[發(fā)明專利]一種復合薄膜在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710964104.8 | 申請日: | 2017-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN107601513A | 公開(公告)日: | 2018-01-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 許美鳳 | 申請(專利權)人: | 安徽省華騰農(nóng)業(yè)科技有限公司 |
| 主分類號: | C01B33/145 | 分類號: | C01B33/145;C09D1/00 |
| 代理公司: | 合肥市浩智運專利代理事務所(普通合伙)34124 | 代理人: | 王志興 |
| 地址: | 246000 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 復合 薄膜 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種復合薄膜。
背景技術
根據(jù)國際純粹與應用化學聯(lián)合會(IUPAC)的規(guī)定,介孔材料是指孔徑介于2-50nm的一類多孔材料。介孔材料具有極高的比表面積、規(guī)則有序的孔道結構、狹窄的孔徑分布、孔徑大小連續(xù)可調(diào)等特點,使得它在很多微孔沸石分子篩難以完成的大分子的吸附、分離,尤其是催化反應中發(fā)揮作用。而且,這種材料的有序孔道可作為“微型反應器”,在其中組裝具有納米尺度的均勻穩(wěn)定的“客體”材料后而成為“主客體材料”,由于其主、客體間的主客體效應以及客體材料可能具有的小尺寸效應、量子尺寸效應等將使之有望在電極材料、光電器件、微電子技術、化學傳感器、非線性光學材料等領域得到廣泛的應用。因此介孔材料從它誕生一開始就吸引了國際上物理、化學、生物、材料及信息等多學科研究領域的廣泛興趣,目前已成為國際上跨多學科的熱點前沿領域之一。
有序介孔薄膜的成功合成于1997年由Brinker等閣率先報道。利用酸性的醇溶液為反應介質(zhì)和揮發(fā)誘導自組裝(EISA)工藝可以合成高質(zhì)量的氧化硅介孔薄膜,這為介孔材料在膜分離與催化、微電子、傳感器和光電功能器件等領域的應用開辟了廣闊的前景。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明專利的目的在于提供一種具有優(yōu)異導電性能的復合介孔薄膜。本發(fā)明采用如下技術方案:
一種復合薄膜,其特征在于,該復合薄膜包括納米二氧化硅顆粒和前驅體溶膠;
將納米二氧化硅顆粒加入至前驅體溶膠中,利用超聲波分散溶膠30-60分鐘,使得納米二氧化硅顆粒充分均勻的分散在溶膠中,得到復合溶膠液,其中改性納米二氧化硅顆粒在溶膠中的質(zhì)量分數(shù)為1-3%;
利用旋涂法成膜,將所制備得到的復合溶膠液旋涂在單晶硅基底上成膜,轉速為1000-3000轉/分鐘,旋涂時間為20-60秒,成膜后,將樣品置于常溫下靜置20-50h;然后將其放在高溫爐中,以2-5℃/分鐘的升溫速率升溫至300℃-450℃,保溫4-6小時,自然冷卻至室溫,既得到復合薄膜。
2、如權利要求1所述的一種復合薄膜,其特征在于,所制備的復合薄膜的厚度為1-5μm,優(yōu)選3μm;
3、如權利要求1所述的一種復合薄膜,其特征在于,所采用的納米二氧化硅顆粒的粒徑為10-30nm。
4、如權利要求1所述的一種復合薄膜,其特征在于,所采用的納米二氧化硅顆粒為改性納米二氧化硅顆粒。
5、如權利要求1所述的一種復合薄膜,其特征在于,利用旋涂法成膜,將所制備得到的復合溶膠液旋涂在單晶硅基底上成膜,轉速為2000轉/分鐘,旋涂時間為45秒,成膜后,將樣品置于常溫下靜置36h;然后將其放在高溫爐中,以3℃/分鐘的升溫速率升溫至300℃-450℃,保溫5小時,自然冷卻至室溫,既得到復合薄膜。。
有益效果:
成膜工藝簡單,先制成液體形態(tài),采用旋涂法成膜;
制備工藝簡單,原理安全可靠,制成的材料性能好,制備環(huán)境友好,應用范圍廣。
具體實施方式
下面結合具體實施例,進一步闡述本發(fā)明。
實施例一
一種復合薄膜,其特征在于,該復合薄膜包括納米二氧化硅顆粒和前驅體溶膠;
將納米二氧化硅顆粒加入至前驅體溶膠中,利用超聲波分散溶膠30-60分鐘,使得納米二氧化硅顆粒充分均勻的分散在溶膠中,得到復合溶膠液,其中改性納米二氧化硅顆粒在溶膠中的質(zhì)量分數(shù)為1-3%;
利用旋涂法成膜,將所制備得到的復合溶膠液旋涂在單晶硅基底上成膜,轉速為1000-3000轉/分鐘,旋涂時間為20-60秒,成膜后,將樣品置于常溫下靜置20-50h;然后將其放在高溫爐中,以2-5℃/分鐘的升溫速率升溫至300℃-450℃,保溫4-6小時,自然冷卻至室溫,既得到復合薄膜。
該復合薄膜的厚度為1-5μm,優(yōu)選3μm;
所采用的納米二氧化硅顆粒的粒徑為10-30nm。
所采用的納米二氧化硅顆粒為改性納米二氧化硅顆粒。
利用旋涂法成膜,將所制備得到的復合溶膠液旋涂在單晶硅基底上成膜,轉速為2000轉/分鐘,旋涂時間為45秒,成膜后,將樣品置于常溫下靜置36h;然后將其放在高溫爐中,以3℃/分鐘的升溫速率升溫至300℃-450℃,保溫5小時,自然冷卻至室溫,既得到復合薄膜。
實施例二
一種復合薄膜,其特征在于,該復合薄膜包括納米二氧化硅顆粒和前驅體溶膠;
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