[發(fā)明專利]一種污水處理設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710930029.3
• 申請日: 2017-10-09
• 公開（公告）號: CN107500376B
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發(fā)明（設計）人: 余強
• 申請（專利權）人: 劉艷嬌;安徽省宿州市貫華化工有限公司
• 主分類號: C02F1/00
• 分類號: C02F1/00;B08B9/08;B08B9/093;G01N1/20
• 代理公司: 北京華識知識產(chǎn)權代理有限公司 11530
• 代理人: 劉艷玲

1.一種污水處理設備，包括固定安裝在機體上的污水箱、安裝在地面中的待檢箱以及通管，其特征在于：所述通管中上端固定設置有第一密閉板，所述第一密閉板左下端設置有凸出部，所述凸出部中設置有第一彎溝槽，所述第一彎溝槽的頂部口部向上并固定安裝有與所述污水箱底部連接的柔性管，所述柔性管與所述第一彎溝槽的頂部相接處以及與所述污水箱底部相接處分別設有密閉圈，所述第一彎溝槽的末梢口部朝右，所述通管中還設置有位于所述凸出部下方的隔阻板，所述隔阻板將所述通管內(nèi)部下端阻隔成過水倉和污水倉，所述污水倉中可上下平滑地安裝有第二密閉板，所述第二密閉板中設置有第二彎溝槽，所述第二彎溝槽的末梢口部朝左，所述第二彎溝槽的頂部口部朝下，所述過水倉底部設置有互通凈化設備的凈化管，所述污水倉底部設置有排送管，所述排送管與所述待檢箱互通，所述第二密閉板上端面中設置有磁石，所述第一密閉板鄰近所述磁石端面中設置有鐵石，所述鐵石上固定安裝有電磁線圈，所述污水箱上方設置有清洗裝置以及光照裝置，地面中還設置有觸鈕裝置；所述觸鈕裝置包括設置在地面中且口部朝上的滑腔以及平滑安裝在所述滑腔中的滑塊，所述滑腔底壁上固定安裝有第一觸鈕，所述滑塊底面固定設置有觸頭，所述滑腔底壁上左右對應設置有彈力塊，所述滑塊底壁還固定安裝有與所述滑腔底壁固定連接的第一彈力件；所述清洗裝置包括固定安裝在機體中的安放塊以及固定安裝在所述安放塊右端的套管，所述安放塊中設置有第一滑槽，所述套管中設置有第二滑槽，所述第二滑槽中平滑安裝有頂推板，所述頂推板左端固定設置有第一導柱和第二導柱，所述第一滑槽左端壁上安裝有清洗觸鈕，所述第一導柱和第二導柱左端穿透所述安放塊并探入所述第一滑槽中，所述第一滑槽左端壁上安裝有第二觸鈕，所述第二滑槽中還安裝有第二彈力件，所述第一導柱和第二導柱上位于所述第一滑槽中設置有卡持環(huán)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種污水處理設備，其特征在于：所述鐵石下端安裝有密閉墊。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種污水處理設備，其特征在于：所述待檢箱左端上端設置有皮管，所述皮管與所述凈化管互通。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種污水處理設備，其特征在于：所述污水倉中還設置有擋塊。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種污水處理設備，其特征在于：所述光照裝置包括燈架以及燈珠，所述燈架固定設置于左側所述機體頂部且位于所述清洗裝置上方，所述燈珠固定設置于所述燈架右側伸展段底部，所述燈珠與所述燈架底部之間固定設置有罩蓋。