[發(fā)明專利]一種優(yōu)化器件特性的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711043510.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107658343A | 公開(公告)日: | 2018-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱袁正;周錦程;葉鵬;劉晶晶 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 無錫新潔能股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/78 | 分類號(hào): | H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32104 | 代理人: | 曹祖良 |
| 地址: | 214131 江蘇省無錫市濱湖區(qū)高浪東路999號(hào)*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 優(yōu)化 器件 特性 半導(dǎo)體 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
1.一種優(yōu)化器件特性的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),在所述半導(dǎo)體器件的俯視平面上,包括位于半導(dǎo)體基板上的有源區(qū)(01)以及終端保護(hù)區(qū)(02),所述有源區(qū)(01)位于半導(dǎo)體基板的中心區(qū),終端保護(hù)區(qū)(02)位于有源區(qū)的外圈且環(huán)繞包圍所述有源區(qū)(01),半導(dǎo)體基板包括與漏極相連的漏極金屬(1),在所述漏極金屬(1)上設(shè)有第一導(dǎo)電類型硅襯底(2),第一導(dǎo)電類型硅襯底(2)上設(shè)有第一導(dǎo)電類型外延層(3),第一導(dǎo)電類型外延層(3)的上表面設(shè)有第二導(dǎo)電類型體區(qū)(10),第二導(dǎo)電類型體區(qū)(10)內(nèi)設(shè)有溝槽(4),所述溝槽(4)從第二導(dǎo)電類型體區(qū)(10)的表面伸入到所述第二導(dǎo)電類型體區(qū)(10)下方的第一導(dǎo)電類型外延層(3)內(nèi),溝槽(4)內(nèi)的中心區(qū)填充有導(dǎo)電多晶硅(6)以及位于所述導(dǎo)電多晶硅(6)外圈的第一類絕緣介質(zhì)體(5),在所述導(dǎo)電多晶硅(6)上部的兩側(cè)設(shè)有內(nèi)溝槽(7),所述內(nèi)溝槽(7)內(nèi)生長(zhǎng)有柵氧化層(8),在所述生長(zhǎng)有柵氧化層(8)的內(nèi)溝槽(7)內(nèi)填充有柵極導(dǎo)電多晶硅(9),在所述第一導(dǎo)電類型外延層(3)的上方設(shè)有第二類絕緣介質(zhì)體(12);在所述有源區(qū)(01)內(nèi),第二導(dǎo)電類型體區(qū)(10)內(nèi)設(shè)有兩個(gè)第一導(dǎo)電類型源極區(qū)(11),所述第一導(dǎo)電類型源極區(qū)(11)與溝槽(4)的外壁相接觸,在所述第二類絕緣介質(zhì)體(12)的上方設(shè)有與源極相連的源極金屬(13),所述源極金屬(13)通過第二類絕緣介質(zhì)體(12)上的通孔與第一導(dǎo)電類型源極區(qū)(11)、第二導(dǎo)電類型體區(qū)(10)歐姆接觸,其特征在于:在所述有源區(qū)(01)內(nèi),溝槽(4)的下方設(shè)有第一導(dǎo)電類型區(qū)(14),所述第一導(dǎo)電類型區(qū)(14)包覆溝槽(4)的槽底。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種優(yōu)化器件特性的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于:對(duì)于N型功率半導(dǎo)體器件,所述第一導(dǎo)電類型為N型導(dǎo)電,所述第二導(dǎo)電類型為P型導(dǎo)電;對(duì)于P型功率半導(dǎo)體器件,所述第一導(dǎo)電類型為P型導(dǎo)電,所述第二導(dǎo)電類型為N型導(dǎo)電。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種優(yōu)化器件特性的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一導(dǎo)電類型區(qū)(14)是由第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)注入形成的,第一導(dǎo)電類型雜質(zhì)的注入劑量范圍為1012~1016,注入能量范圍為10keV至200keV。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種優(yōu)化器件特性的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于:有源區(qū)(01)內(nèi)溝槽(4)的開口寬度、溝槽深度與終端保護(hù)區(qū)(02)內(nèi)溝槽(4)的開口寬度、溝槽深度可以一致或不一致。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種優(yōu)化器件特性的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于:在終端保護(hù)區(qū)(02)內(nèi),溝槽(4)內(nèi)的柵極導(dǎo)電多晶硅(9)可以設(shè)置為浮空的,也可以設(shè)置為不浮空的,可以設(shè)置第二導(dǎo)電類型體區(qū)(10),也可以不設(shè)置第二導(dǎo)電類型體區(qū)(10)。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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