[發(fā)明專利]控制系統(tǒng)及其控制方法、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710978771.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108021090A | 公開(公告)日: | 2018-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 椹木洋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 歐姆龍株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G05B19/05 | 分類號(hào): | G05B19/05 |
| 代理公司: | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 崔炳哲;向勇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 控制系統(tǒng) 及其 控制 方法 計(jì)算機(jī) 可讀 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
本發(fā)明提供控制系統(tǒng)及其控制方法、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),根據(jù)本發(fā)明能夠減輕對(duì)待測量形狀的對(duì)象物的限制。本発明的PLC系統(tǒng)(SYS)包括:位移傳感器(7)、驅(qū)動(dòng)裝置(30、40)以及PLC(1)。PLC系統(tǒng)(SYS)判斷為在某個(gè)獲取位置不可測量時(shí)(S2的“是”),返回到該不可測量的獲取位置(S8),再次執(zhí)行測量(S12)。在再次執(zhí)行的測量過程中檢測到不可測量時(shí)(S16的“是”),將載臺(tái)移動(dòng)到下一個(gè)獲取位置(S19),再次執(zhí)行測量(S22)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及測量對(duì)象物形狀的控制應(yīng)用程序的控制系統(tǒng)及其控制方法、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。
背景技術(shù)
對(duì)許多在生產(chǎn)現(xiàn)場使用的機(jī)器、設(shè)備,利用可編程邏輯控制器(Program mableLogic Controller,以下也稱為PLC)等控制裝置來進(jìn)行控制。已知一種控制系統(tǒng),其使用這種控制裝置來控制測量裝置并測量對(duì)象物的形狀。例如,專利文獻(xiàn)1中公開了一種使用不接觸對(duì)象物的非接觸式傳感器來測量對(duì)象物的形狀的控制系統(tǒng)。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2012-177620號(hào)公報(bào)
然而,在專利文獻(xiàn)1所公開的控制系統(tǒng)中,對(duì)象物的表面粗糙或?qū)ο笪锞哂蟹浅8叩牟课粫r(shí)等,由于傳感器不能正確地獲取測量對(duì)象物形狀所需的信息,因此,有可能不能準(zhǔn)確地測量該對(duì)象物的形狀。如上所述,專利文獻(xiàn)1中公開的控制系統(tǒng)存在待測量形狀的對(duì)象物受限制的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種控制系統(tǒng)及其控制方法、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),能夠減輕對(duì)待測量形狀的對(duì)象物的限制。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種控制系統(tǒng),其中,包括:測量裝置,測量對(duì)象物的一維信息;驅(qū)動(dòng)裝置,使測量裝置與對(duì)象物之間的相對(duì)位置發(fā)生變化;以及控制裝置,對(duì)測量裝置和驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)行控制,以便基于在測量裝置中測量的一維信息,獲取對(duì)象物的二維形狀或三維形狀的信息;所述控制裝置包括:測量數(shù)據(jù)獲取部,執(zhí)行一邊使相對(duì)位置發(fā)生變化,一邊將測量裝置的一維信息和來自驅(qū)動(dòng)裝置的位置信息作為測量數(shù)據(jù)來獲取的獲取處理;以及形狀數(shù)據(jù)生成部,執(zhí)行基于在測量數(shù)據(jù)獲取部獲取的測量數(shù)據(jù)生成二維形狀或三維形狀的形狀數(shù)據(jù)的生成處理;所述測量數(shù)據(jù)獲取部在相對(duì)位置每次變化到與設(shè)定的測量間隔對(duì)應(yīng)的獲取位置時(shí),執(zhí)行獲取處理;獲取處理失敗時(shí),使發(fā)生變化的相對(duì)位置返回到發(fā)生失敗的獲取位置后,在返回的獲取位置再次執(zhí)行獲取處理。
優(yōu)選地,測量數(shù)據(jù)獲取部在獲取處理失敗時(shí),使該測量裝置退避到測量裝置和對(duì)象物不相撞的位置。
優(yōu)選地,測量數(shù)據(jù)獲取部在再次執(zhí)行的獲取處理失敗時(shí),使相對(duì)位置變化到下一個(gè)獲取位置后,在下一個(gè)獲取位置執(zhí)行獲取處理。
優(yōu)選地,與獲取處理失敗的獲取位置對(duì)應(yīng)的一維信息與作為測量數(shù)據(jù)獲取的一維信息不同。
優(yōu)選地,控制裝置對(duì)獲取處理失敗的次數(shù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì),統(tǒng)計(jì)的次數(shù)達(dá)到預(yù)先確定的次數(shù)時(shí)執(zhí)行錯(cuò)誤處理。
優(yōu)選地,還包括:特征量運(yùn)算部,其基于由形狀數(shù)據(jù)生成部生成的形狀數(shù)據(jù),運(yùn)算對(duì)象物的特征量。
優(yōu)選地,起到主裝置作用的控制裝置和起到從裝置作用的測量裝置及驅(qū)動(dòng)裝置通過網(wǎng)絡(luò)相連接。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供了一種控制裝置的控制方法,該控制裝置對(duì)驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)行控制,使得驅(qū)動(dòng)裝置使測量對(duì)象物的一維信息的測量裝置與對(duì)象物之間的相對(duì)位置發(fā)生變化,并且對(duì)測量裝置和驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)行控制,以便基于在測量裝置中測量的一維信息,獲取對(duì)象物的二維形狀或三維形狀的信息;所述控制方法包括:執(zhí)行一邊使相對(duì)位置發(fā)生變化,一邊將測量裝置的一維信息和來自驅(qū)動(dòng)裝置的位置信息作為測量數(shù)據(jù)來獲取的獲取處理步驟;以及執(zhí)行基于測量數(shù)據(jù)生成二維形狀或三維形狀的形狀數(shù)據(jù)的生成處理步驟;執(zhí)行獲取處理步驟在相對(duì)位置每次變化到與設(shè)定的測量間隔對(duì)應(yīng)的獲取位置時(shí)執(zhí)行;在執(zhí)行獲取處理步驟中,獲取處理失敗時(shí),使發(fā)生變化的相對(duì)位置返回到發(fā)生失敗的獲取位置后,在返回的獲取位置再次執(zhí)行獲取處理。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于歐姆龍株式會(huì)社,未經(jīng)歐姆龍株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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