[發明專利]一種超大板面減反射玻璃及其制備方法

在審

• 申請號: 201711078723.3
• 申請日: 2017-11-06
• 公開（公告）號: CN107640910A
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 曹行輝
• 申請（專利權）人: 上海北玻玻璃技術工業有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34
• 代理公司: 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙)41120
• 代理人: 陳利超

技術領域

本發明涉及磁控濺射鍍膜玻璃應用于裝飾玻璃和建筑玻璃領域，尤其是涉及一種超大板面減反射玻璃及其制備方法。

背景技術

普通的減反射玻璃只能先鋼化后再鍍膜，其膜層不能經過高溫加熱，加熱后出現嚴重的脫膜現象，玻璃面顏色發生很大變化，所以板面比較小，而且遠距離運輸費用高、成本高。而這種超大板面減反射玻璃解決了以上問題。

發明內容

本發明的目的是為解決減反射玻璃板面小和不能鋼化使用的難題，提供一種超大板面減反射玻璃及其制備方法。

本發明為解決上述技術問題的不足，所采用的技術方案是：

一種超大板面減反射玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層附著在玻璃基片其中一側的外表面上，其特征在于：所述的鍍膜層包括自玻璃基片至空氣面依次貼合在一起設置的第一層氮化硅層、第二層氧化硅層、第三層氮化硅層和第四層氧化硅層，所述的第一層氮化硅層厚度為10-16納米、第二層氧化硅層厚度為10-20納米、第三層氮化硅層厚度為10-15納米、第四層氧化硅層厚度為100-120納米。

所述的第一層氮化硅層最佳厚度為14納米，第二層氧化硅層最佳厚度為15納米、第三層氮化硅層最佳厚度為12納米、第四層氧化硅層最佳厚度為110納米。

一種制備所述的一種超大板面減反射玻璃的方法，其特征在于：包括如下步驟：

步驟一、需配備一條內設有有分子泵、旋轉陰極、清洗機、硅鋁靶8根的磁控濺射鍍膜線，取用純度99.999%的氬氣、氧氣、氮氣各一瓶，且每個氣瓶上均配備氣體流量計，備用；

步驟二、調整步驟一中的鍍膜線真空度為3×10-6mbar，開始調試該鍍膜線，安裝常規鍍膜線的使用方法調整使其工作，此為常規技術不屬于本申請的重點，因此不做詳細描述，控制鍍膜線連續生產任意一種鍍膜產品持續三天時間，三天后繼續利用鍍膜線如果能夠生產其他鍍膜產品后，則該鍍膜線達到生產要求，因為本申請需要連續不間斷的完成多層結構的連續鍍膜，因此需要對鍍膜線的連續工作能力進行調試，備用；

步驟三、取鍍膜基片并放入步驟二中的鍍膜線內將鍍膜基片傳輸到鍍膜線中的清洗機內進行清洗，將清洗機清洗后的鍍膜基片傳輸進入鍍膜線中的鍍膜腔室內進行鍍膜處理，首先控制鍍膜腔室內鍍氮化硅的靶材，同時控制氣體流量計通入工作氣體氬氣和氮氣，且氬氣和氮氣比例為1:2-2:1，同時旋轉陰極接通中頻電源使用，開始第一次鍍膜在鍍膜基片上形成厚度為14納米的第一層氮化硅層；其次鍍膜線持續工作控制鍍膜腔室內鍍氧化硅的靶材，控制氣體流量計通入工作氣體氬氣和氧氣，且氬氣和氧氣比例為1:3-3:2，同時旋轉陰極接通中頻電源使用，開始第二次鍍膜在第一層氮化硅層上形成厚度為15納米的第二層氧化硅層；再次鍍膜線持續工作控制鍍膜腔室內鍍氮化硅的靶材，控制氣體流量計通入工作氣體氬氣和氮氣，且氬氣和氮氣比例為1:2-2:1，同時旋轉陰極接通中頻電源使用，開始第三次鍍膜在第二層氧化硅層上形成厚度為12納米的第三層氮化硅層，鍍膜線持續工作控制腔室內鍍氧化硅的靶材，控制氣體流量計通入工作氣體氬氣和氧氣，且氬氣和氧氣比例為1:3-3:2，同時旋轉陰極接通中頻電源使用，開始第四次鍍膜在第三層氮化硅層上形成厚度為110納米的第四層氧化硅層，鍍膜結束形成鍍膜產品；

步驟四、取步驟三中鍍膜產品進行可見光形成參數測量并與標準數據對比，符合要求后，超大板面減反射玻璃制備完成。

所述的清洗機內需配備盤刷、滾刷、去離子水和加熱器，其中去離子水電阻≥2MΩ，水溫控制在30～40℃之間。

所述的步驟三中的鍍膜基片為浮法原片，且鍍膜基片生產日期在15天以內，表面無油漬。

所述的步驟三中氬氣和氮氣最佳比例為1:1.5，氬氣和氧氣最佳比例為1：2。

本發明的有益效果是：本發明的鍍膜層耐高溫，經過時間長達500秒左右、溫度高達700℃的鋼化后，其膜層沒有被高溫燒壞，其表面光學性能與鋼化前一致。采用這種膜層結構進行優化，既能夠得到想要的光學性能，又能夠進行鋼化。其主要特點是氮化硅和氧化硅的耐熱性能，這兩種材料在高溫階段物理性能穩定，通過這種結構配比，膜層在高溫階段組織結構沒有發生變化，反而結合的更牢固，使得鋼化后的產品顏色與鋼化前基本一致，解決了超大板面的要求以及遠距離運輸的需求。

同時在鍍膜層處理過程中如果工作氣體比例不純，產品的顏色會達不到減反射的效果，有可能會發生可見光透光率低、反射高的現象，因此本發明中采用合理調配工作氣體的配比關系，進行鍍膜生產，同時合理設計各個膜層的厚度，從而構成了減反射膜層。