[發明專利]一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品及制備工藝有效
| 申請號: | 201710946492.7 | 申請日: | 2017-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN107793028B | 公開(公告)日: | 2020-03-31 |
| 發明(設計)人: | 許慶水 | 申請(專利權)人: | 福建省德化云水窯陶瓷有限公司 |
| 主分類號: | C03C8/14 | 分類號: | C03C8/14;C04B33/34;C04B41/86 |
| 代理公司: | 廈門智慧呈睿知識產權代理事務所(普通合伙) 35222 | 代理人: | 郭福利 |
| 地址: | 362500 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一次 燒成 局部 浮雕 陶瓷制品 制備 工藝 | ||
1.一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品的制備工藝,包括陶瓷坯體,其特征在于,陶瓷坯體上設有凸出于陶瓷坯體的釉浮雕層,所述釉浮雕層組成按照重量份計如下:陶瓷坯體30-35份、長石25-30份、石英10-15份、高嶺土10-15份、蛙目土5-10份、鋰輝石5-10份、二氧化鈦0.5-1份、氧化鋯0.5-1份、色料0-5份;
具體步驟如下:
步驟一,制作陶瓷坯體,將陶瓷坯體素燒成型,制成陶瓷坯體;
步驟二,按照釉料原料配方稱重配比,將陶瓷坯體、長石、石英、高嶺土、蛙目土、鋰輝石粉碎混合加入濕球磨機中均勻球磨;
步驟三,將混合球磨后的混合物中按照原料份數加入二氧化鈦、氧化鋯和色料;
步驟四,在陶瓷坯體上確定浮雕圖案的輪廓,并在所需浮雕圖案的輪廓處放空,而在輪廓以外的全部表面涂上憎水劑;
步驟五,待憎水劑干燥后,在步驟四所制得的陶瓷坯體上施釉,使浮雕圖案的輪廓充分吸收淺浮雕釉漿,并形成一定的厚度;
步驟六,等待陶瓷坯體干燥后入窯經燒制成型,燒制溫度為1310-1320℃,獲得一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品。
2.根據權利要求1所述的一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品的制備工藝,其特征在于:所述釉浮雕層組成按照重量份計如下:陶瓷坯體33份、長石28份、石英12份、高嶺土11份、蛙目土6份、鋰輝石8份、二氧化鈦1份、氧化鋯1份。
3.根據權利要求1所述的一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品的制備工藝,其特征在于:所述釉浮雕層組成按照重量份計如下:陶瓷坯體31份、長石26份、石英13份、高嶺土13份、蛙目土8份、鋰輝石6份、二氧化鈦0.5份、氧化鋯0.5份、色料2份。
4.根據權利要求1所述的一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品的制備工藝,其特征在于:所述釉浮雕層組成按照重量份計如下:陶瓷坯體34份、長石29份、石英11份、高嶺土12份、蛙目土6份、鋰輝石5份、二氧化鈦0.5份、氧化鋯0.5份、色料2份。
5.根據權利要求1所述的一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品的制備 工藝,其特征在于:步驟四中在陶瓷坯體所需浮雕圖案的輪廓表面貼上防水紙,將陶瓷坯體浸入憎水劑,待憎水劑干燥后揭去防水紙,在陶瓷坯體上形成放空的圖案輪廓。
6.根據權利要求1所述的一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品的制備 工藝,其特征在于:步驟五中淺浮雕釉漿的厚度為2-3mm。
7.根據權利要求1或6所述的一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品的制備 工藝,其特征在于:步驟五所述施釉分兩次,第一次施釉采用浸釉工藝、第二次施釉采用高壓噴釉或涂釉。
8.根據權利要求7所述的一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品的制備 工藝,其特征在于:步驟五所述浸釉時釉漿的波美計濃度為60-70°,噴釉或涂釉時釉漿的波美計濃度為40-50°。
9.根據權利要求1所述的一次燒成的局部釉浮雕陶瓷制品的制備 工藝,其特征在于:步驟六中的燒成時間為12-15小時。
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