[發(fā)明專利]封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711014931.7 | 申請日: | 2017-10-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108807322A | 公開(公告)日: | 2018-11-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林柏均;朱金龍 | 申請(專利權(quán))人: | 南亞科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/488 | 分類號(hào): | H01L23/488;H01L21/56 |
| 代理公司: | 北京中譽(yù)威圣知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11279 | 代理人: | 席勇;周勇 |
| 地址: | 中國臺(tái)灣新*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 封裝結(jié)構(gòu) 金屬凸塊 半導(dǎo)體基板 導(dǎo)電層 焊墊 工藝要求 涂層覆蓋 制造 | ||
本發(fā)明公開了一種封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法,封裝結(jié)構(gòu)包含:半導(dǎo)體基板;焊墊設(shè)置于半導(dǎo)體基板之上;導(dǎo)電層設(shè)置于焊墊之上;保護(hù)涂層;以及金屬凸塊設(shè)置于導(dǎo)電層之上,且保護(hù)涂層覆蓋金屬凸塊,借以避免金屬凸塊的氧化。本發(fā)明能夠滿足減少回流工藝要求,并降低成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)于封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法。
背景技術(shù)
回流焊接是使用焊膏(粉狀焊料和焊劑的粘性混合物)將一個(gè)或多個(gè)電氣部件附接到其接觸焊盤的過程,然后整個(gè)組件受到受控的熱,以熔化焊料,永久連接接頭。加熱可以通過將組件通過回流爐或紅外線或通過用熱氣鉛焊接各個(gè)接頭來實(shí)現(xiàn)。
隨著封裝結(jié)構(gòu)的發(fā)展,進(jìn)行了越來越多的回流工藝,從而增加了成本。相關(guān)領(lǐng)域莫不費(fèi)盡心思來謀求解決之道,但長久以來一直未見適用的方式被發(fā)展完成。為了滿足減少回流工藝的要求,需要先進(jìn)的封裝形成方法和結(jié)構(gòu)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提出一種創(chuàng)新的封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法,以解決先前技術(shù)的困境。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,一種封裝結(jié)構(gòu)包含:半導(dǎo)體基板;焊墊設(shè)置于半導(dǎo)體基板之上;導(dǎo)電層設(shè)置于焊墊之上;保護(hù)涂層;以及金屬凸塊設(shè)置于導(dǎo)電層之上,且保護(hù)涂層覆蓋金屬凸塊,以避免金屬凸塊的氧化。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,封裝結(jié)構(gòu)還包含:鈍化層,設(shè)置于半導(dǎo)體基板之上,其中焊墊設(shè)置于鈍化層之中,鈍化層具有開口以部分暴露焊墊的表面,且導(dǎo)電層連接于焊墊的表面以及鈍化層。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,金屬凸塊具有平坦表面,背離半導(dǎo)體基板。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,金屬凸塊具有非圓形狀。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,金屬凸塊由銅形成。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,導(dǎo)電層為凸塊下金屬層。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,保護(hù)涂層為有機(jī)保焊劑層。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,封裝結(jié)構(gòu)還包含:焊料層,設(shè)置于保護(hù)涂層之上,且位于金屬凸塊的正上方。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,焊料層由錫形成。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,鈍化層由二氧化硅形成。
在本發(fā)明的另一實(shí)施例中,一種封裝結(jié)構(gòu)的制造方法包含:提供半導(dǎo)體基板;在半導(dǎo)體基板之上形成焊墊;在焊墊之上形成導(dǎo)電層;在導(dǎo)電層之上形成金屬凸塊;以及在金屬凸塊之上形成保護(hù)涂層,使得保護(hù)涂層覆蓋金屬凸塊,以避免金屬凸塊的氧化。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,制造方法還包含:在焊墊以及半導(dǎo)體基板之上形成鈍化層;以及在鈍化層中形成開口,以部分暴露焊墊的表面。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,在焊墊之上形成導(dǎo)電層,包含:形成導(dǎo)電層連接于焊墊的表面以及鈍化層。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,制造方法還包含:在保護(hù)涂層之上且在金屬凸塊的正上方形成焊料層。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,制造方法還包含:在形成焊料層以后,對(duì)封裝結(jié)構(gòu)執(zhí)行表面焊接技術(shù),以移除保護(hù)涂層。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,保護(hù)涂層為有機(jī)保焊劑層,在表面焊接技術(shù)執(zhí)行以后,有機(jī)保焊劑層被蒸發(fā)。
在本發(fā)明的又一實(shí)施例中,一種封裝結(jié)構(gòu)的制造方法包含:提供半導(dǎo)體基板;在半導(dǎo)體基板之上形成焊墊;在焊墊以及半導(dǎo)體基板之上形成鈍化層;在鈍化層中形成開口,以部分暴露焊墊的表面;形成導(dǎo)電層連接于焊墊的表面以及鈍化層;在導(dǎo)電層之上形成金屬凸塊;在保護(hù)涂層之上且在金屬凸塊的正上方形成焊料層;以及執(zhí)行回焊工藝,將焊料層形成為焊錫凸塊,并移除保護(hù)涂層。
在本發(fā)明的又一實(shí)施例中,保護(hù)涂層為有機(jī)保焊劑層。
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