[發明專利]鋁箔、使用了它的電子部件布線基板、以及鋁箔的制造方法有效
| 申請號: | 201711051851.9 | 申請日: | 2015-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN107805744B | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發明(設計)人: | 秋山聰太郎;西尾佳高 | 申請(專利權)人: | 東洋鋁株式會社 |
| 主分類號: | C22C21/00 | 分類號: | C22C21/00;C22F1/04;C22C1/02 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鋁箔 使用 電子 部件 布線 以及 制造 方法 | ||
1.一種鋁箔,是含有Sn及Bi的至少一者的鋁箔,
在所述鋁箔中,相對于所述鋁箔的總質量的Sn與Bi的合計質量的比例為0.0075質量%以上且15質量%以下,剩余部分為鋁,并且
在所述鋁箔中,相對于所述鋁箔的總表面積的Sn與Bi的合計表面積的比例為0.01%以上且65%以下,并且所述合計表面積的比例為相對于Al的體積的Sn與Bi的合計體積的比例的5倍以上,
所述剩余部分的鋁為包含99.0質量%以上的Al的純鋁、以及包含小于99.0質量%的Al和1.0質量%以上的添加元素的鋁合金中的任一者,
所述添加元素為Cu,且所述添加元素的上限值為2.0質量%,
所述鋁箔被調質處理為JIS-H0001中規定的O到1/4H的范圍。
2.一種鋁箔,是含有Sn及Bi的至少一者的鋁箔,
在所述鋁箔中,相對于所述鋁箔的總質量的Sn與Bi的合計質量的比例為0.0075質量%以上且15質量%以下,剩余部分為鋁,并且
所述鋁箔被調質處理為JIS-H0001中規定的O到1/4H的范圍,
所述剩余部分的鋁為包含99.0質量%以上的Al的純鋁、以及包含小于99.0質量%的Al和1.0質量%以上的添加元素的鋁合金中的任一者,
所述添加元素為Cu,且所述添加元素的上限值為2.0質量%。
3.根據權利要求1所述的鋁箔,其中,
所述鋁箔為釬焊用的鋁箔。
4.一種電子部件布線基板,其包含權利要求1所述的鋁箔。
5.一種鋁箔的制造方法,其具備:
準備99.0質量%以上由Al構成的鋁熔液、或者包含小于99.0質量%的Al和1.0質量%以上的添加元素的鋁熔液的工序,
通過向所述鋁熔液中添加Sn及Bi的至少一者而制作Sn與Bi的合計質量的比例為0.0075質量%以上且15質量%以下的混合熔液的工序,
使用所述混合熔液形成鑄錠或鑄造板的工序,
通過軋制所述鑄錠或鑄造板而制作Sn與Bi的合計質量的比例為0.0075質量%以上且15質量%以下、并且被調質處理為JIS-H0001中規定的3/4H到H的范圍的鋁箔的工序,以及
對所述被調質處理了的鋁箔在230℃以上的溫度實施熱處理,從而調質至JIS-H0001中規定的O到1/4H的范圍的工序,
所述添加元素為Cu,且所述鋁熔液中所述添加元素的上限值為2.0質量%。
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