[發(fā)明專利]掩膜裝置及其掩膜組件、掩膜板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711006716.2 | 申請日: | 2017-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN107653435A | 公開(公告)日: | 2018-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇君海;龔建國;吳俊雄;冉應(yīng)剛;柯賢軍;李建華 | 申請(專利權(quán))人: | 信利(惠州)智能顯示有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司44224 | 代理人: | 葉劍 |
| 地址: | 516029 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 及其 組件 掩膜板 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光顯示制造技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及掩膜裝置及其掩膜組件、掩膜板。
背景技術(shù)
AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode,有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極體)生產(chǎn)制程中最影響良率的制程為蒸鍍制程,蒸鍍制程的基本過程即通過加熱有機(jī)材料,使得有機(jī)材料蒸發(fā),并通過高精度精細(xì)掩膜板蝕刻完成的通孔蒸鍍到玻璃基板上,形成發(fā)光單元。蒸鍍制程中,蒸發(fā)后的有機(jī)材料通過掩膜板的有效區(qū)的通孔蒸鍍到基板上,形成顯示屏的AA(Ative Area,有效顯示區(qū)域)區(qū),AA區(qū)也稱顯示區(qū),也就是掩膜板的有效區(qū)對應(yīng)顯示屏的AA區(qū)。
目前傳統(tǒng)的掩模板通常設(shè)計(jì)為Divide(單條的形式),以對應(yīng)某一種產(chǎn)品型號,最后再分別將多條的掩模板分別焊接到掩模板框架上,以對應(yīng)基板的產(chǎn)品排版,此種方式雖能滿足目前生產(chǎn),但在實(shí)際中存在如下方面的問題;
1:由于掩模板為單條的形式,在制作掩膜板時,通常需要在掩膜板的蝕刻有效區(qū),并在有效區(qū)的周圍的不同形狀的Dummy(預(yù)留區(qū))部分蝕刻,以保證掩模板在張網(wǎng)力的影響下,有效區(qū)和預(yù)留區(qū)的力學(xué)性能盡可能一致,減少變形;但此種單條的掩膜板的的制造工藝比較復(fù)雜,通常需要多次曝光以分別對應(yīng)蝕刻出有效區(qū)蝕刻孔和預(yù)留區(qū)的蝕刻孔;
2:掩模板通常需要根據(jù)具體的產(chǎn)品型號進(jìn)行設(shè)計(jì),之后再進(jìn)行刻蝕制造,而由于掩模板制造周期通常比較長,而顯示屏的產(chǎn)品型號更新較快,所以此種方法不能快速的對應(yīng)市場產(chǎn)品需求;
3:由于利用單條掩膜板的焊接形式,最終基板的排版只能對應(yīng)某一種產(chǎn)品型號,無法合理利用排版中的空閑位置,使得玻璃基板排版的利用率較低,造成生產(chǎn)成本較高。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要提供一種掩膜裝置及其掩膜組件、掩膜板。
一種掩膜裝置,包括掩膜組件和掩膜框架,所述掩膜組件包括一掩膜板和一遮擋件;
所述掩膜板的邊沿與所述掩膜框架連接;
所述掩膜板上均勻開設(shè)有若干通孔,各所述通孔的形狀相同,且各所述通孔的尺寸相等,所述遮擋件開設(shè)有若干通口;
所述遮擋件抵接于所述掩膜板,各所述通口分別對齊于所述掩膜板上的部分所述通孔,且所述通口與對齊的各所述通孔連通,所述遮擋件擋設(shè)于所述掩膜板上的剩余部分所述通孔。
在一個實(shí)施例中,各所述通口形狀相同。
在一個實(shí)施例中,各所述通口中至少有兩個所述通口的形狀相異。
在一個實(shí)施例中,所述通口的形狀為不規(guī)則形狀。
在一個實(shí)施例中,所述遮擋件為遮擋膜。
在一個實(shí)施例中,各所述通孔呈矩形陣列設(shè)置。
一種掩膜組件,包括一掩膜板和一遮擋件;
所述掩膜板上均勻開設(shè)有若干通孔,各所述通孔的形狀相同,且各所述通孔的尺寸相等,所述遮擋件開設(shè)有若干通口;
所述遮擋件抵接于所述掩膜板,各所述通口分別對齊于所述掩膜板上的部分所述通孔,且所述通口與對齊的各所述通孔連通,所述遮擋件擋設(shè)于所述掩膜板上的剩余部分所述通孔。
在一個實(shí)施例中,各所述通口形狀相同。
在一個實(shí)施例中,各所述通口中至少有兩個所述通口的形狀相異。
一種掩膜板,所述掩膜板的邊沿用于與一掩膜框架連接,所述掩膜板上均勻開設(shè)有若干通孔,各所述通孔的形狀相同,且各所述通孔的尺寸相等。
上述掩膜裝置及其掩膜組件、掩膜板,掩膜框架上僅設(shè)置一個掩膜板,并且掩膜板為一整體,其上均勻開設(shè)通孔,通過遮擋件對掩膜板進(jìn)行遮擋,使得蒸鍍材料通過通口和通孔蒸鍍成與通口的形狀對應(yīng)的顯示區(qū),一方面,掩膜板無需根據(jù)不同顯示區(qū)設(shè)置不同的預(yù)留區(qū),只需整體進(jìn)行蝕刻,減少了蝕刻工序,降低了工藝復(fù)雜度,此外,由于掩膜板整體均勻開設(shè)通孔,使得掩膜板的各部分的力學(xué)性能趨于一致,有效減少形變,使得蒸鍍效果更佳,另一方面,通過設(shè)置不同形狀的通口,使得掩膜裝置能夠同時蒸鍍不同形狀的顯示區(qū),有效利用空閑位置,提高玻璃基板的利用率,提高蒸鍍效率,并且有效降低生產(chǎn)成本,此外,對應(yīng)不同的顯示屏的需求,僅設(shè)置對應(yīng)的遮擋件即可,無需重新設(shè)計(jì)掩膜板,能夠快速適應(yīng)產(chǎn)品更新需求。
附圖說明
圖1為一個實(shí)施例的掩膜裝置的立體分解結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為一個實(shí)施例的掩膜板的一方向結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為一個實(shí)施例的遮擋件的一方向結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于信利(惠州)智能顯示有限公司,未經(jīng)信利(惠州)智能顯示有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711006716.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:沉沒輥中心孔堵塞
- 下一篇:掩膜板及其制作方法、蒸鍍方法
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





