[發(fā)明專(zhuān)利]二極管芯片酸洗設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711079083.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107658251A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 包劍波 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 重慶長(zhǎng)捷電子有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 深圳市興科達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司44260 | 代理人: | 賈慶 |
| 地址: | 409100 重慶*** | 國(guó)省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 二極管 芯片 酸洗 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及二極管生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及二極管芯片酸洗設(shè)備。
背景技術(shù)
二極管,是電子元件當(dāng)中,一種具有兩個(gè)電極的裝置,只允許電流由單一方向流過(guò)。二極管最普遍的功能就是只允許電流由單一方向通過(guò)(稱(chēng)為順向偏壓),反向時(shí)阻斷(稱(chēng)為逆向偏壓)。因此,二極管可以想成電子版的逆止閥。
在現(xiàn)有的軸向二極管的生產(chǎn)工藝,其工藝流程為:引線排向—芯片篩選—芯片裝填—焊接—酸洗—上膠—烘烤—塑封—后固化—電鍍—印字測(cè)試—外檢—包裝。但是在酸洗時(shí),需要酸的濃度和溫度恒定,常規(guī)的方法是將一定濃度和溫度的酸輸送到酸洗箱內(nèi),通過(guò)連接酸洗箱上的噴頭進(jìn)行噴灑酸洗,所述酸洗箱外表面設(shè)有保溫夾層,且?jiàn)A層內(nèi)設(shè)有保溫水,以達(dá)到對(duì)酸洗箱內(nèi)的酸進(jìn)行保溫,但是采用上述保溫方式的效果并不好,且酸對(duì)酸洗箱具有腐蝕作用,容易導(dǎo)致夾層內(nèi)的保溫水進(jìn)入到酸洗箱內(nèi)導(dǎo)致酸的濃度被稀釋?zhuān)虼耍捎谒岬臐舛缺幌♂屒覝囟炔环€(wěn)定,進(jìn)而導(dǎo)致二極管的酸洗達(dá)不到要求。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述不足,本發(fā)明的目的在于,提供一種二極管芯片酸洗設(shè)備,其通過(guò)溫控裝置的設(shè)置,可實(shí)時(shí)對(duì)酸洗箱內(nèi)進(jìn)行溫度監(jiān)測(cè)和制冷制熱,保持酸洗箱內(nèi)酸的溫度恒定,保證了二極管芯片酸洗質(zhì)量。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明所提供的技術(shù)方案是:
一種二極管芯片酸洗設(shè)備,包括工作倉(cāng)、酸洗箱、酸洗盤(pán)、溫控裝置、噴頭和控制器。所述酸洗箱和酸洗盤(pán)分布設(shè)置于所述工作倉(cāng)內(nèi),且所述酸洗盤(pán)通過(guò)設(shè)置于一側(cè)的氣缸推動(dòng),所述待酸洗二極管芯片裝設(shè)于所述酸洗盤(pán)上,所述溫控裝置包括制冷制熱盤(pán)管、壓縮外機(jī)和溫感器,所述制冷制熱盤(pán)管裝設(shè)于所述酸洗箱內(nèi)且與設(shè)置于工作倉(cāng)外的壓縮外機(jī)連接,所述溫感器設(shè)置于所述酸洗箱內(nèi)。所述噴頭設(shè)置于所述酸洗盤(pán)的一側(cè)且通過(guò)連接管連接于所述酸洗箱上,所述連接管上設(shè)有電磁閥。所述控制器裝設(shè)于所述工作倉(cāng)上且與所述溫控裝置和電磁閥電性連接控制。
優(yōu)選的,所述酸洗箱的外表面設(shè)有保溫夾層,且保溫夾層內(nèi)設(shè)有保溫材料。
優(yōu)選的,所述連接管上設(shè)有多個(gè)上述噴頭,且噴頭上設(shè)有開(kāi)關(guān),所述噴頭的噴口朝所述酸洗盤(pán)設(shè)置。
優(yōu)選的,所述工作倉(cāng)內(nèi)于所述酸洗盤(pán)的一側(cè)設(shè)有支撐柱,所述電磁閥和連接管分別設(shè)于支撐柱上。
優(yōu)選的,所述工作倉(cāng)的前端設(shè)有滑動(dòng)玻璃門(mén),當(dāng)對(duì)二極管芯片進(jìn)行沖洗時(shí)可起到防護(hù)作用,防止酸飛濺。
優(yōu)選的,所述酸洗盤(pán)的下方設(shè)有回收池,用于對(duì)二極管芯片沖洗的酸進(jìn)行回收。
優(yōu)選的,所述酸洗盤(pán)相互連接且呈鏤空結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選的,所述酸洗箱采用PP塑料板。
優(yōu)選的,所述工作倉(cāng)內(nèi)于所述酸洗盤(pán)的一側(cè)向上凸設(shè)有安裝臺(tái),所述酸洗箱裝設(shè)于所述安裝臺(tái)上。
本發(fā)明的有益效果為:
本發(fā)明二極管芯片酸洗設(shè)備通過(guò)制冷制熱盤(pán)管裝設(shè)于所述酸洗箱內(nèi)且與設(shè)置于工作倉(cāng)外的壓縮外機(jī)連接,并通過(guò)壓縮外機(jī)熱交換實(shí)現(xiàn)酸洗箱內(nèi)的制冷和制熱,保持酸洗箱內(nèi)酸的溫度在一定范圍內(nèi)恒定,且所述溫感器設(shè)置于所述酸洗箱內(nèi),用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)酸洗箱內(nèi)的溫度變化,因此,本發(fā)明采用上述結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)保證了酸洗箱內(nèi)酸的濃度和溫度的恒定,提高了二極管芯片的酸洗質(zhì)量。
下面結(jié)合附圖與實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。
附圖說(shuō)明
附圖是用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解,并且構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分,與下面的具體實(shí)施方式一起用于解釋本發(fā)明,但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。在附圖中:
圖1是本發(fā)明二極管芯片酸洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是圖1所示二極管芯片酸洗設(shè)備裝的酸洗箱的剖視圖。
圖中各附圖標(biāo)記說(shuō)明如下。
工作倉(cāng)—1、酸洗箱—2、保溫夾層—2a、酸洗盤(pán)—3、溫控裝置—4、制冷制熱盤(pán)管—4a、壓縮外機(jī)—4b、溫感器—4c、噴頭—5、開(kāi)關(guān)—5a、控制器—6、連接管—7、電磁閥—8、支撐柱—9、滑動(dòng)玻璃門(mén)—10、回收池—11、安裝臺(tái)—12。
具體實(shí)施方式
為詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果,以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳予說(shuō)明。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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