[發明專利]顯示基板的制造方法、顯示基板、顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請號: 201711070639.7
• 申請日: 2017-11-03
• 公開（公告）號: CN107680497B
• 公開（公告）日: 2019-12-03
• 發明（設計）人: 高永益;董婉俐;馬宏偉
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G09F9/33
• 分類號: G09F9/33;C23C16/04
• 代理公司: 11138 北京三高永信知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 滕一斌<國際申請>=<國際公布>=<進入

1.一種顯示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在襯底基板上方設置掩模板，所述掩模板包括遮擋區域，所述遮擋區域在所述襯底基板上的正投影與所述襯底基板的翻折區域存在重疊,所述襯底基板的翻折區域為預先設置的用于進行翻折的區域；

利用所述掩模板在所述襯底基板上形成具有開口的無機層圖案，所述開口在所述襯底基板上的正投影與所述襯底基板的翻折區域存在重疊。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用所述掩模板在所述襯底基板上形成具有開口的無機層圖案，包括：

以所述掩模板作為掩模，通過化學氣相沉積技術在所述襯底基板上形成具有開口的無機層圖案。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述利用所述掩模板在所述襯底基板上形成具有開口的無機層圖案，包括：

利用所述掩模板在所述襯底基板上依次形成兩層或多層無機層圖案。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述利用所述掩模板在所述襯底基板上依次形成兩層或多層無機層圖案，包括：

利用所述掩模板在所述襯底基板上形成具有開口的第一無機層圖案；

減小掩模距離，所述掩模距離為所述掩模板與所述襯底基板之間的距離；

利用所述掩模板在所述襯底基板上形成具有開口的第二無機層圖案。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述減小掩模距離，包括：

根據所述第二無機層圖案上的開口的預設寬度減小所述掩模距離，所述預設寬度與所述掩模距離負相關，且所述預設寬度小于或等于所述遮擋區域的寬度。

6.根據權利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，還包括：

在所述掩模板和所述化學氣相沉積技術的反應氣體的噴口之間設置氣體擴散器。

7.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板為通過權利要求1至6任一所述方法制造的顯示基板，所述顯示基板包括襯底基板；

所述襯底基板上設置有具有開口的無機層圖案，所述無機層圖案是利用掩模板在所述襯底基板上形成的，所述開口在所述襯底基板上的正投影與所述襯底基板的翻折區域存在重疊，所述襯底基板的翻折區域為預先設置的用于進行翻折的區域。

8.根據權利要求7所述的顯示基板，其特征在于，所述無機層圖案包括設置在所述襯底基板上的具有開口的第一無機層圖案以及設置在所述第一無機層圖案遠離所述襯底基板一側的具有開口的第二無機層圖案，所述第二無機層圖案上的開口的寬度大于所述第一無機層圖案上的開口的寬度。

9.根據權利要求7或8所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板為有機發光二極管顯示面板中的顯示基板。

10.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括權利要求7至9任一所述的顯示基板。

11.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權利要求10所述的顯示面板。