[發(fā)明專利]一種防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃及加工工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710980314.6 | 申請日： | 2017-10-19 |
| 公開（公告）號： | CN109678360A | 公開（公告）日： | 2019-04-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張忠義;詹達(dá)勇;馬金成 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/42 | 分類號： | C03C17/42 |
| 代理公司： | 北京和信華成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 胡劍輝 |
| 地址： | 518118 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 減反射 玻璃基材 鍍膜玻璃 耐摩擦 鍍制 眩光 氮化碳層 顯示內(nèi)容 環(huán)境光 耐刮傷 噴涂 | ||
1.一種防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃，其特征在于，包括有玻璃基材(1)，所述玻璃基材(1)上噴涂有AG膜層，所述AG膜層上鍍制有AR膜層，所述AR膜層上鍍制有氮化碳層(7)。
2.如權(quán)利要求1所述的防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃，其特征在于，所述AG膜層包括有硅樹脂層(2)。
3.如權(quán)利要求2所述的防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃，其特征在于，所述AR膜層包括有第一三氧化二鈥層(3)、第一二氧化硅層(4)、第二三氧化二鈥層(5)和第二二氧化硅層(6)，所述第一三氧化二鈥層(3)、第一二氧化硅層(4)、第二三氧化二鈥層(5)和第二二氧化硅層(6)采用真空磁控濺射方式依次鍍制于硅樹脂層(2)上。
4.如權(quán)利要求3所述的防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃，其特征在于，所述氮化碳層(7)采用真空磁控直流濺射方式鍍制于第二二氧化硅層(6)上。
5.如權(quán)利要求2所述的防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃，其特征在于，硅樹脂層(2)的厚度為400nm～550nm。
6.如權(quán)利要求3所述的防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一三氧化二鈥層(3)的厚度為9nm～12nm，所述第一二氧化硅層(4)的厚度為32nm～36nm，所述第二三氧化二鈥層(5)的厚度為108nm～114nm，所述第二二氧化硅層(6)的厚度為58nm～62nm。
7.如權(quán)利要求4所述的防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃，其特征在于，所述氮化碳層(7)的厚度為8nm～12nm。
8.一種防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃加工工藝，其特征在于，該工藝包括：
步驟S1，準(zhǔn)備玻璃基材(1)；
步驟S2，在所述玻璃基材(1)上噴涂AG膜層；
步驟S3，在所述AG膜層上鍍制AR膜層；
步驟S4，在所述AR膜層上鍍制氮化碳層(7)。
9.如權(quán)利要求8所述的防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃加工工藝，其特征在于，所述AG膜層包括有硅樹脂層(2)，所述AR膜層包括有第一三氧化二鈥層(3)、第一二氧化硅層(4)、第二三氧化二鈥層(5)和第二二氧化硅層(6)。
10.如權(quán)利要求9所述的防眩光高透率減反射耐摩擦鍍膜玻璃加工工藝，其特征在于，所述步驟S3中，采用真空磁控濺射方式將第一三氧化二鈥層(3)、第一二氧化硅層(4)、第二三氧化二鈥層(5)和第二二氧化硅層(6)依次鍍制于硅樹脂層(2)上。
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