[發明專利]一種真空回轉煅燒窯

在審

• 申請號: 201710985742.8
• 申請日: 2017-10-20
• 公開（公告）號: CN107606938A
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發明（設計）人: 邵建兵;王俐健;馬大鈞;凌金華;劉文杰
• 申請（專利權）人: 蘇州中材非金屬礦工業設計研究院有限公司
• 主分類號: F27B7/06
• 分類號: F27B7/06;F27B7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司11332
• 代理人: 胡彬

技術領域

本發明涉及真空設備技術領域，尤其涉及一種真空回轉煅燒窯。

背景技術

國內外對于真空設備的研究已經有了一定的基礎，相關真空設備早已取得普遍的應用，比如研究實驗用的小型真空窯、間斷生產的較大型真空窯。

實驗室用小型真空窯具備體積小、真空度高的特點，一般都能滿足多種氣氛焙燒的要求。但是其處理量小，只能滿足實驗需求；并且使用后需要較長的等待時間，實驗周期長。

間斷生產的較大型真空窯產量上較實驗型有所提高，但幅度不大，不能滿足工業化生產的需求。另外其間斷生產的特性不利于生產的連續性，產品質量也不穩定。但是其對真空度要求極高的物料生產是具有一定優勢的。設備大型化是工業化的必然之路，真空設備也必然會走大型化道路。

隨著工業的進步，工業產品出現種類多樣化、功能單一化的趨勢。越來越多新材料的出現，催生了大量繁復嚴苛的加工技術；特別是在干燥、煅燒(焙燒)領域，傳統的設備已經難以滿足新興行業的生產需要。研制一種全新的生產設備是諸多行業實現大規模工業化的必要前提。

使真空設備實現大型化，其主要的技術難題是密封問題。兩個物體的接觸一般分為點接觸、線接觸、面接觸，其中尤以面接觸最難實現，因為不可能做到兩個面的完全平整，也就不可能做到完全貼合。同理，真空設備的密封就是整個設備的核心難點。該難點不僅僅是兩個面的密封，還有動、靜面之間的密封。動面是跟隨窯體一起轉動的，靜面是其他設備與窯體的連接處。

由于窯體腔內是真空的，動靜面之間的壓力很大，兩者之間的摩擦力也會很大，動靜面材料的壽命問題就是一大難點。壽命短的材料會極大地影響生產，如果是價值較高的產品，每次的更換動靜接觸密封材料就是一筆極大的損失，不能連續生產，影響了生產。

自然界中的物質大多遵循熱脹冷縮的法則，窯體受熱后是會膨脹的，但是由于真空的關系，兩端會有很大的力壓迫窯體。要保證窯體的安全又是設計的一難點。

有鑒于上述的缺陷，本設計人，積極加以研究創新，以期創設一種端面密封效果較好的真空回轉煅燒窯，以解決上述技術難點。

發明內容

本發明的目的在于提出一種端面處密封效果好的真空回轉煅燒窯，能夠使真空回轉煅燒窯滿足連續運轉的需求。

為達此目的，本發明采用以下技術方案：

一種真空回轉煅燒窯，設置于底架上，包括柱形臥式真空窯體，所述真空窯體的兩端轉動連接有與其連通的動筒，所述動筒套接有靜筒，所述靜筒與所述動筒的套接處設有端面密封結構，所述底架的支撐平臺上設有支撐所述靜筒的滾動組件，其中，所述端面密封結構包括：

-靜環與動環，所述靜環與所述動環分別套設在所述靜筒與所述動筒的端部上；

-兩個耐磨環，兩個所述耐磨環結構相同、相對設置且夾持于所述靜環與所述動環之間。

進一步的，所述靜筒與所述動筒的端部上均周向均勻設有多個抵持相應的所述靜環與所述動環的筋板。

進一步的，所述耐磨環的兩端分別為第一環部和第二環部，且所述第一環部與所述第二環部構成階梯軸套結構；所述靜環及所述動環的兩端分別為第一支撐環和第二支撐環，且所述第一支撐環與所述第二支撐環構成階梯軸套結構，所述第一支撐環與所述第二支撐環之間的臺階支撐所述第一環部和所述第二環部中直徑較大的一個。

進一步的，所述第一環部和所述第二環部中直徑較大的一個的直徑小于所述第一支撐環和所述第二支撐環中直徑較大的一個的直徑，且所述第一環部與所述第二環部之間的臺階上設有抵壓所述耐磨環的法蘭，所述法蘭通過螺栓鎖緊在所述第一支撐環和所述第二支撐環中直徑較大的一個上。

進一步的，所述靜環上連接有遮蓋所述靜環、兩個所述耐磨環及所述動環的防護板。

進一步的，其中一個所述靜筒為進料筒、另一個所述靜筒為出料筒。

進一步的，所述滾動組件包括與所述靜筒連接的支架、與所述支架連接的支座、與所述支座底部連接的多個滑輪，所述支撐平臺上設有與各所述滑輪配合的滑軌。

進一步的，所述底架上設有支撐各所述動筒的托輪，各所述動筒上均套設有與所述托輪接觸的輪帶。

進一步的，所述動筒上套設有滾圈，所述底架上設有與所述滾圈傳動連接的電機。