[發(fā)明專(zhuān)利]掩模盒在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710946783.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108149189A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梁落云 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 成進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/04 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 郭放;許偉群 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 形成部 插槽 上部框架 下部框架 掩模盒 掩模 上下方向延伸 材料形成 側(cè)面框架 裝載 支撐 | ||
1.一種掩模盒,其特征在于,包括:
插槽形成部,掩模裝載于上述插槽形成部;
上部框架,蓋住上述插槽形成部的上部;
下部框架,設(shè)置于上述插槽形成部的下部;
側(cè)面框架,向上下方向延伸并連接于上述上部框架與上述下部框架之間,并支撐上述插槽形成部;以及
襯墊,與上述插槽形成部的上部面相結(jié)合,并與上述掩模相接觸,由強(qiáng)度高于上述插槽形成部的材料形成,
上述插槽形成部包括:
本體部,配置于上述掩模的兩側(cè)下部;
延伸部,從上述本體部的兩側(cè)端部朝向內(nèi)側(cè)向水平方向延伸;以及
擋止部,在上述插槽形成部的兩側(cè)端部朝向上側(cè)突出,用于防止上述掩模的移動(dòng),
上述襯墊包括:
前方襯墊及后方襯墊,分別設(shè)置于上述插槽形成部的前方和后方;以及
中間襯墊,設(shè)置于上述插槽形成部的中間,
在上述襯墊的底面部設(shè)置有用于與上述插槽形成部相結(jié)合的連接部件,上述連接部件壓入于上述襯墊的底面部而與上述襯墊相結(jié)合,從而上述襯墊的上部面維持平面狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模盒,其特征在于,上述襯墊由不銹鋼材料形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模盒,其特征在于,在上述襯墊形成有類(lèi)金剛石碳涂敷層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模盒,其特征在于,上述襯墊的至少一部分呈與上述掩模的邊緣部分的形狀相對(duì)應(yīng)的形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模盒,其特征在于,在上述下部框架設(shè)置有朝向下方延伸的支撐部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩模盒,其特征在于,在上述上部框架,用于放置上述支撐部的放置槽朝向下部凹陷形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模盒,其特征在于,
在上述上部框架,從上述放置槽向上述上部框架的邊緣部延伸的排水水路朝向下部凹陷形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模盒,其特征在于,設(shè)置有多個(gè)上述放置槽,在上述放置槽中的至少一部分的中心形成有朝向上部突出的放置突起。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩模盒,其特征在于,設(shè)置有多個(gè)上述支撐部,在上述支撐部的至少一部分的中心以使上述放置突起插入的方式朝向上部凹陷地形成有槽部。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模盒,其特征在于,上述襯墊結(jié)合于上述本體部和延伸部的外側(cè)上端。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模盒,其特征在于,上述襯墊呈“L”字形或“I”字形。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模盒,其特征在于,在上述本體部,在與上述側(cè)面框架相向的面設(shè)置有朝向上述側(cè)面框架側(cè)突出的多個(gè)結(jié)合部。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的掩模盒,其特征在于,上述結(jié)合部通過(guò)額外的結(jié)合部件與上述側(cè)面框架相連接。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的掩模盒,其特征在于,在上述側(cè)面框架,朝向內(nèi)側(cè)凹陷地形成的連接部沿著上下方向隔開(kāi)地配置,以便固定上述結(jié)合部件。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模盒,其特征在于,上述本體部配置為與掩模組件的插入方向平行,以便當(dāng)上述掩模組件插入時(shí)連續(xù)地支撐上述掩模組件的兩側(cè)下端。
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C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





