[發明專利]掩膜裝置、蒸鍍設備以及掩膜裝置制備方法

有效

• 申請號: 201710908524.4
• 申請日: 2017-09-29
• 公開（公告）號: CN107435131B
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發明（設計）人: 徐健;劉耀陽
• 申請（專利權）人: 上海天馬微電子有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444
• 代理人: 王剛;龔敏

本發明實施例提供一種掩膜裝置、蒸鍍設備以及掩膜裝置制備方法，涉及蒸鍍技術領域，用于改善掩膜版與待蒸鍍基板之間的貼合不良，提高蒸鍍效果。所述掩膜裝置包括鐵磁性材料的掩膜版，所述掩膜版包括：至少一個蒸鍍區域以及至少一個非蒸鍍區域；所述蒸鍍區域設置有沉積通孔；所述非蒸鍍區域包括與所述蒸鍍區域相鄰的過渡區域，所述過渡區域設置有過渡孔，所述過渡孔的體積小于所述沉積通孔的體積，且從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述過渡孔的體積逐漸減小。上述掩膜裝置適用于蒸鍍設備中。

技術領域

本發明涉及蒸鍍技術領域，尤其涉及一種掩膜裝置、蒸鍍設備以及掩膜裝置制備方法。

背景技術

人的感覺器官中接受信息最多的是視覺器官(眼睛)，在生產和生活中，人們需要越來越多地利用豐富的視覺信息，因而顯示技術在當今人類社會中扮演著非常重要的角色。顯示技術自出現至今，技術發展也非常迅猛，隨著社會的發展和人類對物質生活需求的不斷提高，當今顯示技術正在朝著高對比度、高分辨力、全彩色顯示、低功耗、可靠性高、長壽命以及薄而輕的方向快速邁進。

其中，有機發光二極管(OLED)顯示由于具有自發光、響應速度快、視角寬、高清晰、高亮度、抗彎曲能力強、低功耗等優點，逐漸成為LCD顯示面板強有力的競爭對手，被譽為下一代夢幻顯示技術。

真空蒸鍍技術作為目前OLED面板制備的一種主要工藝制程，如何改善掩膜版與待蒸鍍基板之間的貼合不良，提高蒸鍍效果，是業內當前面臨的主要技術難題。

發明內容

本發明實施例提供一種掩膜裝置、蒸鍍設備以及掩膜裝置制備方法，用于改善掩膜版與待蒸鍍基板之間的貼合不良，提高蒸鍍效果。

第一方面，本發明提供一種掩膜裝置，所述掩膜裝置包括鐵磁性材料的掩膜版，所述掩膜版包括：

至少一個蒸鍍區域以及至少一個非蒸鍍區域；

所述蒸鍍區域設置有沉積通孔；

所述非蒸鍍區域包括與所述蒸鍍區域相鄰的過渡區域，所述過渡區域設置有過渡孔，所述過渡孔的體積小于所述沉積通孔的體積，且從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述過渡孔的體積逐漸減小。

第二方面，本發明提供一種蒸鍍設備，包括上述本發明第一方面所述的掩膜裝置。

第三方面，本發明提供一種蒸鍍方法，所述蒸鍍方法包括：

提供掩膜母版；

所述掩膜母版具有至少一個蒸鍍區域以及至少一個非蒸鍍區域，

在所述蒸鍍區域內形成沉積通孔，

在所述過渡區域內形成過渡孔，以形成掩膜版；其中，所述過渡孔的體積小于所述沉積通孔的體積，從所述蒸鍍區域至所述非蒸鍍區域的方向上，所述過渡孔的體積逐漸減小。

如上所述的方面和任一可能的實現方式的有益效果如下：

本實施例中，過渡孔的體積小于沉積通孔的體積，可以理解的是，在蒸鍍區域與過渡區域的交界處，過渡區域中與該交界處相鄰的過渡孔的體積，小于蒸鍍區域中與該交界處相鄰的沉積通孔的體積，并且，從蒸鍍區域至非蒸鍍區域的方向上，過渡孔的體積逐漸減小，也就是說，盡可能的減小沉積通孔到過渡孔的體積變化，減小由磁作用力產生的排斥力，避免在交界處突變的產生，進而改善待蒸鍍基板與掩膜版之間的貼合問題，提高蒸鍍效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明實施例所提供的蒸鍍原理示意圖；