[發(fā)明專利]一種巖彩基板及其底涂工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711055168.2 | 申請(qǐng)日： | 2017-11-01 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107597523A | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-01-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李炳興 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 蘇州普萊特環(huán)保新材料有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B05D3/00 | 分類號(hào)： | B05D3/00;B05D3/02;B05D3/06;B05D5/06;B05D7/00 |
| 代理公司： | 蘇州國(guó)誠(chéng)專利代理有限公司32293 | 代理人： | 韓鳳 |
| 地址： | 215236 江蘇省蘇*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 巖彩基板 及其 工藝 | ||
1.一種巖彩基板的底涂工藝，其特征在于，所述底涂工藝包括如下步驟：
S1、提供需要進(jìn)行底涂的巖彩基板；
S2、對(duì)提供的巖彩基板進(jìn)行第一次表面拋光；
S3、對(duì)第一次表面拋光的巖彩基板進(jìn)行第二次表面拋光；
S4、對(duì)所述巖彩基板進(jìn)行uv漆滲透處理；
S5、對(duì)滲透處理之后的巖彩基板進(jìn)行第一次干燥；
S6、對(duì)滲透處理之后的巖彩基板進(jìn)行第二次干燥；
S7、待巖彩板基板表面完全干燥后，對(duì)巖彩板基板進(jìn)行水性加固處理；
S8、對(duì)水性加固之后的巖彩板基板進(jìn)行第三次干燥處理，待其完全干燥后，進(jìn)行第一次底涂；
S9、對(duì)第一次底涂之后的巖彩板基板進(jìn)行第四次流平干燥處理，待其完全干燥后，控制巖彩板基板進(jìn)行換向，并對(duì)換向后的巖彩板基板進(jìn)行第二次底涂；
S10、對(duì)第二次底涂之后的巖彩板基板進(jìn)行烘干，并下料得到底涂的巖彩基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的巖彩基板的底涂工藝，其特征在于，通過(guò)上料機(jī)完成所述巖彩基板的上料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的巖彩基板的底涂工藝，其特征在于，通過(guò)砂光機(jī)完成所述第一次表面拋光和第二次表面拋光。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的巖彩基板的底涂工藝，其特征在于，進(jìn)行uv漆滲透處理時(shí)，uv滲透用量為60±5G/m2。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的巖彩基板的底涂工藝，其特征在于，所述第一、三、四次干燥為流平干燥，所述流平干燥的干燥溫度為60-70℃。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的巖彩基板的底涂工藝，其特征在于，所述第二次干燥為uv干燥，采用5燈uv干燥機(jī)進(jìn)行uv干燥，所述5燈uv干燥機(jī)的干燥能量為1600-1700J。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的巖彩基板的底涂工藝，其特征在于，通過(guò)水性加固噴涂設(shè)備進(jìn)行水性加固處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的巖彩基板的底涂工藝，其特征在于，通過(guò)底漆涂布機(jī)進(jìn)行第一次底涂和第二次底涂。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的巖彩基板的底涂工藝，其特征在于，通過(guò)烘房進(jìn)行對(duì)第二次底涂之后的巖彩板基板進(jìn)行烘干，所述烘房的溫度為55-65℃。
10.一種巖彩基板，其特征在于，所述巖彩基板由權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的底涂工藝而獲得。
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