[發明專利]一種基底預對準方法和裝置以及一種光刻機

有效

• 申請號: 201711046776.7
• 申請日: 2017-10-31
• 公開（公告）號: CN109725506B
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發明（設計）人: 田翠俠;孫偉旺;杜榮
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種基底預對準方法，其特征在于，包括如下步驟：

選取基準基底，獲取所述基準基底的圖像；

獲取待預對準基底的圖像；

將所述待預對準基底的圖像與所述基準基底的圖像進行配準，得出完成配準的待預對準基底的圖像的偏移參數；

根據所述偏移參數調整所述待預對準基底的角度，完成基底預對準。

2.根據權利要求1所述的基底預對準方法，其特征在于，將所述待預對準基底的圖像與所述基準基底的圖像進行配準的過程具體包括：

提取所述基準基底圖像中的多個特征點以構成參照特征點集；

提取所述待預對準基底圖像中的多個特征點以構成配準特征點集；

將所述配準特征點集配準至所述參照特征點集以使兩者重合。

3.根據權利要求2所述的基底預對準方法，其特征在于，所述特征點包括斑點和/或角點。

4.根據權利要求2所述的基底預對準方法，其特征在于，利用ICP算法將所述配準特征點集配準至所述參照特征點集。

5.根據權利要求4所述的基底預對準方法，其特征在于，所述利用ICP算法將所述配準特征點集配準至所述參照特征點集的過程包括：計算所述參照特征點集中與所述配準特征點集中的每個配準特征點最近的參照特征點；計算出每個配準特征點和與其對應的最近的參照特征點之間平均距離最小的剛體變換并得出偏移參數；對所述配準特征點集使用所述偏移參數得出新的變換點集；迭代計算直至所述變換點集和所述參照特征點集間的平均距離小于設定的閾值，完成配準。

6.根據權利要求5所述的基底預對準方法，其特征在于，采用K-D樹算法計算所述參照特征點集中與所述配準特征點集中的每個配準特征點最近的參照特征點。

7.根據權利要求5所述的基底預對準方法，其特征在于，在計算所述參照特征點集中與所述配準特征點集中的每個配準特征點最近的參照特征點后還利用RANSAC算法在所述最近的參照特征點中去除錯誤的參照特征點。

8.一種基底預對準裝置，其特征在于，包括：

定位裝置，用于對待預對準基底進行定位操作；

圖像采集分析裝置，用于采集基準基底的圖像以及待預對準基底的圖像，將所述待預對準基底的圖像與所述基準基底的圖像進行配準并計算將所述待預對準基底圖像配準到所述基準基底圖像過程中待預對準基底圖像的偏移參數；以及

控制裝置，分別連接所述圖像采集分析裝置和定位裝置，并根據所述偏移參數調整所述定位裝置的角度。

9.根據權利要求8所述的基底預對準裝置，其特征在于，所述定位裝置包括旋轉臺和設置在所述旋轉臺一側的定心機構，所述旋轉臺用于固定待預對準基底并帶動所述待預對準基底旋轉，所述定心機構用于將所述待預對準基底調整至與所述旋轉臺的中心重合。

10.根據權利要求9所述的基底預對準裝置，其特征在于，所述定心機構包括水平導軌和設置在所述水平導軌上的定心臺，所述定心臺沿所述水平導軌做水平運動。

11.根據權利要求9所述的基底預對準裝置，其特征在于，所述定位裝置還包括設置在所述旋轉臺底部的升降臺，所述升降臺帶動所述旋轉臺上下運動以調整其上的待預對準基底的垂向高度。

12.根據權利要求9所述的基底預對準裝置，其特征在于，所述圖像采集分析裝置包括用于圖像采集的CCD相機以及計算機。

13.根據權利要求12所述的基底預對準裝置，其特征在于，所述基底預對準裝置還包括視覺切換軸，所述CCD相機安裝在所述視覺切換軸上。

14.一種光刻機，其特征在于，具備如權利要求8-13任一項所述的基底預對準裝置。