[發明專利]一種用于PCB干膜顯影槽的清洗劑及清洗工藝

在審

• 申請號: 201711011574.9
• 申請日: 2017-10-26
• 公開（公告）號: CN108373950A
• 公開（公告）日: 2018-08-07
• 發明（設計）人: 張本漢;張元正;許永章
• 申請（專利權）人: 信豐正天偉電子科技有限公司
• 主分類號: C11D1/72
• 分類號: C11D1/72;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/60;C11D11/00;B08B3/08
• 代理公司: 蘇州潤桐嘉業知識產權代理有限公司 32261
• 代理人: 趙麗麗

本發明涉及清洗劑、清潔劑領域，提供一種用于PCB干膜顯影槽的清洗劑及其清洗工藝。其由含量為以下質量百分數的組分組成：硫酸：10～20％；乙酸：10～30％；增溶劑：1～5％；表面活性劑：0.5～3％；水：余量。本發明可高效乳化其干膜殘留物,從而使酸性體系較快的與殘留于干膜殘渣內鈣鎂離子結晶物進行反應.故而溫度下降,清洗時間縮短,提高干膜殘留物溶解率；其清洗效果明顯優于常規清洗劑的清洗方式,且可高效去除槽體殘留物,保證PCB制程正常生產,且可節約一定能耗以及提高產能,具有一定之經濟及環保意義。

技術領域

本發明涉及清洗劑、清潔劑領域，尤其涉及一種用于PCB干膜顯影槽的清洗劑。

背景技術

目前，PCB作為電子器件器件的基板，其品質直接決定著整個電路的性能。而在PCB的制造過程中，干膜制程尤為重要，在干膜制程中隨著顯影槽的使用時長推移不斷有干膜或濕膜的殘留物粘附在滾輪或是槽體上，因此需要對干膜顯影槽進行清洗，常規的清潔劑，一般是直接使用強氧化鈉進行處理，實際使用中發現，這類堿性清洗劑，不但在清洗時需要進行加溫處理以增強對干膜殘留物的溶解度，而且清洗時間較長、清洗效果不夠好。

發明內容

針對上述問題，本發明所要解決的技術問題是提供一種用于PCB干膜顯影槽的清洗劑，清洗溫度要求較低、清洗時間短同時清洗效果好。

采用技術方案如下：

一種用于PCB干膜顯影槽的清洗劑，其由含量為以下質量百分數的組分組成：

硫酸：10～20％；

乙酸：10～30％；

增溶劑：1～5％；

表面活性劑：0.5～3％；

水：余量。

以上組分的質量百分數之和為100％；

所述物質都以純物質的質量計算。

優選的，其由含量為以下質量百分數的組分組成：

硫酸：13～17％；

乙酸：15～25％；

增溶劑：2～4％；

表面活性劑：1.5～2％；

水：余量。

以上組分的質量百分數之和為100％。

具體的，

所述增溶劑優選乙二醇單丁醚或乙二醇乙醚中的一種或一種以上,用于去除干膜參渣殘中的有機殘留物；乙二醇單丁醚或乙二醇乙醚均可溶于水，且對干膜殘渣中的有機殘留物具有一定的溶解性。

所述表面活性劑優選水溶性聚醚，能與硫酸、乙酸完全相溶，由于其有逆溶性的特點，針對表面活性物質具有協同效應，有效降低藥液表面張力以及清洗作用。

一種用于PCB干膜顯影槽的清洗劑的清洗工藝，其步驟為：

(1)在常溫下，用清水清洗顯影槽三遍；

(2)往槽體內注水調配清洗劑，將硫酸、乙酸依次加入水中攪拌混合溶解均勻后，再加入增溶劑、表面活性劑，攪拌均勻即可；

(3)根據顯影槽的槽體殘留物再次注水調配清洗劑濃度，一般為21％～50％；

(4)采用持續攪拌或循環噴淋方式清洗，清洗時間為1～1.5h；

(5)排出槽體內污水，再用清水沖洗三遍，即清洗完成。