[發(fā)明專利]顯示基板的制造方法、顯示基板、顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711070639.7
• 申請日: 2017-11-03
• 公開（公告）號: CN107680497B
• 公開（公告）日: 2019-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高永益;董婉俐;馬宏偉
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G09F9/33
• 分類號: G09F9/33;C23C16/04
• 代理公司: 11138 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 滕一斌<國際申請>=<國際公布>=<進(jìn)入

本發(fā)明公開了一種顯示基板的制造方法、顯示基板、顯示面板和顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：在襯底基板上方設(shè)置掩模板，掩模板包括遮擋區(qū)域，遮擋區(qū)域在襯底基板上的正投影與襯底基板的翻折區(qū)域存在重疊；利用掩模板在襯底基板上形成具有開口的無機(jī)層圖案，開口在襯底基板上的正投影與襯底基板的翻折區(qū)域存在重疊。本發(fā)明通過掩模板直接遮擋襯底基板的翻折區(qū)域，再利用掩模板在襯底基板上形成無機(jī)層圖案，由于掩模板的遮擋，無機(jī)層圖案在翻折區(qū)域會存在一個開口，無需構(gòu)圖工藝即可去除無機(jī)層位于翻折區(qū)域的部分。解決了相關(guān)技術(shù)中過程較復(fù)雜，且耗時較長的問題。達(dá)到了能夠方便快捷的去除無機(jī)層位于翻折區(qū)域的部分的效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種顯示基板的制造方法、顯示基板、顯示面板和顯示裝置。

背景技術(shù)

窄邊框的顯示面板具有顯示區(qū)域比例(顯示面板的顯示面中顯示圖像的區(qū)域與顯示面的總面積的比例)大、顯示效果好和能夠提供給觀眾沉浸式的觀看體驗(yàn)等優(yōu)點(diǎn)。如圖1所示，為了實(shí)現(xiàn)顯示面板的窄邊框，需要將顯示面板位于外圍區(qū)(pad區(qū))12的部分從翻折區(qū)域11(翻折區(qū)域?yàn)轭A(yù)先設(shè)置的用于進(jìn)行翻折的區(qū)域)翻折至顯示面板10的非顯示面(顯示面A的另一面)。但由于顯示面板10的顯示基板中包括硬度較大的無機(jī)層，強(qiáng)行翻折可能損壞顯示面板，因而在進(jìn)行翻折操作之前，先將翻折區(qū)域11中的無機(jī)層去除。

目前的一種顯示基板的制造方法中，首先以化學(xué)氣相沉積(英文：Chemical VaporDeposition；簡稱：CVD)的方式形成無機(jī)層(形成無機(jī)層的過程可以包括：由噴口噴出反應(yīng)氣體，該反應(yīng)氣體在襯底基板上形成無機(jī)層)，之后通過構(gòu)圖工藝去除該無機(jī)層位于翻折區(qū)域的部分，以形成無機(jī)層圖案。依照上述方式能夠去除襯底基板上每個無機(jī)層位于翻折區(qū)域的部分。

在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)相關(guān)技術(shù)至少存在以下問題：上述方法需要通過構(gòu)圖工藝去除無機(jī)層位于翻折區(qū)域的部分，過程較為復(fù)雜，且耗時較長。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板的制造方法、顯示基板、顯示面板和顯示裝置，可以解決相關(guān)技術(shù)中需要通過構(gòu)圖工藝去除無機(jī)層位于翻折區(qū)域的部分，過程較為復(fù)雜，且耗時較長的問題。所述技術(shù)方案如下：

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的第一方面，提供了一種顯示面板的制造方法，所述方法包括：

在襯底基板上方設(shè)置掩模板，所述掩模板包括遮擋區(qū)域，所述遮擋區(qū)域在所述襯底基板上的正投影與所述襯底基板的翻折區(qū)域存在重疊；

利用所述掩模板在所述襯底基板上形成具有開口的無機(jī)層圖案，所述開口在所述襯底基板上的正投影與所述襯底基板的翻折區(qū)域存在重疊。

可選的，所述利用所述掩模板在所述襯底基板上形成具有開口的無機(jī)層圖案，包括：

以所述掩模板作為掩模，通過化學(xué)氣相沉積技術(shù)在所述襯底基板上形成具有開口的無機(jī)層圖案。

可選的，所述利用所述掩模板在所述襯底基板上形成具有開口的無機(jī)層圖案，包括：

利用所述掩模板在所述襯底基板上依次形成兩層或多層無機(jī)層圖案。

可選的，所述利用所述掩模板在所述襯底基板上依次形成兩層或多層無機(jī)層圖案，包括：

利用所述掩模板在所述襯底基板上形成第一無機(jī)層圖案；

減小掩模距離，所述掩模距離為所述掩模板與所述襯底基板之間的距離；

利用所述掩模板在所述襯底基板上形成第二無機(jī)層圖案。

可選的，所述減小掩模距離，包括：

根據(jù)所述第二無機(jī)層圖案上的所述開口的預(yù)設(shè)寬度減小所述掩模距離，所述預(yù)設(shè)寬度與所述掩模距離負(fù)相關(guān)，且所述預(yù)設(shè)寬度小于或等于所述遮擋區(qū)域的寬度。