[發(fā)明專利]一種陣列基板、其制備方法、顯示面板及顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711026357.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107664891A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-02-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 辛利文;張偉;郝延順;方業(yè)周;王廣帥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1362 | 分類號(hào): | G02F1/1362;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11291 | 代理人: | 郭潤(rùn)湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陣列 制備 方法 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,包括:襯底基板、以及位于所述襯底基板上用于驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)控制電路;其中,所述驅(qū)動(dòng)控制電路包括多個(gè)薄膜晶體管;其特征在于,所述陣列基板還包括:接地的靜電屏蔽層;
所述靜電屏蔽層位于所述襯底基板與所述驅(qū)動(dòng)控制電路之間,且所述靜電屏蔽層在所述襯底基板的正投影覆蓋所述驅(qū)動(dòng)控制電路中的薄膜晶體管的有源層在所述襯底基板的正投影。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括:黑矩陣;所述靜電屏蔽層與所述黑矩陣同材質(zhì)且同層設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述靜電屏蔽層為鏤空結(jié)構(gòu),且所述靜電屏蔽層在所述襯底基板的正投影覆蓋所述驅(qū)動(dòng)控制電路中的各薄膜晶體管的有源層在所述襯底基板的正投影;或者,
所述靜電屏蔽層為一整層結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求3所述的陣列基板,其特征在于,所述靜電屏蔽層為鏤空結(jié)構(gòu)時(shí),所述陣列基板還包括:與所述薄膜晶體管的源漏極層同材質(zhì)且同層設(shè)置的接地線,以及與所述靜電屏蔽層同層同材質(zhì)且電連接設(shè)置的靜電連接總線;
所述接地線通過(guò)多個(gè)第一過(guò)孔與所述靜電連接總線電連接。
5.如權(quán)利要求3所述的陣列基板,其特征在于,所述靜電屏蔽層為一整層結(jié)構(gòu)時(shí),所述陣列基板還包括:與所述薄膜晶體管的源漏極層同材質(zhì)且同層設(shè)置的接地線;
所述接地線通過(guò)多個(gè)第二過(guò)孔與所述靜電屏蔽層電連接。
6.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的陣列基板,其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)控制電路為柵極驅(qū)動(dòng)電路;和/或,
所述驅(qū)動(dòng)控制電路為發(fā)光驅(qū)動(dòng)電路。
7.一種顯示面板,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的陣列基板。
8.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求7所述的顯示面板。
9.一種陣列基板的制備方法,其特征在于,包括:
采用一次構(gòu)圖工藝在襯底基板上形成靜電屏蔽層的圖形;
采用構(gòu)圖工藝在形成有所述靜電屏蔽層的圖形的襯底基板上形成驅(qū)動(dòng)控制電路中的薄膜晶體管的圖形;其中,所述靜電屏蔽層接地,且所述靜電屏蔽層在所述襯底基板的正投影至少覆蓋所述驅(qū)動(dòng)控制電路中的薄膜晶體管的有源層在所述襯底基板的正投影。
10.如權(quán)利要求9所述的制備方法,其特征在于,所述采用一次構(gòu)圖工藝在襯底基板上形成靜電屏蔽層的圖形的同時(shí),還包括形成黑矩陣的圖形。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
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