[發(fā)明專利]單位掩膜、其制造方法及包括其的掩膜組件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711015844.3
• 申請日: 2017-10-26
• 公開（公告）號: CN107761055B
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設計）人: 呂守華;黃俊杰
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;王衛(wèi)忠

1.一種單位掩膜，包括：

掩膜體，沿長度方向和寬度方向延伸，并且在掩膜體上形成有掩膜圖案；以及

夾緊部，沿掩膜體的長度方向從掩膜體的端部延伸出，

其中，在夾緊部上形成有防滑圖案，

其中，防滑圖案包括形成在夾緊部上的通過刻蝕工藝形成的多個突起。

2.根據權利要求1所述的單位掩膜，其中，沿著垂直于夾緊部的表面的方向觀看，突起包括條形、圓形、四邊形和＜形中的至少一種形狀。

3.根據權利要求1所述的單位掩膜，其中，突起的上端與掩膜體的表面位于同一平面上。

4.根據權利要求1所述的單位掩膜，其中，夾緊部包括彼此相對的第一側和第二側，防滑圖案形成在第一側和第二側中的至少一側上。

5.根據權利要求1所述的單位掩膜，其中，從掩膜體的一個端部延伸出的夾緊部包括成對的延伸部分，成對的延伸部分在掩膜體的寬度方向上彼此分隔開。

6.根據權利要求5所述的單位掩膜，其中，防滑圖案形成在延伸部分上。

7.根據權利要求1所述的單位掩膜，還包括：位于掩膜體與夾緊部之間的連接部，

其中，連接部用于固定到掩膜組件的掩膜框架上。

8.根據權利要求1所述的單位掩膜，其中，掩膜體和夾緊部一體地形成。

9.根據權利要求1所述的單位掩膜，其中，單位掩膜為帶狀。

10.一種制造如權利要求1-9中任意一項所述的單位掩膜的方法，包括：

提供單位掩膜的前體板，前體板包括與掩膜體對應的第一區(qū)域和與夾緊部對應的第二區(qū)域；

在第一區(qū)域上形成掩膜圖案；以及

在第二區(qū)域上形成防滑圖案。

11.一種掩膜組件，包括：

掩膜框架，形成有開口部；

多個根據權利要求1-9中的任意一項所述的單位掩膜，固定于掩膜框架上以使單位掩膜的掩膜圖案形成在開口部上。