池的效率已超過22%,成為了太陽能電池行業的“新寵兒”。傳統的CdTe薄膜電池主要由導電玻璃襯底、CdS窗口層、CdTe吸收層以及金屬背電極層構成,該電池結構簡單,制備工藝也較為成熟。但是,對于此結構的電池,存在較大的弊端:電子-空穴分離后,由于受到傳輸速度的限制,使得載流子復合概率增加,造成損失,影響電池效率的進一步提高。
發明內容
有鑒于此,針對現有技術的不足,本發明提供一種CdTe薄膜太陽能電池及其制作方法,它是在傳統的CdTe薄膜電池中加入一層CuI空穴傳輸層,CuI作為一種p-型半導體材料,具有很好的空穴傳輸能力,能加快電池內部空穴的傳輸,降低復合,提高光電流,最終達到提高CdTe薄膜電池光電轉換效率的目的。
為解決以上技術問題,本發明的技術方案采用了一種CdTe薄膜太陽能電池,其結構自下至上依次包括襯底玻璃層、CdS窗口層、CdTe光吸收層、背接觸層和背電極層,其特征在于:所述CdTe光吸收層與背接觸層之間設置CuI空穴傳輸層;所述襯底玻璃層為FTO導電玻璃襯底,其材料為摻雜F元素的SnO2;背接觸層的材料為摻雜Cu的ZnTe;背電極層為Cu/Ni復合背電極層,其材料為Cu和Ni。
進一步的,所述FTO導電玻璃襯底上玻璃的厚度為2~2.5mm,導電膜的厚度為50~200nm。
進一步的,所述CdS窗口層的厚度為80~250nm,CdTe光吸收層的厚度為2.5~5μm。
進一步的,所述CuI空穴傳輸層的厚度為20~50nm。
進一步的,所述背接觸層的厚度為50~150nm,背電極層的厚度為200~400nm。
同時本發明還提供了一種CdTe薄膜太陽能電池的制作方法,它包括以下步驟:
(1)制備FTO導電玻璃:采用磁控濺射法在玻璃上沉積摻雜F的SnO2,在玻璃表面形成導電膜,玻璃的厚度為2~2.5mm,導電膜的厚度為50~200nm;
(2)在步驟(1)制得的FTO導電玻璃上采用近空間升華法沉積CdS形成CdS窗口層,蒸發源與襯底間的距離2-4mm;采用兩段式鍍膜,第一段蒸發源溫度500-550℃,襯底溫度460-480℃,鍍膜5-10s時間;第二段蒸發源溫度550-600℃,襯底溫度480-500℃,鍍膜時間5-15s,最終獲得的薄膜厚度為80-250nm,薄膜致密且均勻;
(3)在CdS窗口層上采用近空間升華法沉積CdTe形成CdTe光吸收層,蒸發源與襯底間的距離2-4mm,采用三段式鍍膜,第一段蒸發源溫度500-550℃,襯底溫度460-480℃,鍍膜時間1-2min;第二段蒸發源溫度550-600℃,襯底溫度480-500℃,鍍膜時間1-2min;第三段蒸發源溫度600-650℃,襯底溫度500-550℃,鍍膜時間1-3min,薄膜厚度2.5-5μm;
(4)在CdTe光吸收層上涂覆CdCl2甲醇溶液后進行退火處理,退火溫度380~450℃,退火時間15~30min;CdCl2退火處理提高了CdS/CdTe薄膜的均勻性與再結晶性,達到P型增強效果;
(5)在退火后的CdTe光吸收層上涂覆CuI溶液制備CuI空穴傳輸層;CuI溶液的濃度為0.05-0.3mol/L,制備方法為:室溫條件下(25±2℃),將二丙硫醚和氯苯按體積比vol=1~5:5~35混合后,將CuI溶解在此混合液中配置而成;
CuI空穴傳輸層的制備可采用以下兩種方法:
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





