[發(fā)明專利]一種OLED器件的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710985991.7
• 申請(qǐng)日: 2017-10-20
• 公開（公告）號(hào): CN107785504B
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊雷;鄭華;范麗仙;徐永釗;張耿;張紹強(qiáng);宋建勛;李春花
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞理工學(xué)院
• 主分類號(hào): H01L51/56
• 分類號(hào): H01L51/56
• 代理公司: 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102
• 代理人: 羅曉林;李捷

1.一種OLED器件的制備方法，所述制備方法的步驟包括：

S10、在陽極基板上制備空穴注入層、空穴傳輸層以及電子阻擋層中的全部三層，或者只制備其中的任意一層或任意兩層；

S20、利用溶液法，形成可溶性絕緣層封住整個(gè)基板；

S30、在可溶性絕緣層上噴墨打印對(duì)應(yīng)的溶劑，形成紅色子像素需要的子像素孔陣列，然后蒸鍍紅色發(fā)光材料，以形成紅色發(fā)光材料層，最后噴墨打印極性溶劑，溶開綠色子像素、藍(lán)色子像素預(yù)定位置的紅色發(fā)光材料；

S40、在可溶性絕緣層上噴墨打印對(duì)應(yīng)的溶劑，形成綠色子像素需要的子像素孔陣列，然后蒸鍍綠色發(fā)光材料，以形成綠色發(fā)光材料層，最后噴墨打印極性溶劑，溶開藍(lán)色子像素預(yù)定位置的綠色發(fā)光材料；

S50、在可溶性絕緣層上噴墨打印對(duì)應(yīng)的溶劑，形成藍(lán)色子像素需要的子像素孔陣列，并蒸鍍藍(lán)色發(fā)光材料，以形成藍(lán)色發(fā)光材料層；

S60、利用蒸鍍法制備電子注入層、電子傳輸層以及空穴阻擋層中的全部三層，或者只制備其中的任意一層或任意兩層；

S70、利用蒸鍍法制備陰極，最后進(jìn)行包封，單個(gè)OLED器件制備完畢;

在步驟S20中，所述可溶性絕緣層為氟樹脂絕緣層或非極性分子絕緣層; 當(dāng)所述可溶性絕緣層為氟樹脂絕緣層時(shí)，利用噴墨打印的溶劑為氟溶劑；當(dāng)所述可溶性絕緣層為非極性分子絕緣層時(shí)，所述溶劑為非極性溶劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：在步驟S10中，利用溶液法或蒸鍍法制備所述空穴注入層、空穴傳輸層以及電子阻擋層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于：所述空穴注入層、空穴傳輸層以或電子阻擋層的厚度為5-100nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于：所述可溶性絕緣層的厚度為50-2000nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任意一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于：所述紅色發(fā)光材料層的厚度為20-200nm，所述綠色發(fā)光材料層的厚度為20-200nm，所述藍(lán)色發(fā)光材料層的厚度為20-200nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于：步驟S60中，所述電子注入層、電子傳輸層以及空穴阻擋層中的厚度為1-40nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于：步驟S70中，所述陰極為金屬陰極，該金屬陰極的厚度為50-2000nm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于：所述金屬陰極中的金屬為Al或Ag。