[發明專利]一種高壓氨鈍化提高氧化鈦光催化效率的方法在審
| 申請號： | 201710928436.0 | 申請日： | 2017-10-09 |
| 公開（公告）號： | CN107723678A | 公開（公告）日： | 2018-02-23 |
| 發明（設計）人： | 馬磊;陸明 | 申請（專利權）人： | 復旦大學 |
| 主分類號： | C23C14/58 | 分類號： | C23C14/58;C23C14/08;C23C14/35;B01J21/06;B01J35/00 |
| 代理公司： | 上海正旦專利代理有限公司31200 | 代理人： | 陸飛,陸尤 |
| 地址： | 200433 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高壓 鈍化 提高 氧化 光催化 效率 方法 | ||
1.一種高壓氨鈍化提高氧化鈦光催化效率的方法，其特征在于，是對光催化材料氧化鈦進行高壓氨鈍化處理，具體步驟為：
（1）選取兩面拋光的石英基片作為襯底，清洗去除襯底表面雜質；
（2）將石英襯底經過磁控濺射氧化鈦鍍膜處理，得到氧化鈦薄膜；
（3）將氧化鈦薄膜進行退火處理：在350-400℃氮氣環境中加熱1-3小時；
（4）將退火之后的氧化鈦置于高壓反應釜中，通入高純氨氣，在密封加熱環境中進行高壓氨鈍化處理；
（5）對氨鈍化之后的氧化鈦進行冷卻處理，形成氨鈍化處理的氧化鈦薄膜。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟（2）中所述將石英襯底經過磁控濺射氧化鈦鍍膜處理，是將石英襯底放置于磁控濺射儀中，保持壓強為0.6-0.8Pa，氧氣與氬氣的體積比例為1:（30-50），濺射功率為250-300W，濺射時間為2-3小時，得到氧化鈦薄膜的厚度為100-200nm。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟（3）中，所述將氧化鈦薄膜進行退火處理，是將磁控濺射得到的氧化鈦薄膜放置于高溫退火爐中，通入高純氮氣，控制氮氣流量為100-200ml/min。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟（4）中，所述在密封加熱環境中進行高壓氨鈍化處理，是將退火之后的氧化鈦薄膜放置于高壓反應釜中，通入0.4-0.8MPa的高純氨氣，形成封閉的氨氣環境，加熱溫度為300-400℃，加熱時間為20-28小時。
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