[發明專利]一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201711056345.9
• 申請日: 2017-10-27
• 公開（公告）號: CN107768417B
• 公開（公告）日: 2020-04-14
• 發明（設計）人: 余赟
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 深圳匯智容達專利商標事務所(普通合伙) 44238
• 代理人: 孫威;潘中毅

1.一種顯示基板，其特征在于，包括：

無機膜層；

設置在所述無機膜層一側表面和四周側的基板膜層，其中：所述基板膜層將所述無機膜層局部包覆；

設置在所述基板膜層上的薄膜晶體管、OLED層和封裝層；所述無機膜層的邊界與所述基板膜層的邊界之間的距離范圍在3-10mm之間。

2.如權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述無機膜層所使用材料的熱膨脹系數與所述基板膜層所使用材料的熱膨脹系數相同或相近。

3.如權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述無機膜層的材料為硅或二氧化硅，所述基板膜層的材料為聚酰亞胺。

4.如權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述無機膜層的厚度尺寸小于所述基板膜層的厚度尺寸；

所述無機膜層的厚度為100-500nm。

5.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

在載體基板上沉積無機膜層；

在所述無機膜層上涂布基板膜層，所述基板膜層涂布在所述無機膜層的一側表面和四周側，將所述無機膜層局部包覆，所述無機膜層的邊界與所述基板膜層的邊界之間的距離范圍在3-10mm之間；

在所述基板膜層上制備薄膜晶體管；

在所述薄膜晶體管上制備OLED層；

在所述OLED層上制備封裝層。

6.如權利要求5所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，還包括：

將所述載體基板剝離，形成顯示基板。

7.如權利要求5或6所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，沉積所述無機膜層的步驟中，所 述無機膜層的厚度為100-500nm；

所述無機膜層所使用材料的熱膨脹系數與所述基板膜層所使用材料的熱膨脹系數相同或相近。

8.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括如權利要求1-4任一項所述的顯示基板。