[發(fā)明專利]一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711062677.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107819019A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭川;崔艷;張宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11243 | 代理人: | 黃燦,胡影 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置。
背景技術(shù)
目前,有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode,簡(jiǎn)稱OLED)顯示器件的分辨率不斷提高,像素密度不斷增大,因而如何在有限的基板空間內(nèi)放置更多的像素,是目前需要解決的技術(shù)問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置,能夠減少像素定義層在顯示基板上所占用的空間,留出更多的空間用于設(shè)置更多的子像素,以增加像素密度,提高分辨率,或者,留出更多的空間設(shè)置更多的驅(qū)動(dòng)電路元件,以提高顯示基板的驅(qū)動(dòng)性能。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供一種顯示基板,包括:
像素定義層和N種顏色的子像素,所述像素定義層定義出多個(gè)子像素區(qū)域,所述子像素設(shè)置在所述子像素區(qū)域內(nèi),所述像素定義層包括第一像素定義層和第二像素定義層,所述第二像素定義層的寬度小于所述第一像素定義層的寬度,所述第一像素定義層用于分隔相鄰的不同顏色的子像素,所述第二像素定義層用于分隔相鄰的相同顏色的子像素,其中,N為大于1的正整數(shù)。
優(yōu)選地,所述第二像素定義層的高度小于所述第一像素定義層的高度。
優(yōu)選地,所述第一像素定義層的寬度大于或等于10μm,高度大于或等于3μm,所述第二像素定義層的寬度為5~10μm,高度為1~3μm。
優(yōu)選地,所述顯示基板為有機(jī)發(fā)光二極管顯示基板。
優(yōu)選地,相鄰的相同顏色的至少兩個(gè)子像素對(duì)應(yīng)的發(fā)光層相連。
優(yōu)選地,相鄰的相同顏色的子像素對(duì)應(yīng)的發(fā)光層不相連。
本發(fā)明還提供一種顯示基板的制作方法,包括:
形成像素定義層,所述像素定義層包括第一像素定義層和第二像素定義層,所述第二像素定義層的寬度小于所述第一像素定義層的寬度;
在像素定義層定義的子像素區(qū)域內(nèi)形成N種顏色的子像素,其中,所述第一像素定義層用于分隔相鄰的不同顏色的子像素,所述第二像素定義層用于分隔相鄰的相同顏色的子像素,其中,N為大于1的正整數(shù)。
優(yōu)選地,所述第一像素定義層的寬度大于或等于10μm,高度大于或等于3μm,所述第二像素定義層的寬度為5~10μm,高度為1~3μm。
優(yōu)選地,所述形成包括第一像素定義層和第二像素定義層的像素定義層的步驟包括:
采用半色調(diào)或灰色調(diào)掩膜版,并通過(guò)曝光工藝形成第一像素定義層和第二像素定義層,其中,形成的第二像素定義層的高度小于所述第一像素定義層的高度。
優(yōu)選地,所述顯示基板為有機(jī)發(fā)光二極管顯示基板。
優(yōu)選地,所述在像素定義層定義的子像素區(qū)域內(nèi)形成N種顏色的子像素的步驟包括:
提供一蒸鍍掩膜版,所述掩膜版包括多個(gè)開(kāi)口區(qū),其中,所述顯示基板上的相鄰的相同顏色的至少兩個(gè)子像素對(duì)應(yīng)一所述開(kāi)口區(qū);
采用所述蒸鍍掩膜版,并通過(guò)蒸鍍工藝形成發(fā)光層,其中,相鄰的相同顏色的至少兩個(gè)子像素對(duì)應(yīng)的發(fā)光層相連。
優(yōu)選地,所述在像素定義層定義的子像素區(qū)域內(nèi)形成N種顏色的子像素的步驟包括:
提供一蒸鍍掩膜版,所述掩膜版包括多個(gè)開(kāi)口區(qū),其中,所述顯示基板上的相鄰的相同顏色的子像素對(duì)應(yīng)不同的開(kāi)口區(qū);
采用所述蒸鍍掩膜版,并通過(guò)蒸鍍工藝形成發(fā)光層,其中,相鄰的相同顏色的子像素對(duì)應(yīng)的發(fā)光層不相連。
本發(fā)明還提供一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置,包括上述顯示基板。
本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下:
本發(fā)明實(shí)施例中,減小用于分割相鄰的相同顏色的子像素的寬度,從而減少像素定義層在陣列基板上所占用的空間,留出更多的空間用于設(shè)置更多的子像素,以增加像素密度,提高分辨率,或者留出更多的空間用于設(shè)置更多的驅(qū)動(dòng)電路元件,以提高顯示基板的驅(qū)動(dòng)性能。
附圖說(shuō)明
為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案,下面將對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明實(shí)施例一的顯示基板的剖視圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例一的顯示基板的俯視圖;
圖3為本發(fā)明實(shí)施例二的顯示基板的剖視圖;
圖4為本發(fā)明實(shí)施例三的顯示基板的剖視圖;
圖5為本發(fā)明實(shí)施例四的顯示基板的剖視圖。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711062677.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





