[發(fā)明專利]一種CdTe薄膜太陽能電池及其制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711079818.7 | 申請日: | 2017-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN107749432A | 公開(公告)日: | 2018-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭壽;馬立云;潘錦功;殷新建;文秋香 | 申請(專利權(quán))人: | 成都中建材光電材料有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/073 | 分類號: | H01L31/073;H01L31/18 |
| 代理公司: | 成都市集智匯華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)51237 | 代理人: | 李華,溫黎娟 |
| 地址: | 610000 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 cdte 薄膜 太陽能電池 及其 制作方法 | ||
1.一種CdTe薄膜太陽能電池,其結(jié)構(gòu)自下至上依次包括襯底玻璃層、CdS窗口層、CdTe光吸收層、背接觸層和背電極層,其特征在于:所述CdTe光吸收層與背接觸層之間設(shè)置CuI空穴傳輸層;所述襯底玻璃層為FTO導(dǎo)電玻璃襯底,其材料為摻雜F元素的SnO2;背接觸層的材料為摻雜Cu的ZnTe;背電極層為Cu/Ni復(fù)合背電極層,其材料為Cu和Ni。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CdTe薄膜太陽能電池,其特征在于:所述FTO導(dǎo)電玻璃襯底上玻璃的厚度為2~2.5mm,導(dǎo)電膜的厚度為50~200nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CdTe薄膜太陽能電池,其特征在于:所述CdS窗口層的厚度為80~250nm,CdTe光吸收層的厚度為2.5~5μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CdTe薄膜太陽能電池,其特征在于:所述CuI空穴傳輸層的厚度為20~50nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CdTe薄膜太陽能電池,其特征在于:所述背接觸層的厚度為50~150nm,背電極層的厚度為200~400nm。
6.一種CdTe薄膜太陽能電池的制作方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)制備FTO導(dǎo)電玻璃:采用磁控濺射法在玻璃上沉積摻雜F的SnO2,在玻璃表面形成導(dǎo)電膜,玻璃的厚度為2~2.5mm,導(dǎo)電膜的厚度為50~200nm;
(2)在步驟(1)制得的FTO導(dǎo)電玻璃上采用近空間升華法沉積CdS形成CdS窗口層;
(3)在CdS窗口層上采用近空間升華法沉積CdTe形成CdTe光吸收層;
(4)在CdTe光吸收層上涂覆CdCl2甲醇溶液后進(jìn)行退火處理,退火溫度380~450℃,退火時間15~30min;
(5)在退火后的CdTe光吸收層上涂覆CuI溶液制備CuI空穴傳輸層;
(6)采用磁控濺射法在CuI空穴傳輸層上沉積摻雜Cu的ZnTe形成背接觸層;
(7)采用磁控濺射法在背接觸層上沉積Cu和Ni形成Cu/Ni復(fù)合背電極層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種CdTe薄膜太陽能電池的制作方法,其特征在于:所述步驟(2)CdS窗口層的制備采用近空間升華法,蒸發(fā)源與襯底間的距離2-4mm;采用兩段式鍍膜,第一段蒸發(fā)源溫度500-550℃,襯底溫度460-480℃,鍍膜5-10s時間;第二段蒸發(fā)源溫度550-600℃,襯底溫度480-500℃,鍍膜時間5-15s。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種CdTe薄膜太陽能電池的制作方法,其特征在于:所述步驟(3)CdTe光吸收層的制備采用近空間升華法,蒸發(fā)源與襯底間的距離2-4mm,采用三段式鍍膜,第一段蒸發(fā)源溫度500-550℃,襯底溫度460-480℃,鍍膜時間1-2min;第二段蒸發(fā)源溫度550-600℃,襯底溫度480-500℃,鍍膜時間1-2min;第三段蒸發(fā)源溫度600-650℃,襯底溫度500-550℃,鍍膜時間1-3min。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種CdTe薄膜太陽能電池的制作方法,其特征在于:所述步驟(5)中CuI溶液的濃度為0.05-0.3mol/L。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種CdTe薄膜太陽能電池的制作方法,其特征在于:所述步驟(5)中CuI空穴傳輸層的制備方法采用滾涂法或勻膠法。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





