[發(fā)明專利]光掩模、其制造方法以及顯示裝置的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711075875.8
• 申請(qǐng)日: 2017-11-06
• 公開（公告）號(hào): CN108073033B
• 公開（公告）日: 2021-08-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小林周平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/38
• 分類號(hào): G03F1/38
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 黃綸偉;朱麗娟

提供光掩模、其制造方法以及顯示裝置的制造方法。抑制在對(duì)光掩模的轉(zhuǎn)印用圖案進(jìn)行了細(xì)微化、高密度化時(shí)容易產(chǎn)生的轉(zhuǎn)印像的角部的變圓。本發(fā)明的接近曝光用的光掩模在透明基板上具有用于轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的轉(zhuǎn)印用圖案。轉(zhuǎn)印用圖案包含：主圖案；輔助圖案，其與主圖案隔開地配置在主圖案具有的角部的附近。主圖案在透明基板上形成有第1透光控制膜，輔助圖案在透明基板上形成有第2透光控制膜，并且具有無(wú)法通過(guò)曝光而析像到被轉(zhuǎn)印體上的尺寸。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于制造電子設(shè)備、特別優(yōu)選用于平板顯示器(FPD)的制造的光掩模、接近曝光用光掩模的制造方法以及顯示裝置的制造方法。

背景技術(shù)

專利文獻(xiàn)1中記載了在通過(guò)使用了光掩模的接近曝光對(duì)構(gòu)成液晶顯示裝置(以下，也稱作“LCD”。)的濾色器的圖案進(jìn)行曝光時(shí)，使與光掩模的遮光部的角部對(duì)應(yīng)的圖案角部不變圓的光掩模。即，專利文獻(xiàn)1中記載了在使用負(fù)型光致抗蝕劑并通過(guò)接近曝光形成構(gòu)成濾色器的圖案時(shí)使用的光掩模中，以使其頂點(diǎn)與所述光掩模的遮光部的角部相接的方式設(shè)置多邊形的校正遮光圖案。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2008-76724號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

近年來(lái)，在包含液晶顯示裝置或有機(jī)EL顯示器的顯示器領(lǐng)域中，以便攜終端為代表的顯示設(shè)備的高精細(xì)化快速發(fā)展。此外，為了提高顯示器的畫質(zhì)或顯示性能，LCD的像素?cái)?shù)或者像素密度的增加傾向顯著。

圖1是示出現(xiàn)有的濾色器(以下，也稱作“CF”。)的圖案的一例的示意圖。在這里所示的圖案中，在1個(gè)像素1中排列有彼此形成相同形狀的3個(gè)子像素2。3個(gè)子像素2分別對(duì)應(yīng)于R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))的濾色器。子像素2以固定的間距規(guī)則地排列。各子像素2形成為長(zhǎng)方形。此外，各子像素2由多個(gè)較細(xì)的黑矩陣(以下，也稱作“BM”。)3劃分。多個(gè)黑矩陣3相互交叉地形成為格子狀。此外，具有上述3個(gè)顏色的子像素2的1個(gè)像素1按照固定的間距規(guī)則地排列，由此形成了反復(fù)圖案。

具有用于制造這樣的CF的轉(zhuǎn)印用圖案的光掩模為了根據(jù)市場(chǎng)的要求而對(duì)CF的設(shè)計(jì)進(jìn)行細(xì)微化，需要對(duì)圖案進(jìn)行細(xì)微化。但是，如果僅是單純地縮小光掩模具備的轉(zhuǎn)印用圖案的尺寸，則會(huì)產(chǎn)生以下的不良情況。

在CF的制造中，常常采用利用接近曝光方式的曝光裝置將光掩模具有的轉(zhuǎn)印用圖案曝光為負(fù)型類型的感光材料的方法。

這里，圖2的(a)例示用于制造圖1所示的已有的CF中使用的BM3的光掩模圖案4。而且，圖2的(b)示出為了制造更高精細(xì)的BM3而對(duì)上述的圖案4進(jìn)行了細(xì)微化而成的圖案5。這樣的圖案的細(xì)微化例如在使300ppi(pixel-per-inch)左右的CF轉(zhuǎn)換為超過(guò)400ppi的更細(xì)微的規(guī)格的狀況下變得必要。

在使用具有圖2的(b)的圖案5的光掩模對(duì)BM圖案進(jìn)行轉(zhuǎn)印來(lái)制造CF的情況下，理想的是能夠獲得圖3的(a)所示的CF的圖案6。但是，實(shí)質(zhì)上對(duì)這樣的圖案進(jìn)行轉(zhuǎn)印產(chǎn)生困難的情況不少。即，如果現(xiàn)實(shí)中利用被轉(zhuǎn)印的BM來(lái)制造CF，則產(chǎn)生如下的問(wèn)題：如圖3的(b)的圖案7那樣，各個(gè)子像素的角部變圓等發(fā)生圖案形狀變化的傾向變得顯著，并且BM的寬度無(wú)法充分細(xì)微化。這是因?yàn)椋诮咏毓鈺r(shí)，通過(guò)在光掩模與被轉(zhuǎn)印體之間的間隙(即接近間隔)中產(chǎn)生的衍射光形成復(fù)雜的光強(qiáng)度分布，在被轉(zhuǎn)印體上形成的轉(zhuǎn)印像未成為忠實(shí)地再現(xiàn)了掩模圖案的轉(zhuǎn)印像。

在該情況下，應(yīng)特別留意的內(nèi)容是確認(rèn)了如下的傾向：由于子像素(這里為長(zhǎng)方形)的角部變圓等發(fā)生形狀劣化(參照?qǐng)D3的(b)的A部)，BM的寬度也無(wú)法充分細(xì)微化(參照?qǐng)D3的(a)的B部和圖3的(b)的C部)，因此子像素的開口面積變小，CF的開口率減小。其結(jié)果，該傾向引起使LCD等的畫面的明亮度下降、或者使功耗增大的不良情況。