[發明專利]一種高熱導液相燒結碳化硅陶瓷及其制備方法有效
| 申請號: | 201710917024.7 | 申請日: | 2017-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN109592983B | 公開(公告)日: | 2021-07-13 |
| 發明(設計)人: | 姚秀敏;張輝;楊曉;劉學建;黃政仁 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號: | C04B35/565 | 分類號: | C04B35/565;C04B35/645 |
| 代理公司: | 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;鄭優麗 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高熱 導液相 燒結 碳化硅 陶瓷 及其 制備 方法 | ||
本發明涉及一種高熱導液相燒結碳化硅陶瓷及其制備方法,包括:將SiC粉體、稀土氧化物和溶劑混合,制備得到漿料,所述稀土氧化物為CeO2、Y2O3、Er2O3中的至少兩種;將所得漿料經干燥、過篩、成型后得到坯體;將所得坯體經過熱壓燒結,得到所述高熱導液相燒結碳化硅陶瓷。
技術領域
本發明涉及一種高熱導液相燒結碳化硅(SiC)陶瓷及其制備方法,屬于高熱導陶瓷領域。
背景技術
高導熱、電絕緣陶瓷在大規模集成電路、計算機技術、高溫工業等領域具有廣闊的應用前景,被大量研究并應用于電子、航空航天等領域。目前,廣泛使用具有良好的電氣絕緣和機械強度的氧化鋁瓷(Al2O3)和氧化鈹瓷(BeO)。Al2O3的熱導率偏低(10~30W/m·K),不適宜在高密度、大功率的器件中應用;BeO是最具代表性的高導熱陶瓷,其化學穩定性、電絕緣性以及耐熱性都極好,但是BeO具有很強的毒性,現在工業生產中已逐漸停止使用。隨著半導體制品向高性能、小型輕量化、高可靠性方向發展,迫切需要同時具備良好電氣絕緣(電阻率109Ω·cm)和熱傳導,且熱膨脹系數同硅半導體相近的新材料。
碳化硅(SiC)陶瓷具有高強度、高硬度、高導熱、耐高溫、耐腐蝕、耐磨損、性能穩定、不易老化等優良的性能,現已被廣泛應用于各工業領域。根據Slack的估計,純SiC單晶的室溫本征熱導率為490W/(m·K)。但SiC陶瓷是一種強共價健的化合物,為實現其致密化燒結必須添加燒結助劑,然而,由于自由的晶粒取向、晶粒內晶格缺陷、氣孔和晶界上的第二相,多晶碳化硅陶瓷的熱導率遠遠低于單晶SiC。如使用Al2O3-Y2O3作為燒結助劑的碳化硅陶瓷的熱導率通常低于85W/(m·K)。因此,針對高熱導SiC,學者們開展了大量的研究。Nakano等通過添加1wt%BeO熱壓燒結制備出熱導率為270W/(m·K)的液相燒結SiC陶瓷(LPS-SiC),這是目前有文獻報道的具有最高熱導率SiC陶瓷。Kinoshita等通過添加0.15wt%Al2O3熱壓燒結制備LPS-SiC陶瓷,其熱導率可達235W/(m·K)。Kim等熱壓燒結SiC與1vol%Y2O3-Sc2O3,制備出室溫熱導率為234W/(m·K)的LPS-SiC陶瓷。SiC是一種典型的半導體材料,若用于半導體基板材料要求其有一定的電絕緣性能,過于低的燒結助劑導致其低的電阻率,通常低于106Ω·cm。
發明內容
針對上述問題,本發明的目的在于制備一種具有高熱導率的液相燒結碳化硅SiC陶瓷及其制備方法。
一方面,本發明提供了一種一種高熱導液相燒結碳化硅陶瓷的制備方法,包括:
將SiC粉體、稀土氧化物和溶劑混合,制備得到漿料,所述稀土氧化物為CeO2、Y2O3、Er2O3中的至少兩種;
將所得漿料經干燥、過篩、成型后得到坯體;
將所得坯體經過熱壓燒結,得到所述高熱導液相燒結碳化硅陶瓷。
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