[發明專利]逆導型絕緣柵雙極型晶體管及其制作方法、電力電子設備有效
| 申請號: | 201711034355.2 | 申請日: | 2017-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN107845673B | 公開(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發明(設計)人: | 何昌 | 申請(專利權)人: | 珠海格力電器股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/08 | 分類號: | H01L29/08;H01L29/739;H01L21/331 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 逆導型 絕緣 柵雙極型 晶體管 及其 制作方法 電力 電子設備 | ||
本發明公開了一種逆導型絕緣柵雙極型晶體管及其制作方法、電力電子設備,以改善逆導型絕緣柵雙極型晶體管的負阻效應,提高器件的可靠性。逆導型絕緣柵雙極型晶體管包括集電極金屬、位于集電極金屬前側且交替排列的第一P型集電區和N型集電區,以及對應設置在每個N型集電區前側的第二P型集電區,第二P型集電區與N型集電區相對設置,集電極金屬通過貫穿N型集電區的接觸孔槽與第二P型集電區連接。
技術領域
本發明涉及電力電子技術領域,特別是涉及一種逆導型絕緣柵雙極型晶體管及其制作方法、電力電子設備。
背景技術
在電力電子領域,絕緣柵雙極型晶體管(Insulated Gate Bipolar Transistor,IGBT)是最具代表性的功率器件。IGBT是由雙極結型晶體管(Bipolar JunctionTransistor,BJT)和金屬氧化物半導體場效應晶體管(Metal-Oxide-SemiconductorField-Effect Transistor,MOS)組成的復合全控型電壓驅動式半導體功率器件,非常適合應用于直流電壓為600V及以上的變流系統如交流電機、變頻器、開關電源、照明電路、牽引傳動等領域。
在很多應用場合中,IGBT需要反并聯一個二極管來實現續流。逆導型絕緣柵雙極型晶體管(Reverse-Conducting Insulated Gate Bipolar Transistor,RC-IGBT)將IGBT和二極管集成在同一塊芯片上,從而使器件兼備正向導通能力和反向導通能力,并且可以提高芯片的集成度,節約制造成本。這種新型功率器件已成為當前研究的熱點。
RC-IGBT正向導通的時候,其導電模式會存在一個由單電子導電向雙極性導電轉換的過程。單電子導電模式下,只有電子參與導電,器件導通電壓高,電流密度小;雙極性導電模式下,電子和空穴均參與導電,在很小的導通電壓下就能達到很大的電流密度。當RC-IGBT在兩種導電模式之間轉換時,會出現電流持續增長而電壓反而下降的現象,這種現象稱為負阻效應。RC-IGBT的負阻效應會使器件出現一系列可靠性問題。例如,當RC-IGBT并聯使用時,會使器件間電流分配不均勻,從而導致一些器件因電流過大而燒毀,一些器件因電流過小而難以開啟工作。
因此,如何改善RC-IGBT的負阻效應,提高器件可靠性,是當前亟待解決的技術問題。
發明內容
本發明實施例的目的是提供一種RC-IGBT及其制作方法、電力電子設備,以改善RC-IGBT的負阻效應,提高器件的可靠性。
本發明實施例提供了一種RC-IGBT,包括集電極金屬、位于所述集電極金屬前側且交替排列的第一P型集電區和N型集電區,以及對應設置在每個所述N型集電區前側的第二P型集電區,所述第二P型集電區與所述N型集電區相對設置,所述集電極金屬通過貫穿所述N型集電區的接觸孔槽與所述第二P型集電區連接。
可選的,所述第一P型集電區和所述N型集電區層疊設置,相鄰的所述第一P型集電區通過所述接觸孔槽間隔。
可選的,所述N型集電區包括位于相鄰兩個所述第一P型集電區之間的第一部分,以及位于所述第一P型集電區和所述第二P型集電區之間的第二部分,所述接觸孔槽貫穿所述所述第一部分和所述第二部分。
可選的,RC-IGBT還包括位于所述第一P型集電區和所述第二P型集電區前側的N型緩沖層。
在本發明實施例技術方案中,N型集電區的前側設置了第二P型集電區,集電極金屬通過貫穿N型集電區的接觸孔槽與第二P型集電區連接。當器件正向導通時,第一P型集電區和第二P型集電區對電子提供了一個高的勢壘,從而能有效的延長電子電流路徑,這等效于增加了集電極側的電阻,相應的,集電極側的壓降增加,使得器件在很小的電流密度下就能進入雙極性導電模式,從而有效的抑制了電壓折回現象,即改善了負阻效應,提高了器件的可靠性。
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