[發明專利]一種污水處理設備

有效

• 申請號: 201710930029.3
• 申請日: 2017-10-09
• 公開（公告）號: CN107500376B
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發明（設計）人: 余強
• 申請（專利權）人: 劉艷嬌;安徽省宿州市貫華化工有限公司
• 主分類號: C02F1/00
• 分類號: C02F1/00;B08B9/08;B08B9/093;G01N1/20
• 代理公司: 北京華識知識產權代理有限公司 11530
• 代理人: 劉艷玲

本發明公開了一種污水處理設備，包括固定安裝在機體上的污水箱、安裝在地面中的待檢箱以及通管，通管中上端固定設置有第一密閉板，第一密閉板左下端設置有凸出部，凸出部中設置有第一彎溝槽，第一彎溝槽的頂部口部向上并固定安裝有與污水箱底部連接的柔性管，柔性管與第一彎溝槽的頂部相接處以及與所述污水箱底部相接處分別設有密閉圈，第一彎溝槽的末梢口部朝右，通管中還設置有位于凸出部下方的隔阻板，隔阻板將通管內部下端阻隔成過水倉和污水倉，污水倉中可上下平滑地安裝有第二密閉板。

技術領域

本發明涉及污水處理領域，具體地說是一種污水處理設備。

背景技術

在一些污水處理廠內一般都會設有污水處理系統，而對于污水定期抽樣檢測是污水治理中的重要環節，然而現有的污水處理裝置設置模式過于簡單，不能對待檢測的污水進行區分存儲，同時在對污水箱洗刷時易將洗刷水與污水混合，因此，大大降低了污水濃度，給檢測增加難度，同時也直接造成了檢測成本的提高。

發明內容

針對上述技術的不足，本發明提出了一種污水處理設備。

本發明的 一種污水處理設備，包括固定安裝在機體上的污水箱、安裝在地面中的待檢箱以及通管，所述通管中上端固定設置有第一密閉板，所述第一密閉板左下端設置有凸出部，所述凸出部中設置有第一彎溝槽，所述第一彎溝槽的頂部口部向上并固定安裝有與所述污水箱底部連接的柔性管，所述柔性管與所述第一彎溝槽的頂部相接處以及與所述污水箱底部相接處分別設有密閉圈，從而可增加連接處的密閉性，可防止漏水現象的發生，所述第一彎溝槽的末梢口部朝右，所述通管中還設置有位于所述凸出部下方的隔阻板，所述隔阻板將所述通管內部下端阻隔成過水倉和污水倉，所述污水倉中可上下平滑地安裝有第二密閉板，所述第二密閉板中設置有第二彎溝槽，所述第二彎溝槽的末梢口部朝左，所述第二彎溝槽的頂部口部朝下，所述過水倉底部設置有互通凈化設備的凈化管，所述污水倉底部設置有排送管，所述排送管與所述待檢箱互通，所述第二密閉板上端面中設置有磁石，所述第一密閉板鄰近所述磁石端面中設置有鐵石，所述鐵石上固定安裝有電磁線圈，所述污水箱上方設置有清洗裝置以及光照裝置，所述清洗裝置用以沖洗所述污水箱，地面中還設置有觸鈕裝置，所述觸鈕裝置用以控制所述電磁線圈通電。

進一步的技術方案，其中，所述觸鈕裝置包括設置在地面中且口部朝上的滑腔以及平滑安裝在所述滑腔中的滑塊，所述滑腔底壁上固定安裝有第一觸鈕，所述第一觸鈕用以控制所述電磁線圈通電，所述滑塊底面固定設置有觸頭，所述觸頭用以與所述第一觸鈕接觸，所述滑腔底壁上左右對應設置有彈力塊，所述滑塊底壁還固定安裝有與所述滑腔底壁固定連接的第一彈力件，所述第一彈力件用以將所述滑塊向上頂壓而使所述觸頭不與所述第一觸鈕接觸。

進一步的技術方案，其中，所述清洗裝置包括固定安裝在機體中的安放塊以及固定安裝在所述安放塊右端的套管，所述安放塊中設置有第一滑槽，所述套管中設置有第二滑槽，所述第二滑槽中平滑安裝有頂推板，所述頂推板左端固定設置有第一導柱和第二導柱，所述第一滑槽左端壁上安裝有清洗觸鈕，所述清洗觸鈕用以與所述第一導柱配合而實現控制沖水閥門開啟，所述第一導柱和第二導柱左端穿透所述安放塊并探入所述第一滑槽中，所述第一滑槽左端壁上安裝有第二觸鈕，所述第二觸鈕用以與所述第二導柱配合而控制所述電磁線圈中電流反向運行，所述第二滑槽中還安裝有第二彈力件，所述第二彈力件用以將所述頂推板向右頂壓，所述第一導柱和第二導柱上位于所述第一滑槽中設置有卡持環，從而可防止所述頂推板滑出所述第二滑槽。

進一步的技術方案，其中，所述鐵石下端安裝有密閉墊，從而可防止水汽與鐵石接觸。

進一步的技術方案，其中，所述待檢箱左端上端設置有皮管，所述皮管與所述凈化管互通。

進一步的技術方案，所述污水倉中還設置有擋塊，從而在所述第二密閉板底部與所述擋塊相抵時，所述第二密閉板上端面與所述隔阻板上端平齊，由此，所述第二彎溝槽的末梢被所述隔阻板封蓋。