[發明專利]一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 201711062677.8
• 申請日: 2017-11-02
• 公開（公告）號: CN107819019A
• 公開（公告）日: 2018-03-20
• 發明（設計）人: 彭川;崔艷;張宇
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司11243
• 代理人: 黃燦,胡影

1.一種顯示基板，其特征在于，包括：

像素定義層和N種顏色的子像素，所述像素定義層定義出多個子像素區域，所述子像素設置在所述子像素區域內，所述像素定義層包括第一像素定義層和第二像素定義層，所述第二像素定義層的寬度小于所述第一像素定義層的寬度，所述第一像素定義層用于分隔相鄰的不同顏色的子像素，所述第二像素定義層用于分隔相鄰的相同顏色的子像素，其中，N為大于1的正整數。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第二像素定義層的高度小于所述第一像素定義層的高度。

3.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一像素定義層的寬度大于或等于10μm，高度大于或等于3μm，所述第二像素定義層的寬度為5～10μm，高度為1～3μm。

4.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板為有機發光二極管顯示基板。

5.根據權利要求4所述的顯示基板，其特征在于，相鄰的相同顏色的至少兩個子像素對應的發光層相連。

6.根據權利要求4所述的顯示基板，其特征在于，相鄰的相同顏色的子像素對應的發光層不相連。

7.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括：

形成像素定義層，所述像素定義層包括第一像素定義層和第二像素定義層，所述第二像素定義層的寬度小于所述第一像素定義層的寬度；

在像素定義層定義的子像素區域內形成N種顏色的子像素，其中，所述第一像素定義層用于分隔相鄰的不同顏色的子像素，所述第二像素定義層用于分隔相鄰的相同顏色的子像素，其中，N為大于1的正整數。

8.根據權利要求7所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述第一像素定義層的寬度大于或等于10μm，高度大于或等于3μm，所述第二像素定義層的寬度為5～10μm，高度為1～3μm。

9.根據權利要求7所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述形成包括第一像素定義層和第二像素定義層的像素定義層的步驟包括：

采用半色調或灰色調掩膜版，并通過曝光工藝形成第一像素定義層和第二像素定義層，其中，形成的所述第二像素定義層的高度小于所述第一像素定義層的高度。

10.根據權利要求7所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述顯示基板為有機發光二極管顯示基板。

11.根據權利要求10所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述在像素定義層定義的子像素區域內形成N種顏色的子像素的步驟包括：

提供一蒸鍍掩膜版，所述掩膜版包括多個開口區，其中，所述顯示基板上的相鄰的相同顏色的至少兩個子像素對應一所述開口區；

采用所述蒸鍍掩膜版，并通過蒸鍍工藝形成發光層，其中，相鄰的相同顏色的至少兩個子像素對應的發光層相連。

12.根據權利要求10所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述在像素定義層定義的子像素區域內形成N種顏色的子像素的步驟包括：

提供一蒸鍍掩膜版，所述掩膜版包括多個開口區，其中，所述顯示基板上的相鄰的相同顏色的子像素對應不同的開口區；

采用所述蒸鍍掩膜版，并通過蒸鍍工藝形成發光層，其中，相鄰的相同顏色的子像素對應的發光層不相連。

13.一種有機發光二極管顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1-6任一項所述的顯示基板。