[發明專利]一種真空回轉煅燒窯

在審

• 申請號: 201710985742.8
• 申請日: 2017-10-20
• 公開（公告）號: CN107606938A
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發明（設計）人: 邵建兵;王俐健;馬大鈞;凌金華;劉文杰
• 申請（專利權）人: 蘇州中材非金屬礦工業設計研究院有限公司
• 主分類號: F27B7/06
• 分類號: F27B7/06;F27B7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司11332
• 代理人: 胡彬

1.一種真空回轉煅燒窯，設置于底架上，其特征在于，包括柱形臥式真空窯體，所述真空窯體的兩端轉動連接有與其連通的動筒，所述動筒套接有靜筒，所述靜筒與所述動筒的套接處設有端面密封結構，所述底架的支撐平臺上設有支撐所述靜筒的滾動組件，其中，所述端面密封結構包括：

-靜環與動環，所述靜環與所述動環分別套設在所述靜筒與所述動筒的端部上；

-兩個耐磨環，兩個所述耐磨環結構相同、相對設置且夾持于所述靜環與所述動環之間。

2.根據權利要求1所述的真空回轉煅燒窯，其特征在于，所述靜筒與所述動筒的端部上均周向均勻設有多個抵持相應的所述靜環與所述動環的筋板。

3.根據權利要求1所述的真空回轉煅燒窯，其特征在于，所述耐磨環的兩端分別為第一環部和第二環部，且所述第一環部與所述第二環部構成階梯軸套結構；所述靜環及所述動環的兩端分別為第一支撐環和第二支撐環，且所述第一支撐環與所述第二支撐環構成階梯軸套結構，所述第一支撐環與所述第二支撐環之間的臺階支撐所述第一環部和所述第二環部中直徑較大的一個。

4.根據權利要求3所述的真空回轉煅燒窯，其特征在于，所述第一環部和所述第二環部中直徑較大的一個的直徑小于所述第一支撐環和所述第二支撐環中直徑較大的一個的直徑，且所述第一環部與所述第二環部之間的臺階上設有抵壓所述耐磨環的法蘭，所述法蘭通過螺栓鎖緊在所述第一支撐環和所述第二支撐環中直徑較大的一個上。

5.根據權利要求1所述的真空回轉煅燒窯，其特征在于，所述靜環上連接有遮蓋所述靜環、兩個所述耐磨環及所述動環的防護板。

6.根據權利要求1所述的真空回轉煅燒窯，其特征在于，其中一個所述靜筒為進料筒、另一個所述靜筒為出料筒。

7.根據權利要求1所述的真空回轉煅燒窯，其特征在于，所述滾動組件包括與所述靜筒連接的支架、與所述支架連接的支座、與所述支座底部連接的多個滑輪，所述支撐平臺上設有與各所述滑輪配合的滑軌。

8.根據權利要求1所述的真空回轉煅燒窯，其特征在于，所述底架上設有支撐各所述動筒的托輪，各所述動筒上均套設有與所述托輪接觸的輪帶。

9.根據權利要求1所述的真空回轉煅燒窯，其特征在于，所述動筒上套設有滾圈，所述底架上設有與所述滾圈傳動連接的電機。