[發(fā)明專利]發(fā)光二極管芯片的制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711000328.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108023005A | 公開(公告)日: | 2018-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 岡村卓;北村宏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社迪思科 |
| 主分類號(hào): | H01L33/44 | 分類號(hào): | H01L33/44;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 于靖帥;喬婉 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 芯片 制造 方法 | ||
1.一種發(fā)光二極管芯片的制造方法,其特征在于,該發(fā)光二極管芯片的制造方法具有如下的工序:
晶片準(zhǔn)備工序,準(zhǔn)備如下的晶片:該晶片在晶體成長(zhǎng)用透明基板上具有層疊體層,在該層疊體層的正面上由互相交叉的多條分割預(yù)定線劃分出的各區(qū)域中分別形成有LED電路,其中,所述層疊體層形成有包含發(fā)光層在內(nèi)的多個(gè)半導(dǎo)體層;
一體化工序,將在內(nèi)部形成有多個(gè)氣泡的透明基板的正面粘貼在該晶片的背面上而形成一體化晶片;
透明基板加工工序,在實(shí)施了該一體化工序之后,在該一體化晶片的該透明基板的背面上與該晶片的各LED電路對(duì)應(yīng)地形成多個(gè)凹坑;以及
分割工序,在實(shí)施了該透明基板加工工序之后,沿著該分割預(yù)定線將該晶片與該透明基板一起切斷而將該一體化晶片分割成各個(gè)發(fā)光二極管芯片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管芯片的制造方法,其中,
在該透明基板加工工序中形成的所述凹坑的截面形狀為三角形、四邊形以及圓形中的任意形狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管芯片的制造方法,其中,
在該透明基板加工工序中,通過蝕刻、噴沙以及激光中的任意方式來形成所述凹坑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管芯片的制造方法,其中,
該透明基板由透明陶瓷、光學(xué)玻璃、藍(lán)寶石以及透明樹脂中的任意材料形成,在該一體化工序中使用透明粘接劑將該透明基板粘貼在該晶片上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社迪思科,未經(jīng)株式會(huì)社迪思科許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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