[發(fā)明專利]一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置

有效

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• 申請日: 2017-10-27
• 公開（公告）號: CN107768417B
• 公開（公告）日: 2020-04-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 余赟
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 深圳匯智容達(dá)專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44238
• 代理人: 孫威;潘中毅

本發(fā)明公開了一種顯示基板，包括：無機(jī)膜層；設(shè)置在無機(jī)膜層一側(cè)表面和四周側(cè)的基板膜層，其中：基板膜層將無機(jī)膜層局部包覆；設(shè)置在基板膜層上的薄膜晶體管、OLED層和封裝層。本發(fā)明還公開了一種顯示基板的制備方法，包括以下步驟：在載體基板上沉積無機(jī)膜層；在無機(jī)膜層上涂布基板膜層，基板膜層涂布在無機(jī)膜層的一側(cè)表面和四周側(cè)，將無機(jī)膜層局部包覆；在基板膜層上制備薄膜晶體管；在薄膜晶體管上制備OLED層；在OLED層上制備封裝層。本發(fā)明還公開了一種顯示裝置。實(shí)施本發(fā)明的顯示基板及其制備方法、顯示裝置，有效減小顯示基板的邊緣膜層厚度不均勻區(qū)域的范圍，提高基板使用面積的利用率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示基板制造領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術(shù)

塑料聚合物因具備質(zhì)量輕、可進(jìn)行大面積涂布、耐高溫、透明等優(yōu)點(diǎn)目前作為柔性顯示基板的制備材料廣泛應(yīng)用。

現(xiàn)有技術(shù)中顯示基板的制作過程通常為：在載體基板8上涂布基板膜層9，如圖2所示，為現(xiàn)有技術(shù)中顯示基板結(jié)構(gòu)一的示意圖。該結(jié)構(gòu)存在的技術(shù)問題是：由于液體流動產(chǎn)生的表面張力，基板膜層9在烘烤固化后在基板膜層9的邊緣區(qū)域會形成不均勻的膜層區(qū)域9a。例如：圖1中涂布基板膜層9的厚度為10μm左右時(shí)，不均勻的膜層區(qū)域9a的區(qū)域范圍H大概為3～5mm。

此外，當(dāng)涂布基板膜層9的厚度增加時(shí)，顯示基板結(jié)構(gòu)中不均勻的膜層區(qū)域9a的區(qū)域會增大，如圖2所示，為現(xiàn)有技術(shù)中顯示基板結(jié)構(gòu)二的示意圖。當(dāng)基板膜層9涂布厚度達(dá)到15～20μm時(shí)，不均勻的膜層區(qū)域9a的區(qū)域范圍T會增大到5～10mm。

綜上，現(xiàn)有基板的涂布方式會造成基板邊緣的膜層不均勻，存在基板有效利用面積減少的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置，有效減小顯示基板邊緣膜層厚度不均勻區(qū)域的范圍，提高基板使用面積的利用率。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種顯示基板，包括：無機(jī)膜層；設(shè)置在無機(jī)膜層一側(cè)表面和四周側(cè)的基板膜層，其中：基板膜層將無機(jī)膜層局部包覆；設(shè)置在基板膜層上的薄膜晶體管、OLED層和封裝層，無機(jī)膜層的邊界與基板膜層的邊界之間的距離范圍在3-10mm之間。

其中，無機(jī)膜層所使用材料的熱膨脹系數(shù)與基板膜層所使用材料的熱膨脹系數(shù)相同或相近。

其中，無機(jī)膜層的材料為硅或二氧化硅，基板膜層的材料為聚酰亞胺。

其中，無機(jī)膜層的厚度尺寸小于基板膜層的厚度尺寸，無機(jī)膜層的厚度為100-500nm。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明還公開了一種顯示基板的制備方法，包括以下步驟：在載體基板上沉積無機(jī)膜層；在無機(jī)膜層上涂布基板膜層，基板膜層涂布在無機(jī)膜層的一側(cè)表面和四周側(cè)，將無機(jī)膜層局部包覆，無機(jī)膜層的邊界與基板膜層的邊界之間的距離范圍在3-10mm之間；在基板膜層上制備薄膜晶體管；在薄膜晶體管上制備OLED層；在OLED層上制備封裝層。

其中，還包括：將載體基板剝離，形成顯示基板。

其中，沉積無機(jī)膜層的步驟中，述無機(jī)膜層的厚度為100-500nm；無機(jī)膜層所使用材料的熱膨脹系數(shù)與基板膜層所使用材料的熱膨脹系數(shù)相同或相近。

其中，在無機(jī)膜層上涂布基板膜層的步驟中，無機(jī)膜層的邊界與基板膜層的邊界之間的距離范圍在3-10mm之間。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明還公開了一種顯示裝置。

實(shí)施本發(fā)明所提供的顯示基板及其制備方法、顯示裝置，具有如下有益效果，在載體基板上沉積無機(jī)膜層；在無機(jī)膜層上涂布基板膜層，基板膜層涂布在無機(jī)膜層的一側(cè)表面和四周側(cè)，將無機(jī)膜層局部包覆，有效減小顯示基板的邊緣膜層厚度不均勻區(qū)域的范圍，提高基板使用面積的利用率。