[發明專利]一種處理盒的顯影檢測方法及處理盒

有效

• 申請號: 201711065278.7
• 申請日: 2017-11-02
• 公開（公告）號: CN108073063B
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: 劉金蓮;黃萬紅;容學宇
• 申請（專利權）人: 納思達股份有限公司
• 主分類號: G03G21/18
• 分類號: G03G21/18
• 代理公司: 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444
• 代理人: 王剛;龔敏

1.一種處理盒的顯影檢測方法，該處理盒可拆卸地安裝在電子成像裝置中，電子成像裝置包括發光元件和受光元件，所述處理盒包括第一透光元件和第二透光元件，其特征在于：

所述電子成像裝置通過發光元件發出檢測光至處理盒的第一透光元件，第一透光元件再將檢測光反射至第二透光元件，所述第二透光元件將檢測光引導至所述電子成像裝置的受光元件中，當受光元件沒有接收到檢測光或接收到的檢測光的光強度或光照時間低于預設值時，所述電子成像裝置識別所述處理盒，所述處理盒可與電子成像裝置進行顯影工作；

所述處理盒的顯影檢測方法包括如下步驟：

A.對所述處理盒的顯影單元表面進行涂覆顯影劑；

B.降低從第一透光元件反射至第二透光元件的檢測光的光強度或光照時間；

C.使所述處理盒與電子成像裝置進行顯影工作；

所述處理盒還包括拉動件和第三透光元件，所述受光元件包括第一受光元件，不同型號所述處理盒的所述第一透光元件與所述第三透光元件之間的距離不同；

測量所述第一受光元件接收所述第一透光元件反射的檢測光的時間，所述拉動件驅動所述處理盒相對于感光組件旋轉，測量所述第一受光元件接收所述第三透光元件反射的檢測光的時間，根據時間差識別所述處理盒的型號。

2.如權利要求1所述的處理盒的顯影檢測方法，其特征在于：還包括步驟D,恢復從第一透光元件反射至第二透光元件的檢測光的光強度或光照時間。

3.如權利要求1所述的處理盒的顯影檢測方法，其特征在于：還包括步驟E，對第二透光元件進行加貼或處理形成一光強度減弱層，降低第二透光元件反射發出的檢測光的光強度或光照時間；所述步驟E代替步驟B。

4.如權利要求3所述的處理盒的顯影檢測方法，其特征在于：還包括步驟F，恢復第二透光元件反射發出的檢測光的光強度或光照時間。

5.如權利要求1所述的處理盒的顯影檢測方法，其特征在于：在所述步驟A中，顯影劑的涂覆量為1克至5克之間。

6.一種處理盒，其特征在于，所述處理盒已經過上述權利要求1至5中的任一一種處理盒的顯影檢測方法檢測。

7.如權利要求6所述的處理盒，其特征在于：所述處理盒內沒有顯影劑。

8.如權利要求6或7所述的處理盒，其特征在于：所述處理盒上還設有一可拆卸地安裝在處理盒上的顯影劑載體倉，所述顯影劑載體倉內有顯影劑。

9.如權利要求8所述的處理盒，其特征在于：所述第二透光元件包括第一部件和第二部件，所述第二部件可相對于所述第一部件旋轉。

10.如權利要求8所述的處理盒，其特征在于：所述第一透光元件設有基座，所述基座設有可將一隔離片插置入內的孔。