[發(fā)明專利]一種功能層開(kāi)孔的方法、陣列基板以及顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711029246.1
• 申請(qǐng)日: 2017-10-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107818945B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李唐求;趙瑜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/768
• 分類號(hào): H01L21/768;H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 44280 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 何倚雯

1.一種功能層開(kāi)孔的方法，其特征在于，包括：

在所述功能層上涂布光阻層；

在所述光阻層上至少形成一類貫穿區(qū)；其中，所述貫穿區(qū)為所述光阻層上暴露所述功能層的區(qū)域；其中，所述在所述光阻層上至少形成一類貫穿區(qū)，包括：采用第一張光罩在所述光阻層上經(jīng)過(guò)曝光顯影形成第一貫穿區(qū)；其中，所述第一張光罩包括第一透光孔，所述第一透光孔對(duì)應(yīng)所述第一貫穿區(qū)；

對(duì)所述功能層進(jìn)行第一次刻蝕，以在對(duì)應(yīng)所述第一貫穿區(qū)的所述功能層上形成第一過(guò)孔；

在所述光阻層上形成新一類的貫穿區(qū)；其中，所述在所述光阻層上形成新一類的貫穿區(qū)，包括：采用第二張光罩在所述光阻層上經(jīng)過(guò)曝光顯影形成第二貫穿區(qū)，并增加所述第一貫穿區(qū)的寬度；其中，所述第二張光罩包括第二透光孔和第三透光孔，所述第二透光孔對(duì)應(yīng)所述第一貫穿區(qū)，所述第三透光孔對(duì)應(yīng)所述第二貫穿區(qū)，所述第二透光孔和所述第三透光孔的寬度依次遞減，所述第二透光孔的寬度大于所述第一透光孔；

對(duì)所述功能層進(jìn)行第二次刻蝕，以在對(duì)應(yīng)所述第二貫穿區(qū)的所述功能層上形成第二過(guò)孔，并使所述第一過(guò)孔的寬度和深度增大；

采用第三張光罩在所述光阻層上經(jīng)過(guò)曝光顯影形成第三貫穿區(qū)，并增加所述第一貫穿區(qū)和所述第二貫穿區(qū)的寬度；其中，所述第三張光罩包括第四透光孔、第五透光孔和第六透光孔，所述第四透光孔對(duì)應(yīng)所述第一貫穿區(qū)，所述第五透光孔對(duì)應(yīng)所述第二貫穿區(qū)，所述第六透光孔對(duì)應(yīng)所述第三貫穿區(qū)，所述第四透光孔、所述第五透光孔和所述第六透光孔的寬度依次遞減，所述第四透光孔的寬度大于所述第二透光孔，所述第五透光孔的寬度大于所述第三透光孔；

對(duì)所述功能層進(jìn)行第三次刻蝕，以在對(duì)應(yīng)所述第三貫穿區(qū)的所述功能層上形成第三過(guò)孔，并使所述第一過(guò)孔以及所述第二過(guò)孔的寬度和深度增大，以形成寬度和深度不同的三個(gè)過(guò)孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，

所述功能層為顯示裝置中的陣列基板中的絕緣層。