[發(fā)明專利]二極管芯片酸洗設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711079083.8
• 申請日: 2017-11-06
• 公開（公告）號: CN107658251A
• 公開（公告）日: 2018-02-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 包劍波
• 申請（專利權(quán)）人: 重慶長捷電子有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 深圳市興科達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司44260
• 代理人: 賈慶

1.一種二極管芯片酸洗設(shè)備，其特征在于：包括工作倉(1)、酸洗箱(2)、酸洗盤(3)、溫控裝置(4)、噴頭(5)和控制器(6)，所述酸洗箱(2)和酸洗盤(3)分布設(shè)置于所述工作倉(1)內(nèi)，且所述酸洗盤(3)通過設(shè)置于一側(cè)的氣缸推動，所述待酸洗二極管芯片裝設(shè)于所述酸洗盤(3)上，所述溫控裝置(4)包括制冷制熱盤管(4a)、壓縮外機(jī)(4b)和溫感器(4c)，所述制冷制熱盤管(4a)裝設(shè)于所述酸洗箱(2)內(nèi)且與設(shè)置于工作倉(1)外的壓縮外機(jī)(4b)連接，所述溫感器(4c)設(shè)置于所述酸洗箱(2)內(nèi)，所述噴頭(5)設(shè)置于所述酸洗盤(3)的一側(cè)且通過連接管(7)連接于所述酸洗箱(2)上，所述連接管(7)上設(shè)有電磁閥(8)，所述控制器(6)裝設(shè)于所述工作倉(1)上且與所述溫控裝置(4)和電磁閥(8)電性連接控制。

2.如權(quán)利要求1所述的二極管芯片酸洗設(shè)備，其特征在于：所述酸洗箱(2)的外表面設(shè)有保溫夾層(2a)，且保溫夾層(2a)內(nèi)設(shè)有保溫材料。

3.如權(quán)利要求1所述的二極管芯片酸洗設(shè)備，其特征在于：所述連接管(7)上設(shè)有多個上述噴頭(5)，且噴頭(5)上設(shè)有開關(guān)(5a)，所述噴頭(5)的噴口朝所述酸洗盤(3)設(shè)置。

4.如權(quán)利要求1所述的二極管芯片酸洗設(shè)備，其特征在于：所述工作倉(1)內(nèi)于所述酸洗盤(3)的一側(cè)設(shè)有支撐柱(9)，所述電磁閥(8)和連接管(7)分別設(shè)于支撐柱(9)上。

5.如權(quán)利要求1所述的二極管芯片酸洗設(shè)備，其特征在于：所述工作倉(1)的前端設(shè)有滑動玻璃門(10)，當(dāng)對二極管芯片進(jìn)行沖洗時可起到防護(hù)作用，防止酸飛濺。

6.如權(quán)利要求1所述的二極管芯片酸洗設(shè)備，其特征在于：所述酸洗盤(3)的下方設(shè)有回收池(11)，用于對二極管芯片沖洗的酸進(jìn)行回收。

7.如權(quán)利要求1所述的二極管芯片酸洗設(shè)備，其特征在于：所述酸洗盤(3)相互連接且呈鏤空結(jié)構(gòu)。

8.如權(quán)利要求1所述的二極管芯片酸洗設(shè)備，其特征在于：所述酸洗箱(2)采用PP塑料板。

9.如權(quán)利要求1所述的二極管芯片酸洗設(shè)備，其特征在于：所述工作倉(1)內(nèi)于所述酸洗盤(3)的一側(cè)向上凸設(shè)有安裝臺(12)，所述酸洗箱(2)裝設(shè)于所述安裝臺(2)上。