[發明專利]平衡質量裝置與光刻系統有效
| 申請號: | 201711060734.9 | 申請日: | 2017-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN109725498B | 公開(公告)日: | 2020-11-27 |
| 發明(設計)人: | 叢國棟;舒嫚 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平衡 質量 裝置 光刻 系統 | ||
本發明提供了一種平衡質量裝置與光刻系統,所述的裝置,包括:質量本體和緩沖結構,所述質量本體連接一曝光臺,所述緩沖結構連接于所述質量本體與整機框架之間;所述緩沖結構用于,在所述質量本體相對預設初始位置發生偏離時,為所述質量本體提供與所述偏離相抵觸的作用力,所述預設初始位置相對于所述整機框架的位置為固定的。利用緩沖結構的機械方式,相較于利用控制器和電機的方式,其成本較低。
技術領域
本發明涉及光刻領域,尤其涉及一種平衡質量裝置與光刻系統。
背景技術
光刻系統中,曝光臺加減速驅動時,會對基礎框架產生傾翻力。作用于基礎框架的傾翻力會使得框架產生較大的運動,該運動通過主動振動隔離系統傳遞至測量框架,會導致測量框架發生運動,而測量框架的運動將會干擾激光干涉儀等設備,最終影響工件臺、掩模臺和鏡面之間的誤差,從而導致套準精度(Overlay)和關鍵尺寸(CD,Criticaldimension)誤差加大。同時,硅片傳輸、掩模傳輸和照明單元的位置精度也會因為基礎框架運動而下降。
現有的相關技術中,可以利用平衡裝置降低甚至消除傾翻力的作用,具體的,平衡裝置可以包括質量本體、運動驅動裝置、防飄電機和控制器等,曝光臺通過運動驅動裝置連接于質量本體,曝光臺連接于運動驅動裝置的動子,運動驅動裝置的定子連接于質量本體,質量本體連接于基礎框架。
其中,曝光臺運動時,運動驅動裝置驅動動子及曝光臺運動,會因運動產生反作用力,從而帶來定子與質量本體的偏移,控制器可以主動通過防飄電機調整質量本體的位置,從而達到糾偏作用。此外,控制器還可以主動通過防飄電機控制質量本體在初始化時回歸初始位置。
然而,采用控制器主動控制防飄電機,從而調整質量本體位置的方案成本較大,也不易于控制。
發明內容
本發明提供了一種平衡質量裝置與光刻系統,以解決成本較大,且不易控制的問題。
根據本發明的第一方面,提供了一種平衡質量裝置,包括:質量本體和緩沖結構,所述質量本體連接一曝光臺,所述緩沖結構連接于所述質量本體與整機框架之間;
所述緩沖結構用于,在所述質量本體相對預設初始位置發生偏離時,為所述質量本體提供與所述偏離相抵觸的作用力,所述預設初始位置相對于所述整機框架的位置為固定的。
可選的,所述緩沖結構包括N個緩沖單元,所述N個緩沖單元分布于所述質量本體的外周,所述緩沖單元分別連接所述質量本體的外周與所述整機框架,其中,N為大于或等于2的整數。
可選的,所述質量本體的外周包括呈多邊形圍合的L個側面;所述緩沖單元對應連接于相鄰兩個所述側面的接合處,其中,L為大于或等于3的整數。
可選的,所述緩沖單元包括M個緩沖部件,其中,M為大于或等于1的整數;所述M個緩沖部件的第一端連接于對應的所述接合處,所述M個緩沖部件的第二端連接所述整機框架;
其中,若M大于或等于2,則:所述M個緩沖部件的分別沿不同方向設置,以在所述質量本體相對預設初始位置發生偏離時提供不同方向的作用力。
可選的,所述多邊形為矩形,且M為2,所述M個緩沖部件包括第一緩沖部件和第二緩沖部件;在所述質量本體處于所述預設初始位置時,所述第一緩沖部件沿第一方向設置,所述第二緩沖部件沿第二方向設置;所述第一方向為所述矩形的長度方向,所述第二方向為所述矩形的寬度方向。
可選的,所述多邊形為矩形,且M為1,在所述質量本體處于所述預設初始位置時,所述緩沖部件沿第三方向設置,所述第三方向與所述矩形的對角線方向,或者所述第三方向與所述矩形的長度方向或寬度方向的銳角夾角為45度。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海微電子裝備(集團)股份有限公司,未經上海微電子裝備(集團)股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711060734.9/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:運動臺移動機構、運動臺系統與光刻裝置
- 下一篇:缺陷檢測方法及缺陷檢測系統





