[發(fā)明專利]液浸構(gòu)件及曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711011972.0
• 申請(qǐng)日: 2013-03-15
• 公開（公告）號(hào): CN107728434B
• 公開（公告）日: 2020-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柴崎祐一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社尼康
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 湯在彥

本發(fā)明的液浸構(gòu)件(5)，是在能于光學(xué)構(gòu)件(13)下方移動(dòng)的物體(P)上形成液浸空間(LS)，使得從光學(xué)構(gòu)件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液體(LQ)充滿。液浸構(gòu)件具備配置在光學(xué)構(gòu)件周圍至少一部分的第1構(gòu)件(21)與能在第1構(gòu)件的至少一部分的外側(cè)移動(dòng)、具有回收液浸空間的液體的至少一部分的回收口(24)的第2構(gòu)件(22)。

本發(fā)明為申請(qǐng)日2013年03月15日，申請(qǐng)?zhí)枮椤?01380029835.3”，發(fā)明名稱為“液浸構(gòu)件及曝光裝置”的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。本發(fā)明的原申請(qǐng)(201380029835.3)的權(quán)利要求范圍要求如下申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)：2012年4月10日申請(qǐng)的美國(guó)專利暫時(shí)申請(qǐng)61/622,235及2013年3月11日申請(qǐng)的美國(guó)專利申請(qǐng)第13/793,667號(hào)的優(yōu)先權(quán)。

背景技術(shù)

本發(fā)明是關(guān)于液浸構(gòu)件、曝光裝置、曝光方法、元件制造方法、程序、及記錄媒體。

在光刻制造工藝所使用的曝光裝置中，已知一種通過液體以曝光用光使基板曝光的液浸曝光裝置，例如下述的美國(guó)專利第7,864,292號(hào)。

發(fā)明內(nèi)容

液浸曝光裝置中，例如當(dāng)液體從既定空間流出、或殘留在基板等物體上時(shí)，即有可能發(fā)生曝光不良的情形。其結(jié)果，有可能產(chǎn)生不良元件。

本發(fā)明的態(tài)樣，其目的在提供一種能抑制曝光不良的發(fā)生的液浸構(gòu)件、曝光裝置及曝光方法。此外，本發(fā)明的態(tài)樣，其目的在提供一種能抑制不良元件的產(chǎn)生的元件制造方法、程序及記錄媒體。

本發(fā)明第1態(tài)樣，提供一種液浸構(gòu)件，是以從光學(xué)構(gòu)件的射出面射出的曝光用光的光路被液體充滿的方式，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的物體上形成液浸空間，具備：第1構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分；以及第2構(gòu)件，能與該第1構(gòu)件隔著間隙在該第1構(gòu)件的下方移動(dòng)，具有回收該液浸空間的液體的至少一部分的回收口。

本發(fā)明第2態(tài)樣，提供一種液浸構(gòu)件，是以從光學(xué)構(gòu)件的射出面射出的曝光用光的光路被液體充滿的方式，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動(dòng)的物體上形成液浸空間，具備：第1構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分；以及第2構(gòu)件，能相對(duì)該曝光用光的該光路在該第1構(gòu)件的至少一部分的外側(cè)移動(dòng)，具有回收該液浸空間的液體的至少一部分的回收口。

本發(fā)明第3態(tài)樣，提供一種曝光裝置，是通過液體以曝光用光使基板曝光，其具備第1態(tài)樣的液浸構(gòu)件。

本發(fā)明第4態(tài)樣，提供一種元件制造方法，包含：使用第1至3態(tài)樣中的任一態(tài)樣的曝光裝置使基板曝光的動(dòng)作；以及使曝光后的該基板顯影的動(dòng)作。

本發(fā)明第5態(tài)樣，提供一種曝光方法，是通過液體以曝光用光使基板曝光，包含：形成從光學(xué)構(gòu)件的射出面射出的該曝光用光的光路被該液體充滿的液浸空間的動(dòng)作；通過該液浸空間的液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動(dòng)作；以及移動(dòng)第2構(gòu)件的動(dòng)作，該第2構(gòu)件是與配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分的第1構(gòu)件隔著間隙配置在該第1構(gòu)件下方、具有回收該液浸空間的液體的至少一部分的回收口。

本發(fā)明第6態(tài)樣，提供一種元件制造方法，包含：使用第5態(tài)樣的曝光方法使基板曝光的動(dòng)作，以及使曝光后基板顯影的動(dòng)作。

本發(fā)明第7態(tài)樣，提供一種程序，是使電腦實(shí)施通過液體以曝光用光使基板曝光的曝光裝置的控制，包含：形成從光學(xué)構(gòu)件的射出面射出的該曝光用光的光路被該液體充滿的液浸空間的動(dòng)作；通過該液浸空間的液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動(dòng)作；以及移動(dòng)第2構(gòu)件的動(dòng)作，該第2構(gòu)件是與配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分的第1構(gòu)件隔著間隙配置在該第1構(gòu)件下方、具有回收該液浸空間的液體的至少一部分的回收口。

本發(fā)明第8態(tài)樣，提供一種電腦可讀取的記錄媒體，其記錄有第7態(tài)樣的程序。

根據(jù)本發(fā)明的態(tài)樣，能抑制曝光不良的發(fā)生。此外，根據(jù)本發(fā)明的態(tài)樣，能抑制不良元件的產(chǎn)生。

附圖說明