[發(fā)明專(zhuān)利]蒸鍍?cè)O(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710922695.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-09-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107587111B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃俊淞;蘇志瑋;付瀟 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/24 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤(rùn)湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 設(shè)備 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種蒸鍍?cè)O(shè)備,以降低蒸鍍生產(chǎn)成本,提高蒸鍍品質(zhì)和蒸鍍生產(chǎn)效率。蒸鍍?cè)O(shè)備包括:在水平面內(nèi)拼接的多個(gè)蒸鍍腔單元;每個(gè)蒸鍍腔單元所連接的承載架,位于蒸鍍腔單元的下方;每個(gè)承載架所連接的第一支撐桿,沿第一水平方向設(shè)置;第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),與各個(gè)第一支撐桿的同一側(cè)端部連接,并能夠驅(qū)動(dòng)第一支撐桿沿第一水平方向、第二水平方向及高度方向移動(dòng),其中,第二水平方向與所述第一水平方向正交。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種蒸鍍?cè)O(shè)備。
背景技術(shù)
蒸鍍工藝,是指在一定的真空條件下加熱蒸鍍材料,使蒸鍍材料熔化(或升華)成原子、分子或原子團(tuán)組成的蒸氣,然后凝結(jié)在基板表面成膜的過(guò)程。蒸鍍工藝由于其技術(shù)穩(wěn)定,已被廣泛應(yīng)用于有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二級(jí)管,以下簡(jiǎn)稱(chēng)OLED)、太陽(yáng)能電池及半導(dǎo)體芯片等的制備中。
以O(shè)LED蒸鍍工藝為例,隨著目前市場(chǎng)對(duì)OLED產(chǎn)品的尺寸需求朝著更大的方向前進(jìn),OLED蒸鍍?cè)O(shè)備的大型化必將成為未來(lái)發(fā)展的一大趨勢(shì)。在OLED蒸鍍?cè)O(shè)備大型化的發(fā)展趨勢(shì)下,如何降低設(shè)備及原材料成本,提高蒸鍍品質(zhì)和蒸鍍生產(chǎn)效率,是目前亟待解決的技術(shù)問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例的目的是提供一種蒸鍍?cè)O(shè)備,以降低蒸鍍生產(chǎn)成本,提高蒸鍍品質(zhì)和蒸鍍生產(chǎn)效率。
本發(fā)明實(shí)施例所提供的蒸鍍?cè)O(shè)備,包括:
在水平面內(nèi)拼接的多個(gè)蒸鍍腔單元;
每個(gè)所述蒸鍍腔單元所連接的承載架,位于所述蒸鍍腔單元的下方;
每個(gè)所述承載架所連接的第一支撐桿,沿第一水平方向設(shè)置;
第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),與各個(gè)所述第一支撐桿的同一側(cè)端部連接,并能夠驅(qū)動(dòng)所述第一支撐桿沿第一水平方向、第二水平方向及高度方向移動(dòng),所述第二水平方向與所述第一水平方向正交。
在本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案中,多個(gè)蒸鍍腔單元在水平面內(nèi)能夠拼接成一個(gè)較大尺寸規(guī)格的蒸鍍?cè)矗捎诘谝或?qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠驅(qū)動(dòng)第一支撐桿沿第一水平方向、第二水平方向及高度方向移動(dòng),因此,可以根據(jù)需要將一定數(shù)量的蒸鍍腔單元拼接成所需的尺寸規(guī)格,而蒸鍍腔單元仍可以采用常規(guī)較為成熟的規(guī)格設(shè)計(jì)。采用該技術(shù)方案,可以根據(jù)所需蒸鍍?cè)吹囊?guī)格靈活的進(jìn)行拼裝,操作、維護(hù)簡(jiǎn)便,適用范圍廣,從而降低了蒸鍍生產(chǎn)成本,提高了蒸鍍生產(chǎn)效率;由于蒸鍍腔單元可以采用目前較為成熟的規(guī)格設(shè)計(jì),因此,在基板上蒸鍍形成的膜層的厚度均勻性較好,蒸鍍品質(zhì)較高;由于蒸鍍腔單元各自獨(dú)立,因此,不同蒸鍍腔單元可以同時(shí)蒸鍍不同材料,從而提高了蒸鍍效率;由于蒸鍍腔單元各自獨(dú)立,不同蒸鍍腔單元的蒸鍍材料不會(huì)混合污染,因此蒸鍍材料還可以回收利用,從而進(jìn)一步節(jié)約了成本。
優(yōu)選的,所述多個(gè)蒸鍍腔單元在水平面內(nèi)呈矩陣狀拼接;所述第一方向?yàn)樗龆鄠€(gè)蒸鍍腔單元的行排列方向,所述第二方向?yàn)樗龆鄠€(gè)蒸鍍腔單元的列排列方向。
較佳的,沿所述第一水平方向,相鄰兩個(gè)所述蒸鍍腔單元的相面對(duì)的兩個(gè)拼接端,其中一個(gè)拼接端設(shè)置有多個(gè)銷(xiāo)柱,另一個(gè)拼接端對(duì)應(yīng)每個(gè)所述銷(xiāo)柱設(shè)置有銷(xiāo)孔;沿所述第二水平方向,相鄰兩個(gè)所述蒸鍍腔單元的相面對(duì)的兩個(gè)拼接端,其中一個(gè)拼接端設(shè)置有多個(gè)銷(xiāo)柱,另一個(gè)拼接端對(duì)應(yīng)每個(gè)所述銷(xiāo)柱設(shè)置有銷(xiāo)孔。
優(yōu)選的,所述第一支撐桿為伸縮桿。這樣可以使多個(gè)蒸鍍腔單元在非工作狀態(tài)呈緊湊排列,從而減小占用空間。
較佳的,所述多個(gè)蒸鍍腔單元的高度尺寸相同。
較佳的,沿遠(yuǎn)離所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的方向,所述承載架的高度尺寸依次增大,且所述承載架所對(duì)應(yīng)連接的所述第一支撐桿的高度位置依次降低。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





