[發明專利]蒸鍍掩膜板、OLED面板及系統及蒸鍍監控方法有效
| 申請號: | 201710910812.3 | 申請日: | 2017-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN109585695B | 公開(公告)日: | 2020-01-24 |
| 發明(設計)人: | 劉明星;李俊峰;王徐亮;高峰 | 申請(專利權)人: | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;H01L23/544;H01L27/32;H01L21/67;C23C14/04 |
| 代理公司: | 31237 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 215300 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蒸鍍 掩膜板 開口 功能區域 監控 監控結構 外圍區域 實時在線監控 功能層 觀察 | ||
1.一種OLED面板,其特征在于,所述OLED面板包括第二功能區域和位于所述第二功能區域外的第二外圍區域,所述第二外圍區域上形成有觀察層,所述觀察層上用于形成監控結構,所述監控結構通過采用一蒸鍍掩膜板而形成,所述蒸鍍掩膜板包括第一功能區域和位于所述第一功能區域外的第一外圍區域,所述第一功能區域具有用于蒸鍍形成功能層的第一開口,所述第一外圍區域具有用于監控所述第一開口的蒸鍍效果的第二開口,所述第一外圍區域具有相對的第一邊沿和第二邊沿,所述第一邊沿較所述第二邊沿靠近所述第一功能區域;相較于第二邊沿,所述第二開口靠近所述第一邊沿,所述蒸鍍掩膜板的第一開口用于在所述OLED面板的第二功能區域上蒸鍍形成功能層,所述蒸鍍掩膜板的第二開口用于在所述OLED面板的觀察層上蒸鍍形成監控結構,所述監控結構用于監控所述第一開口的蒸鍍效果。
2.如權利要求1所述的OLED面板,其特征在于,所述觀察層的材料為反光材料。
3.如權利要求1或2所述的OLED面板,其特征在于,所述觀察層的厚度為100nm~200nm。
4.如權利要求1或2所述的OLED面板,其特征在于,所述第二外圍區域的表面和所述第二功能區域的表面的高度差小于等于200nm。
5.如權利要求1所述的OLED面板,其特征在于,所述第二開口的形狀和所述第一開口的形狀相同。
6.如權利要求1或5所述的OLED面板,其特征在于,所述第二開口的數量為多個,多個所述第二開口均勻的分布于所述第一外圍區域。
7.如權利要求6所述的OLED面板,其特征在于,所述蒸鍍掩膜板包括掩膜片和用于支撐所述掩膜片的支撐條,所述第一開口和所述第二開口均位于所述掩膜片上,所述支撐條上具有第三開口,所述第三開口僅露出部分數量的所述第二開口。
8.一種OLED面板系統,其特征在于,所述OLED面板系統包括:蒸鍍掩膜板及OLED面板,所述蒸鍍掩膜板包括第一功能區域和位于所述第一功能區域外的第一外圍區域,所述第一功能區域具有用于蒸鍍形成功能層的第一開口,所述第一外圍區域具有用于監控所述第一開口的蒸鍍效果的第二開口,所述第一外圍區域具有相對的第一邊沿和第二邊沿,所述第一邊沿較所述第二邊沿靠近所述第一功能區域;相較于第二邊沿,所述第二開口靠近所述第一邊沿;所述OLED面板包括第二功能區域和位于所述第二功能區域外的第二外圍區域,所述第二外圍區域上形成有觀察層,所述觀察層上用于形成監控結構,所述監控結構通過采用所述蒸鍍掩膜板而形成;所述蒸鍍掩膜板位于所述OLED面板的下方,所述蒸鍍掩膜板的第一開口用于在所述OLED面板的第二功能區域上蒸鍍形成功能層,所述蒸鍍掩膜板的第二開口用于在所述OLED面板的觀察層上蒸鍍形成監控結構,所述監控結構用于監控所述第一開口的蒸鍍效果。
9.一種蒸鍍監控方法,其特征在于,所述蒸鍍監控方法包括:
采用一蒸鍍掩膜板在一OLED面板上形成功能層和監控結構,所述蒸鍍掩膜板包括第一功能區域和位于所述第一功能區域外的第一外圍區域,所述第一功能區域具有用于蒸鍍形成功能層的第一開口,所述第一外圍區域具有用于監控所述第一開口的蒸鍍效果的第二開口,所述第一外圍區域具有相對的第一邊沿和第二邊沿,所述第一邊沿較所述第二邊沿靠近所述第一功能區域;相較于第二邊沿,所述第二開口靠近所述第一邊沿,所述OLED面板包括第二功能區域和位于所述第二功能區域外的第二外圍區域,所述第二外圍區域上形成有觀察層,所述觀察層上用于形成監控結構,所述監控結構通過采用所述蒸鍍掩膜板而形成,所述蒸鍍掩膜板的第一開口用于在所述OLED面板的第二功能區域上蒸鍍形成功能層,所述蒸鍍掩膜板的第二開口用于在所述OLED面板的觀察層上蒸鍍形成監控結構,所述監控結構用于監控所述第一開口的蒸鍍效果;
獲取在所述OLED面板上的所述監控結構的實際中心;及
將所述監控結構的實際中心和所述監控結構的理論中心進行對比,以得到所述蒸鍍掩膜板的第一開口的蒸鍍效果。
10.如權利要求9所述的蒸鍍監控方法,其特征在于,當所述監控結構的實際中心和所述監控結構的理論中心位置相同時,通過所述第一開口的蒸鍍沒有發生偏位;當所述監控結構的實際中心和所述監控結構的理論中心位置不同時,通過所述第一開口的蒸鍍發生了偏位。
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H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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