[發明專利]光掩模、其制造方法以及顯示裝置的制造方法

有效

• 申請號: 201711075875.8
• 申請日: 2017-11-06
• 公開（公告）號: CN108073033B
• 公開（公告）日: 2021-08-06
• 發明（設計）人: 小林周平
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G03F1/38
• 分類號: G03F1/38
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 黃綸偉;朱麗娟

1.一種接近曝光用的光掩模，其在透明基板上具有用于轉印到被轉印體上的轉印用圖案，其特征在于，

所述轉印用圖案包含：

規則性排列的多個主圖案；

輔助圖案，其與所述主圖案隔開地配置于所述主圖案分別具有的角部的附近；以及

縫隙部，其包圍所述主圖案和所述輔助圖案，

所述主圖案在所述透明基板上形成有第1透光控制膜，

所述輔助圖案在所述透明基板上形成有第2透光控制膜，并且具有無法通過曝光而析像到所述被轉印體上的尺寸，

所述縫隙部是所述透明基板露出而成的，并且具有：

帶狀的第1縫隙部，其具有寬度S1，在一個方向上延伸；以及

第2縫隙部，其具有寬度S2，與所述第1縫隙部交叉，

在所述第1縫隙部與所述第2縫隙部交叉的區域中，4個所述主圖案的所具有的4個角部相對，設用直線將所述4個角部的頂點連結起來而形成的四邊形為交叉區域時，以使得所述輔助圖案的重心位于所述交叉區域內的方式配置有所述輔助圖案，

所述第1透光控制膜由遮光膜構成，

所述第2透光控制膜由使曝光光的一部分透過的半透光膜構成。

2.根據權利要求1所述的光掩模，其中，

所述轉印用圖案包含規則性地反復排列有單位圖案的反復圖案。

3.根據權利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述輔助圖案具有點形狀或者線形狀，對于每一個所述主圖案配置有多個所述輔助圖案。

4.根據權利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述主圖案具有被相互平行的一對直線夾著的帶狀的區域。

5.根據權利要求1或2所述的光掩模，其中，

以所述輔助圖案被包含于所述交叉區域內的方式配置有所述輔助圖案。

6.根據權利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述第1透光控制膜和所述第2透光控制膜包含對彼此的蝕刻劑具有耐受性的材料。

7.根據權利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述第2透光控制膜對于所述光掩模的曝光中使用的曝光光的代表波長光具有透射率T2，0％≤T2≤60％。

8.根據權利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述第1透光控制膜是在所述第2透光控制膜上層疊了第3透光控制膜而成的。

9.一種接近曝光用光掩模的制造方法，該接近曝光用光掩模在透明基板上具有用于轉印到被轉印體上的轉印用圖案，其中，

所述轉印用圖案包含：

規則性排列的多個主圖案；

輔助圖案，其與所述主圖案隔開地配置在各個所述主圖案的附近，具有無法通過曝光而析像到所述被轉印體上的尺寸；以及

縫隙部，其包圍所述主圖案和所述輔助圖案，其中，

在該接近曝光用光掩模的制造方法中包含以下工序：

準備在所述透明基板上形成有第2透光控制膜、第3透光控制膜和抗蝕劑膜的光掩模坯體；

對所述抗蝕劑膜進行描繪和顯影，形成具有多種殘留膜厚度的抗蝕劑圖案；

將所述抗蝕劑圖案作為掩模，對所述第3透光控制膜和第2透光控制膜依次進行蝕刻；

對所述抗蝕劑圖案進行減膜以減少規定的厚度；以及

將減膜后的抗蝕劑圖案作為掩模，對新露出的所述第3透光控制膜進行蝕刻。