[發明專利]一種巖彩基板及其底涂工藝

在審

• 申請號: 201711055168.2
• 申請日: 2017-11-01
• 公開（公告）號: CN107597523A
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發明（設計）人: 李炳興
• 申請（專利權）人: 蘇州普萊特環保新材料有限公司
• 主分類號: B05D3/00
• 分類號: B05D3/00;B05D3/02;B05D3/06;B05D5/06;B05D7/00
• 代理公司: 蘇州國誠專利代理有限公司32293
• 代理人: 韓鳳

技術領域

本發明涉及巖彩板生產領域，尤其涉及一種巖彩基板及其底涂工藝。

背景技術

巖彩板是一種裝飾板材，其具有良好的保溫隔熱功能，且板身輕巧?，F有的巖彩板生產過程中，首先需要對原始基板進行一系列的加工處理，以使其表面符合后續的加工需求。然而，現有的巖彩板的原始基板在加工工藝中，通常僅進行簡單的處理，且對巖彩板的原始基板的處理缺乏連續性。

因此，針對上述問題，本發明提出進一步的解決方案。

發明內容

本發明旨在提供一種巖彩基板及其底涂工藝，以克服現有技術中存在的不足。

為解決上述技術問題，本發明的技術方案是：

一種巖彩基板的底涂工藝，其包括如下步驟：

S1、提供需要進行底涂的巖彩基板；

S2、對提供的巖彩基板進行第一次表面拋光；

S3、對第一次表面拋光的巖彩基板進行第二次表面拋光；

S4、對所述巖彩基板進行uv漆滲透處理；

S5、對滲透處理之后的巖彩基板進行第一次干燥；

S6、對滲透處理之后的巖彩基板進行第二次干燥；

S7、待巖彩板基板表面完全干燥后，對巖彩板基板進行水性加固處理；

S8、對水性加固之后的巖彩板基板進行第三次干燥處理，待其完全干燥后，進行第一次底涂；

S9、對第一次底涂之后的巖彩板基板進行第四次流平干燥處理，待其完全干燥后，控制巖彩板基板進行換向，并對換向后的巖彩板基板進行第二次底涂；

S10、對第二次底涂之后的巖彩板基板進行烘干，并下料得到底涂的巖彩基板。

作為本發明的巖彩基板的底涂工藝的改進，通過上料機完成所述巖彩基板的上料。

作為本發明的巖彩基板的底涂工藝的改進，通過砂光機完成所述第一次表面拋光和第二次表面拋光。

作為本發明的巖彩基板的底涂工藝的改進，進行uv漆滲透處理時，uv滲透用量為60±5G/m²。

作為本發明的巖彩基板的底涂工藝的改進，所述第一、三、四次干燥為流平干燥，所述流平干燥的干燥溫度為60-70℃。

作為本發明的巖彩基板的底涂工藝的改進，所述第二次干燥為uv干燥，采用5燈uv干燥機進行uv干燥，所述5燈uv干燥機的干燥能量為1600-1700J。

作為本發明的巖彩基板的底涂工藝的改進，通過水性加固噴涂設備進行水性加固處理。

作為本發明的巖彩基板的底涂工藝的改進，通過底漆涂布機進行第一次底涂和第二次底涂。

作為本發明的巖彩基板的底涂工藝的改進，通過烘房進行對第二次底涂之后的巖彩板基板進行烘干，所述烘房的溫度為55-65℃。

為解決上述技術問題，本發明的另一技術方案是：

一種巖彩基板，其由如上所述的底涂工藝而獲得。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：本發明能夠對巖彩基板進行有效的加工處理，使其表面滿足后續的加工需求，同時，本發明還具有連續性好、加工效率高的優點。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

本發明的巖彩基板的底涂工藝包括如下步驟：

S1、提供需要進行底涂的巖彩基板。

其中，可提供適于巖彩基板上料的上料機完成巖彩基板的上料。

S2、對提供的巖彩基板進行第一次表面拋光。

S3、對第一次表面拋光的巖彩基板進行第二次表面拋光。

其中，所述第一次表面拋光與第二次表面拋光連續設置，二者可通過滾筒輸送機實現巖彩基板的輸送。在一個實施方式中，通過砂光機完成所述第一次表面拋光和第二次表面拋光。如此，通過所述第一次表面拋光與第二次表面拋光有利于后續uv漆滲透處理的進行。

S4、對所述巖彩基板進行uv漆滲透處理。

其中，通過uv漆滲透處理可實現拋光后的巖彩基板的表面孔洞的封閉。在一個實施方式中，采用uv漆滲透機對巖彩基板進行uv漆滲透處理，上述uv漆滲透機所使用的uv滲透漆的滲透用量可以為60±5G/m²。

S5、對滲透處理之后的巖彩基板進行第一次干燥。