[發(fā)明專利]一種用于PCB干膜顯影槽的清洗劑及清洗工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711011574.9 | 申請(qǐng)日： | 2017-10-26 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN108373950A | 公開（公告）日： | 2018-08-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張本漢;張?jiān)?/a>;許永章 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 信豐正天偉電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C11D1/72 | 分類號(hào)： | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/60;C11D11/00;B08B3/08 |
| 代理公司： | 蘇州潤桐嘉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32261 | 代理人： | 趙麗麗 |
| 地址： | 341600 江西*** | 國省代碼： | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 清洗劑 干膜 清洗工藝 顯影槽 清洗 清潔劑 乙酸 表面活性劑 常規(guī)清洗劑 質(zhì)量百分?jǐn)?shù) 鈣鎂離子 干膜殘?jiān)?/a> 環(huán)保意義 清洗效果 時(shí)間縮短 酸性體系 結(jié)晶物 溶解率 增溶劑 槽體 產(chǎn)能 去除 乳化 制程 硫酸 能耗 殘留 節(jié)約 保證 生產(chǎn) | ||
1.一種用于PCB干膜顯影槽的清洗劑，其特征在于，其由含量為以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：
硫酸：10～20％；
乙酸：10～30％；
增溶劑：1～5％；
表面活性劑：0.5～3％；
水：余量。
以上組分的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)之和為100％。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于PCB干膜顯影槽的清洗劑，其特征在于：其由含量為以下質(zhì)量百分?jǐn)?shù)的組分組成：
硫酸：13～17％；
乙酸：15～25％；
增溶劑：2～4％；
表面活性劑：1.5～2％；
水：余量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于PCB干膜顯影槽的清洗劑，其特征在于：所述增溶劑為乙二醇單丁醚或乙二醇乙醚中的一種或一種以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于PCB干膜顯影槽的清洗劑，其特征在于：所述表面活性劑為水溶性聚醚。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于PCB干膜顯影槽的清洗劑及清洗工藝，其特征在于，步驟為：
(1)在常溫下，用清水清洗顯影槽三遍；
(2)往槽體內(nèi)注水調(diào)配清洗劑，將硫酸、乙酸依次加入水中攪拌混合溶解均勻后，再加入增溶劑、表面活性劑，攪拌均勻即可；
(3)根據(jù)顯影槽的槽體殘留物再次注水調(diào)配清洗劑濃度，一般為21％～50％；
(4)采用持續(xù)攪拌或循環(huán)噴淋方式清洗，清洗時(shí)間為1～1.5h；
(5)排出槽體內(nèi)污水，再用清水沖洗三遍，即清洗完成。
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